B23K 26/04 — автоматическая центровка, нацеливание или фокусирование луча лазера, например с использованием обратного светового рассеяния

Установка для нанесения покрытий

Загрузка...

Номер патента: 994582

Опубликовано: 07.02.1983

Авторы: Ивашин, Карпушин, Протасевич, Самодеева

МПК: B23K 26/04, C23C 4/00

Метки: нанесения, покрытий

...коаксиально электроду, и фокусирую- щего электрода, прикрепленного посредством стоек,к полому наконечнику, полый наконечник снабжен ограни чнтелямн с роликами и установлен с возможностью вертикального перемещения относительно, системы фокусиров-; ки лазерного луча,На чертеже схематически показана предлагаемая установка, разрез.Установка содержит полый наконечник 1, собирающую линзу 2 Фокусиро 5 вочной системы не показана), патрубок 3 для подачи предварительно разогретого металлического порошка (материала покрытия) в электрод 4, который установлен с возможностью коакси-о ального перемещения в наконечнике 1 с помощью винтов 5. К наконечнику 1 болтами б прикреплены ограничители 7, у которых на осях 8 с возможностью вращения...

Способ лазерной обработки материалов

Загрузка...

Номер патента: 1296344

Опубликовано: 15.03.1987

Авторы: Иващенко, Панов

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...уровня интенсивности,поэтому с помощью фокусирующего элемента 2 концентрируют луч 1 в идискретных равномерно расположенныхпо окружности локализованных зон ис максимумами интенсивности излучения в каждой из них необходимогоуровня, например достаточного дляплавления материала, что обеспечивает повышение качества и точностьобработки за счет локализации излучения. Дпя обработки материала 3 покруговому контуру отраженный от элемента 2 луч переотражают системойплоских зеркал 6 и совмещают оптическую ось выходящего в направленииматериала 3 луча 7 с оптической осьюлуча 1, и вращением элемента 2 исистемы зеркал 6 как целого относительно оптической оси падающего наэлемент 2 луча 1 производят перемещение на материале 3 дискретных зон4 по...

Устройство для лазерной обработки металлов

Загрузка...

Номер патента: 1320037

Опубликовано: 30.06.1987

Авторы: Ганюченко, Смирнов, Фискин, Хвиль

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной, металлов

...2 которого фокусирующей системой 3 подается через отверстие 4 полусферы 5 на обрабатываемое изде 0037 2 лие, отражаясь от которого, попадает на группы датчиков 6, расположенных по концентрическим окружностям на полусфере 5. Сигналы с датчиков б подключены к соответствующим входам сумматора 7, Сигнал с сумматора 7 поступает на первый вход блока 8 сравнения, на второй вход блока сравнения 8 сигнал поступает с блока 9 опорно О го сигнала. Выход блока 8 сравнениясоединен с блоком управления интен-.сивностью 10 ЛИ, На детали 11 образуется ПГК 12,Блок управления интенсивностью лазерного излучения представляет собой схему управления трехфазным тиристорным регулятором, установленным на стороне питающей сети по отношению к источнику...

Способ контроля площади пятна фокусировки импульсно периодического излучения

Загрузка...

Номер патента: 1563927

Опубликовано: 15.05.1990

Авторы: Пунда, Рожнов, Чупахин

МПК: B23K 26/04

Метки: излучения, импульсно, периодического, площади, пятна, фокусировки

...электрода 0,39 см . Напряжение плоских зон для структуры составляет 0,3 В. Кривая 1 соответствует55случаю слабого обеднения приповерх 1ностной области Ях основными носителями заряда (напряжение смещения 0,85 В), кривая 11 - для случая среднего обеднения (напряжение смещения 1,1 В). Измерения проводились в режиме фотоЭДС. В режиме фототока или промежуточном характер зависимости Б(Й) не изменяется.оПричина уменьшения сигнала Б., при фокусировке излучения заключается в нелинейности фотоотклика (нелинейной зависимости сигнала фотоотклика от интенсивности излучения), связанной с возникновением нелинейной рекомбинации при локальном фотовозбуждении. Использование предлагаемого способа конТроля площади пятна фокусировки...

