Способ осаждения пленки фосфоросиликатного стекла
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1651698
Авторы: Вискуп, Кастрицкий, Красницкий, Петрашкевич, Турцевич, Шкуть
Описание
Способ осаждения пленки фосфоросиликатного стекла, включающий загрузку кремниевых подложек со структурами интегральных схем в реактор, нагретый до 350-450°С, вакуумирование реактора, раздельную подачу в реакционную зону реактора смеси моносилана с фосфином и кислорода и наращивание пленки фосфоросиликатного стекла при давлении 26,6-46,6 Па и соотношениях ингредиентов фосфинмоносилан с фосфином 0,03-0,25, кислород-моносилан 0,8-4,0, при температуре нагрева реактора, отличающийся тем, что, с целью повышения качества фосфоросиликатного стекла путем увеличения электрической прочности и снижения дефектности осаждаемых пленок, после наращивания пленки толщиной 0,1-0,3 мкм прекращают подачу смеси моносилана с фосфином, устанавливают давление кислорода до 1,33-20 Па и проводят ее обработку в среде кислорода в течение 5-20 мин при температуре нагрева реактора и затем доращивают пленку до требуемой толщины, восстановив первоначальные условия наращивания.
Заявка
4747214/25, 09.10.1989
Научно-производственное объединение "Интеграл"
Турцевич А. С, Красницкий В. Я, Шкут А. М, Кастрицкий Л. В, Петрашкевич В. Ф, Вискуп А. П
МПК / Метки
МПК: H01L 21/316
Метки: осаждения, пленки, стекла, фосфоросиликатного
Опубликовано: 20.01.2008
Код ссылки
<a href="https://patents.su/1-1651698-sposob-osazhdeniya-plenki-fosforosilikatnogo-stekla.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ осаждения пленки фосфоросиликатного стекла</a>
Предыдущий патент: Способ изготовления структур мдп-интегральных микросхем
Следующий патент: Способ изготовления элементов интегральных схем
Случайный патент: Дозирующее устройство для сыпучих материалов