Устройство для жидкофазной эпитаксии

., ЯИЗВЛО 1". А Т уктуры и систеких процессов,18.ИДКОФАЗ НОЙ к устроиствам ковых структур, сверхрешеток, нородности по(Л О ство работает следую аУстр эом.В ем необход лублени 9. После ператур ю уг- ку тем- вмеОСУДАРСТВЕ ННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИ И ГКНТ СССРОПИСАНИЕ ИЗОБ АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(71) Казахский государственный университет им. С,М,Кирова(56) Полупроводниковые стрмы контроля технологичесКишинев, йтиинца, 1982, с.(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ЖЭПИТАКСИИ(57) Изобретение относитсядля получения полупроводнив частности для созданияОбеспечивает повышение од Изобретение относится к технологии полупроводников и может быть использовано для получения полупроводниковых структур методом жидкостной эпитаксии, в частности для создания сверхрешеток.Цель изобретения - повышение однородности поверхностного состава слоев за счет одновременной подачи расплава по всей поверхчости подложки.На фиг. 1 представлен общий вид устройства перед нанесением расплава на подложку; на фиг. 2 - устройство в процессе нанесения расплава; на фиг, 3 - поршень, вид сверху; на фиг, 4 - то же, вид сбоку,Устройство содержит контейнер 1 с емкостями 2 для исходных расплавов. Контейнер 1 установлен на пластине 3 с отверстием 4. Под пластиной 3 размещен поршень 5. в верхней и нижней частях которого выполнены углубления, образующие поршневую каверхностного состава слоев за счет одновременной подачи расплава по всей поверхности подложки. Устройство содержит. емкости для расплавов, соединенные с поршневой камерой. Под емкостями размещен подложкодержатель с подложкой. Между емкостями и подложкодержателем установлен поршень. В верхней и нижней частях поршня выполнены углубления, образующие поршневую камеру и камеру роста. Обе камеры соединены фильерой. Выходное отверстие фильеры выполнено в виде горизонтальной щели, контактирующей с подложкой по всей ширине камеры роста, На внутренней поверхности фильеры выполнено углубление, образующее с горизонтально острый угол. 4 ил. меру 6 и камеру 7 роста. Дном камеры 7 роста служит подложкодержатель 8 с размещенной в его углублении подложкой 9, Поршневая камера б и камера 7 роста сообщаются между собой при помощи фильеры 10, выходное отверстие которой выполнено в виде горизонтальной щели 11. На внутренней поверхности фильеры 10 выполнено углубление 12, образующее острый угол к горизонтали по всей ширине камеры 7 роста. Под подложкодержателем 8 размещена емкость 13 для отработанного расплакости 2 контеинера 1 поме мое количество расплавов, а подложкодержателя 8 - подл гомогениэации расплава при эпитаксии первый расплав с1650798ния подложки, что дополнительно исключа-"ет движение раствора по подложке,Наличие связи выходного отверстияфильеры с камерой роста по всей ее ширине5 обеспечивает одновременное начало контакта с раствором по всей ширине подложки, что исключает самопроизвольноерастекание раствора по подложке, Наличиеже расширяющейся части фильеры у выход 10 ного отверстия дает равномерное распределение раствора по всей ширине выходногоотверстия.Выполнение нижней стенки фильеры навыходе ее в камеру роста под острым углом15 к нижней горизонтальной поверхностипоршня позволяет формированием краевого угла раствор-подложка исключитьскачкообразное движение раствора по подложке и, таким образом, устранить дефекты20 менисковых линий.Получены слои твердого раствораАю.,ею баюл Аз толщиной2,5 мкм,Формула изобретения25 Устройство для жидкофазной зпитаксииполупроводниковых структур, содержащееконтейнер с емкостями, имеющими отверстия для подачи исходного расплава в поршневую камеру, снабженную поршнем,30 камеру роста с подложкой, соединенную споршневой камерой при помощи фильеры,и емкость для отработанного расплава, о тл и ч а ю щ е е с я тем, что, с целью повышения однородности поверхностного со 35 става слоев за счет одновременной подачирасплава по всей поверхности подложки,поршневая камера и камера роста образованы углублениями равного поперечного. сечения, выполненными на верхней и40 нижней поверхностях поршня, выходноеотверстие фильеры выполнено в виде горизонтальной щели, и на внутренней поверхности фильеры, параллельно щели,выполнено углубление. образующее ост 45 рый угол к горизонтали по всей ширинекамеры роста,1650798 оставитель Н, Давыдоваехред М,Моргентал . К дактор Т.Горячева р Т. Малец изводственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул. Гагарин Заказ 1975 Тираж 282 Подписное 8 НИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5