Установка для лазерной обработки материалов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
СОК)3 СОВГТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРГСГ 1 УБЛИК 11111 В 23 К 26/00 ГОСУДАРСТВЕННОЕ ПАТЕНТНОЕВЕДОМСТВО СССР(54)(57) УСТАНОВКА ДЛЯ ЛАЗЕРНОИ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ, содержащая оптический квантовый генератор,фокусирующий линзу и полусферическое отИзобретение относится к оборудованию для лазерной обработки материалов.Целью изобретения является повышение качества обработки путем стабилизации энерговложения,На чертеже изображена схема установки.Установка содержит оптический квантовый генератор 1, фокусирующую линзу 2 и полусферическое отражающее зеркало 3 с отверстием 4 для прохода луча. Установка также снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами 5 и б с отражающими зеркалами 7 и 8. В полусферическом зеркале 3 выполнены по крайней мере два дополнительных отверстия 90 и 10. Дополнительные линзы 5 и б установлены с выпуклой стороны пблусферического отражающего зеркала 3 соосно дополнительным отверстиям 9 и 10, Отражающие зеркала 7 и 8 наклонены к осям дополнительных отверстий 9 и 10 навстречу друг другу,О 978483 А 1 ражающее зеркало с отверстием для проходалуча,отличающаясятем,что,сцелью повышения качества обработки путем стабилизации энерговложения, она снабжена по крайней мере двумя дополнительными фокусирующими линзами с отражающими зеркалами, в полусферическом зеркале вы.полнены по крайней мере два дополнительных отверстия, дополнительные линзы установлены с выпуклой стороны полусферического отражающего зеркала соосно дополнительным отверстиям, а отражающие зеркала наклонены к осям дополнительных отверстий навстречу одно другому,Установка работает следующим образом.Излучение оптического квантового генератора 1 фокусируется линзой 2 и через отверстие 4 в отражающем зеркале 3 направляется на обрабатываемую деталь 11, Зеркально отраженное излучение проходит через отверстие 9, линзу и зеркалами 8, 7 направляется на линзу 5, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 10 на обрабатываемую деталь 11. которую устанавливают обрабатываемой поверхностью нормально к оси линзы 5, Зеркальная составляющая вторично отраженного излучения проходит отверстие 10, линзу 5 и зеркалами 7, 8 направляется на линзу 6, фокусирующую излучение и направляющую его через отверстие 9 на обрабатываемую деталь 11. Далее зеркально отраженное излучение через отверстие 4 уходит в направлении оптического квантового генератора 1. Поворачивая деталь 11 таким образом, чтобы первоначально зеркальное отражение излучения оптического. Шарганова Техред М,Моргентал Коррект ври Заказ 566 Тираж ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 НТ ССС енно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101 ои квантового генератора 1 было направлено в отверстие 10, получают дополнительный третий возврат зеркально отраженного излучения. В этом случае зеркально отражаемое деталью 11 излучение проходит путь: отверстие 10 - линза 5 - зеркала 7, 8 - линза 6 - отверстие 9 - обрабатываемая деталь 11 - полусферическое зеркало 3 (в направлении ОА) - обрабатываемая деталь 11 - отверстие 9 - линза 6 - зеркала 8, 7 - линза 5 - отверстие 10 - обрабатываемая деталь 11 - отверстие 4 - линза 2 и уходит в направлении генератора 1. Таким образом, установка позволяет осуществить два или три возврата зеркально отраженного излучения и многократный возврат излучения, отраженного диффузно, стабилизирует энерго вложение, что повышает качествообработки,Установка позволяет обеспечить повышение стабильности энерговложения, иэбе- "0 жать выплесков и испарений материала,например, при лазерной сварке деталей, что приведет к повышению качества и надежности соединений.
СмотретьЗаявка
3303373, 11.06.1981
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Г-4344, ЛЕНИНГРАДСКИЙ ОРДЕНА ЛЕНИНА ЭЛЕКТРОТЕХНИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ ИМ. В. И. УЛЬЯНОВА
ЛАКИЗА Ю. В, МАЛАЩЕНКО А. А, МЕЗЕНОВ А. В
МПК / Метки
МПК: B23K 26/04
Метки: лазерной
Опубликовано: 23.12.1992
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-978483-ustanovka-dlya-lazernojj-obrabotki-materialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Установка для лазерной обработки материалов</a>
Предыдущий патент: Способ определения оптических характеристик атмосферы
Следующий патент: Устройство для увч-гипертермии
Случайный патент: Способ изготовления железобетонных предварительно напряженных балок пролетных строений мостов