Способ лазерной обработки материалов и устройство для его осуществления

Загрузка...

Номер патента: 1635017

Опубликовано: 15.03.1991

Авторы: Вейко, Костюк, Чуйко, Яковлев

МПК: B23K 26/04, G01J 5/00

Метки: лазерной

...Сканирование зоны обработки в процессе обработки осуществляется покачиванием селективного зеркала 8 с частотой з. приводящим к перемещению сфокусированного пучка видимого диапазона спектра со скоростью Чз = Из относительно неподвижной диафрагмы 11. Излучение, прошедшее через диафрагму при сканировании зоны обработки, регистрируется фотоприемником, выход которого соединен с осциллографом. На экране осциллографа наблюдают картину усредненного по времени обработки распределения интенсивности ИК-излучения в зоне обработки,Усредненое по времени обработки распределение интенсивности видимого излучения в зоне обработки полностью идентично распределению интенсивности ИК-излучения, так как и то, и другое распределение формируются эа счет...

Устройство для получения сфокусированных ударных волн в прозрачной среде

Загрузка...

Номер патента: 1695897

Опубликовано: 07.12.1991

Авторы: Дрейден, Островский, Самсонов, Семенова, Сокуринская

МПК: A61B 17/225, B23K 26/00, B23K 26/04 ...

Метки: волн, прозрачной, среде, сфокусированных, ударных

...для б: при (В; " ",1- .1 В 2 (1- ф ба, т,е. точка 02 фокусировки ударной водны лежит между линзой и точкой О 1 фокусировки лазерного излучения. При (В 1-(1-1)Ц/Йг(1- М, б а, т.е, точка 02 фокусировки ударной волны расположена эа точкой О 1 фокусировки лазерного излучения, Наконец, в случае строгого равенства (В 1-(1- у) 1.)/Йг = (1- ф б=а, т.е. точки О 1 и Ог совпадают.К важным параметрам технической реализации работы предложенного устройства относятся энергия и мощность лазерного импульса, а также волновые сопротивления прозрачной.среды 21 и твердого тела Ег, из которого выполнена линза 4. Основные критерии подбора этих параметров следующие: амплитуда прошедшей в твердое тело ударной волны не должна превышать порог пластичности...

Устройство для получения сфокусированных ударных волн в прозрачной среде

Загрузка...

Номер патента: 1695898

Опубликовано: 07.12.1991

Авторы: Дрейден, Островский, Самсонов, Семенова, Сокуринская

МПК: A61B 17/225, B23K 26/00, B23K 26/04 ...

Метки: волн, прозрачной, среде, сфокусированных, ударных

...близких значенийпоказателей преломления п 1 и пг (этот случай реализуется, например, для системы"вода-стекло", п 1" 1,33, п 2 = 1,5),Введение параметра е - 1 - у 1 иразложение формулы (1) в ряд по степеням е с точностью до слагаемых первого порядка позволяет получить простую связь междувеличинами В 1, В 2 и 12 б(йг-В)(2)5 уВ 1 ВгЗависимость расстояния б от отношеВ 1ния радиусов кривизны - приведена наВ 2фиг.З.10 Легко показать, что справедливы следующие оценки б,При 0 - 1 - у,0 б - ,т,е, точкаВ 1 В 1Вг2фокусировки ударной волны находится между фокусом 01 вогнутой поверхности 5 илинзой 4.При 1 - у( -(1+ Я, - (б- ,й 1 В 1 ВгВ 22 2таким образом, точка фокусировки ударнойволны лежит между фокусами 01 и 02 вогнутой и выпуклой поверхностей...

Способ лазерной обработки

Загрузка...

Номер патента: 1137668

Опубликовано: 23.12.1992

Автор: Лакиза

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...луча 2 в место фокусировки рабочего луча 4 уменьшается зависимость отраженного луча 3 откачества механической обработки сканируемой поверхности, При сканировании зеркальных поверхностей вспомогательный луч 3, отраженный зеркально и возвращенный в место фокусировки рабочего луча 4, еще раэ зеркально отразится в направлении вспомогательного лазера 6. Таким образом, доля вспомогательного луча, отраженного от сканируемой поверхности обратно в апертуру фокусирующего обьектива 7, не будет зависеть от угла падения вспомогательного луча на поверхность, что позволяет получить стабильный сигнал на фотодетекторе 8,Пример осуществления способа.Способ лазерной обработки материалов был опробован при сварке контактных систем реле РЭС. Контакты...

