Способ осаждения пленок поликристаллического кремния
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1568798
Авторы: Красницкий, Лесникова, Турцевич
Описание
Способ осаждения пленок поликристаллического кремния, включающий осаждение при пониженном давлении на кремниевую подложку подслоя кремния толщиной 10-20 нм из газовой фазы, содержащей моносилан, проведение отжига в азоте при температуре выращивания подслоя в течение 10-30 мин и доращивание кремния до заданной толщины при 600-650°C, отличающийся тем, что, с целью улучшения качества пленок поликристаллического кремния путем повышения стабильности кристаллической структуры подслоя кремния, подслой осаждают из газовой фазы, дополнительно содержащей моногерман, при парциальных давлениях моносилана и моногермана 12-40 и 1-3 Па соответственно при температуре 600-650°C.
Заявка
4485971/25, 26.09.1988
Турцевич А. С, Красницкий В. Я, Лесникова В. П
МПК / Метки
МПК: H01L 21/205
Метки: кремния, осаждения, пленок, поликристаллического
Опубликовано: 20.01.2008
Код ссылки
<a href="https://patents.su/1-1568798-sposob-osazhdeniya-plenok-polikristallicheskogo-kremniya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ осаждения пленок поликристаллического кремния</a>
Предыдущий патент: Способ изготовления контактных столбиков для межсоединений интегральных схем
Следующий патент: Интегральная микросхема с тонкопленочной металлизацией
Случайный патент: "теребильный аппарат для корнеплодоуборочных машин