Патенты с меткой «структурами»

Номер патента: 966491

Опубликовано: 15.10.1982

Авторы: Волков, Герасимов, Ларионов, Мичков, Склянкин

МПК: G01B 11/02

Метки: дифракционными, линейных, объектах, плоских, размеров, структурами, тестовыми, формы, элементов

...фотоприемник установлен с возможйостью поворота вокруг точки пересечения оптической оси и базовой плоскости держателя объекта измерения, плоскость входного окна фотоприемника расположена по касательной к траектории его перемещения.На чертеже изображена принципиальная схема устройства для измерения линейных размеров и формы элементов на плоских объектах с дифракционными тестовыми структурами.Устройство содержит последонательно расположенные на оптической оси источник 1 когерентного света, например квантовый генератор, первую лин 30 зу 2, апертурную диафрагму 3, вторую линзу 4, третью линзу 5, фото" приемник 6 с блоком 7 управления и обработки сигнала и держатель 8 объекта 9 измерения. Фотоприемник б 35 установлен с возможностью...

Номер патента: 1433915

Опубликовано: 30.10.1988

Авторы: Благов, Екатеринчук, Свиридов

МПК: C03B 19/08

Метки: микрошариков, пористыми, стеклянных, структурами

...органы управления устройством. ООбразование температурных зон для спекания изделий, различных по объему и сформированных из разных по диаметру стеклянных микрошариков, с целью изменения времени этапов их тем пературной обработки производится путем объединения отдельных термомодулей в группы с соответствующей температурой в их полостях.Как показывает эксперимент, например, для спекания фильтров из стекломикрошариков диаметром 60 мкм, изготовленных из приборного стекла, время спекания равно 24 мин. Если при этом для упрощения взять время выстоя шагового транспортера, равным одной минуте, а число размещаемых фильтров в термомодуле, равным шести, то зона спекания должна состоять из четырех термомодулей. В этом случае первые (входные)...

Номер патента: 1504497

Опубликовано: 30.08.1989

Авторы: Клишина, Лысов, Шац

МПК: G01B 11/02

Метки: дифракционными, линейных, объектах, плоских, размеров, структурами, тестовыми, формы, элементов

...света с помощью зеркала 2 световой пучок направляется насистему 3 формирования пучка, которая формирует в плоскости держателя5 на объекте 17 измерения луч света с.равномерно распределенной интенсив ностью, Каждый модуль (кристалл) объекта 17 измерения содержит тестовую дифракционную решетку, составленную из элементов, подлежащих измерению,Отражаясь от полупрозрачного зеркала 4, световой пучок проходит через диафрагму 7 в эллиптическом зеркале 6 и нормально падает на базовую поверхность держателя 5 объекта измерения, При попадании пучка на тестовую дифракционную структуру в плоскости, перпендикулярной штрихам структуры и базовой плоскости держателя 5, формируется дифракционное изображение структуры,...

Номер патента: 1304673

Опубликовано: 20.08.1996

Авторы: Дмитриев, Зайцев, Нечаев, Чернявский, Швецов

МПК: H01L 21/477

Метки: класса, пластин, полупроводниковыми, структурами, термообработки

1. Способ термообработки пластин с полупроводниковыми структурами класса A3B5, включающий размещение пластин и источника компоненты B5 в контейнере, герметизацию контейнера, нагрев контейнера в потоке неокисляющего газа до температуры термообработки и выдержку при этой температуре, отличающийся тем, что, с целью улучшения электрофизических параметров полупроводниковых структур, их воспроизводимости и технологичности обработки, герметизацию контейнера осуществляют в процессе нагрева при 450 - 550°С.2. Устройство для термообработки пластин с полупроводниковыми структурами класса A3B3, включающее контейнер и герметизирующую крышку, отличающееся тем, что в торцевой части стенок...