Устройство для лазерной обработки

Загрузка...

Номер патента: 957507

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Лакиза, Малащенко

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...элементами модулятор-поляризатор-зеркало; с - скорость света Различной установкой зеркала 5 по отношению к падающему на него излучения можно обеспечить либо возврат излучения в место отражения пучка от материала, либо 5 10 15 20 25 30 35 40 45 в любую точку окрестности этой зоны. По. следнее также обеспечивает повышение эффективности обработки материала, так как можно реализовать обработку новой области материала, подогрев периферии зоны обработки и т.п.Использование оптического модулятора поляризации с целью многократного возврата излучения в зону обработки также обеспечивает защиту лазера от отраженного материала излучения, что особенно важно для мощных коротких импульсов,В качестве поляризатора в устройстве может быть использована...

Установка для лазерной обработки материалов

Загрузка...

Номер патента: 978483

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Лакиза, Малащенко, Мезенов

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...дополнительным отверстиям, а отражающие зеркала наклонены к осям дополнительных отверстий навстречу одно другому,Установка работает следующим образом.Излучение оптического квантового генератора 1 фокусируется линзой 2 и через отверстие 4 в отражающем зеркале 3 направляется на обрабатываемую деталь 11, Зеркально отраженное излучение проходит через отверстие 9, линзу и зеркалами 8, 7 направляется на линзу 5, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 10 на обрабатываемую деталь 11. которую устанавливают обрабатываемой поверхностью нормально к оси линзы 5, Зеркальная составляющая вторично отраженного излучения проходит отверстие 10, линзу 5 и зеркалами 7, 8 направляется на линзу 6, фокусирующую излучение и направляющую...

Установка для лазерной обработки материалов

Загрузка...

Номер патента: 1029512

Опубликовано: 30.12.1992

Авторы: Жданова, Лакиза, Малащенко

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...зеркал,излучения и фокусирующим объективом 10 дополнительно установлен поляризатор 15 излучения. Отражающее зеркало 6 располо жено на оптической оси 16, проходящей че рез дополнительный поляризаотражающее зеркало 13.Установка работает следующзом. Включают лаз ванное излучение ризатор 2, оптическ поляризацию прохо ния с линейной на фокусирующим об на обрабатываемы лучения; отражаем туру фокусирующе его, поступает на о меняющий поляри вой на линейную, материалом 17 в а ер 1. Линейно-пол лазера 1 проходит ий элемент 3, изменя дящего через него и круговую, Это излу ъективом 4 направл й материал 17. Час ая материалом 17 в го обьектива 4, и птической элемент зацию излучения сИзлучение; отраж пертуру фокусиру1029512 ставитель Л.Письмхред...

Устройство для лазерной обработки

Загрузка...

Номер патента: 1244857

Опубликовано: 30.12.1992

Авторы: Аносов, Лакиза, Малащенко, Мезенов

МПК: B23K 26/04

Метки: лазерной

...объектив 2 с защитным экраном 3 из прозрачного материала, и эллиптический отражатель 4, один из фокусов которого совмещен с фокусом .5 фокусирующего объектива 2, Защитный экран 3 фокусирующего объектива 2 выполнен в виде полусферы с центром, совмещенным с фокусом 5 объектива 2, и герметично закреплен на объективе 2.Устройство работает следующим образом. Работу устройства рассматривают на примере обработки звукопроводов устройств на поверхностных акустических волнах с целью создания в них микроразрувений. Излучение лазера 1 (ЛТИПЧ) с длительностью импульсов 10 ис, длиной волны излучения 1,06 мкм и максимальной импульсной мощностью 0,5 МВт фокусируют микро- объективом 2 (ахромат 40 х 0,65). в ,пятно нагрева диаметром 5 мкм, чем...