Установка для лазерной обработки материалов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(72) Ю,В,нова нко и Л.А,15 обра,0 (Я яризо- поляющий злучечение яется ть из- аперройдя 3, из- кругоенное ющего ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕВЕДОМСТВО СССР(54)57) УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ. содержащая лазер, поляризатор излучения, оптический элемент для изменения поляризации излучения и фокусирующий объектив, установленные последовательно вдоль оптической оси установки, и отражающее зеркало, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью повышения КПД при облучении обрабатываемой поверИзобретение относится к лазерной обработке материалов, в частности к оборудованию для ее выполнения.Целью изобретения является повышение КПД при облучении обрабатываемой поверхности нормально направленным излучением.На чертеже представлена схема установки.Установка содержит лазер 1, поляризатор 2 излучения, оптический элемент 3 для изменения поляризации излучения и фокусирующий обьектив 4, установленные последовательно вдоль оптической оси 5 установки, и отражающее зеркало 6. Вдоль осей 7 и 8, расположенных под равными углами к оптической оси 5 установкй, дополнительно установлены два фокусирующих объектива 9 и 10, два оптических элемента 11 и 12 для изменения поляризации излучения и два отклоняющих зеркала 13 и 14. На оси 8 между дополнительными оптическим элементом 11 для изменения поляризации хности нормально направленным излучением, вдоль. осей, расположенных под равными углами к оптической оси установки, дополнительно установлены два фокусирующих объектива, два оптических элемента для изменения поляризации излучения и два .отклоняющих зеркала, а на одной из этих осей между дополнительными оптическим элементом для изменения поляризации излучения и фокусирующим объективом дополнительно установлен поляризатор излучения,. причем отражающее зеркало рас положено на оптической оси,.проходящей через дополнительный поляризатор излучения и одно из отражающих зеркал,излучения и фокусирующим объективом 10 дополнительно установлен поляризатор 15 излучения. Отражающее зеркало 6 располо жено на оптической оси 16, проходящей че рез дополнительный поляризаотражающее зеркало 13.Установка работает следующзом. Включают лаз ванное излучение ризатор 2, оптическ поляризацию прохо ния с линейной на фокусирующим об на обрабатываемы лучения; отражаем туру фокусирующе его, поступает на о меняющий поляри вой на линейную, материалом 17 в а ер 1. Линейно-пол лазера 1 проходит ий элемент 3, изменя дящего через него и круговую, Это излу ъективом 4 направл й материал 17. Час ая материалом 17 в го обьектива 4, и птической элемент зацию излучения сИзлучение; отраж пертуру фокусиру1029512 ставитель Л.Письмхред М,Моргентал Редактор Макси мишин орр Заказ 570 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открыт 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5и ГКНТ СССР Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагэринэ, 101 объектива 4, проходит путь; фокусирующий обьектив 4 - оптический элемент 3 (четвертьволновая пластинка) - поляризатор 2 - первое отклоняющее зеркало 14 - дополнительный оптический элемент 11(полуволновая пластинка)-дополнительный поляризатор .15- дополнительный объектив 10 - обрабатываемый материал 17- дополнительный объектив 9 - дополнительный оптический элемент 12 (полуволновая пластинка) - отклоняющее зеркало 13 - дополнительный поляризатор 15 - дополнительный объектив 10 - обрабатываемый материал 17 - дополнительный объектив 9 - дополнительный оптический элемент 12 - отклоняющее зеркало 13. - дополнительный поляризатор 15 - отражающее зеркало 6 - дополнительный поляризатор 15 - отклоняющее зеркало 13 - дополнительный оптический элемент 12 - дополнительный объектив 9 - обрабатываемый материал 17 - дополнительный объектив 10 - дополнительный поляризатор 15 - отклоняющее зеркало 13дополнительный оптический элемент 12 - дополнительный объектив 9 - обрабатываемый материал 17 5 - дополнительный объектив 10 - дополнительный поляризатор 15 - дополнительный оптический элемент 11 - отклоняющее зеркало 14 - поляризатор 2 - оптический элемент 3 - фокусирующий объектив 4 - 10 обрабатываемый материал 17 - фокусирующий объектив 4 - оптический элемент 3 - поляриэато 2 лазер 1. При этом обеспечивается пятикратный возврат отраженного излучения на обрабатываемый материал, 15 благодаря чему повышается КПД установкиэа счет увеличения энерговложения в материал при его обработке нормально направленным излучением в 2-3 раза,Изобретение по сравнению с базовым 20 объектом, являющимся прототипом, позволяет повысить КПД установки,
СмотретьЗаявка
3352945, 10.11.1981
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Г-4344
ЛАКИЗА Ю. В, МАЛАЩЕНКО А. А, ЖДАНОВА Л. А
МПК / Метки
МПК: B23K 26/04
Метки: лазерной
Опубликовано: 30.12.1992
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1029512-ustanovka-dlya-lazernojj-obrabotki-materialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Установка для лазерной обработки материалов</a>
Предыдущий патент: Многошпиндельный гайковерт
Следующий патент: Способ горизонтального непрерывного литья заготовок
Случайный патент: Дисковая пила