Состав для обработки стеклянных пластин

) СОСТАВ ДЛЯ ОБРАБОТКИ СТЕКЛЯННЫХ ПЛАСТИНИзобретение относится к электронной технике и может быть использовано в производстве полупроводниковыхприборов и интегральных схем на стадии подготовки поверхности стеклянных пластин перед нанесением маскирующего слоя в технологии изготовления фотошаблонов.Известен состав для упрочнениястеклянных отливок, содержащий компоненты в следующем соотношении, вес.Ф:эвтектическая смесь КЙО и й(КОЗ),где к - Ьг или Ва 9995 - 995вКО п 510 или КОН или КСО 0,050 еноструктуро, что. данный оченной струкподвижность так как поеризуется нах областей, них указанного Однако методом рент ного анализа установле расплав обладает упоря турой ионов Кф, т.е. и значительно снижена, а верхность стекла харак личием микронеоднородн степень воздействия на состава различна. Таким образом, неоднородность поверхности стекла,обработанного данным составом, усугубляется, что приводит к снижениюадгезии маскирующих слоев на дальнейших операциях производства ф/шзаготовок, к ухудшению качества фотошаблонной заготовки и фотошаблона вцелом.о Кроме того, обработка в расплавесолей приводит к ухудшению микрогеометрии стеклянной заготовки и требу"ет дополнительной обработки для достижения высокого класса чистоты поверхности.Данные недостатки не обеспечиваютполного равномерного ионообмена в поверхностном слое между стеклянной заготовкой и расплавом, что приводитпри дальнейшей операции нанесениямаскирующего слоя к снижению стабильности слоя и ухудшению качества фотошаблонной заготовки.3 94511Таким образом, данный состав является неприемлемым, в частности, при изготовлении фотошаблонов.Наиболее близким к предлагаемому является состав для упрочнения стек- З лянных заготовок, содержащий компоненты в следующем соотношении, вес.3: хлорид калия 33; нитрат калия 33; полиоксиэтиленалкилсульфат натрия 1,2; вода остальное 123. 1 фОднако малая подвижность ионов калия в насыщенном растворе приводит к снижению эффективности ионаобмен-, ных процессов, накоплению ионов кария и других на обрабатываемой поверх ю ности, что в совокупности вызывает образование дефектов обработки в местах микронеоднородностей, на поверхности стеклянной пластины, снижая адгезию маскирующих слоев на даль нейших операциях производства ф/ш заготовок и качество фотошаблона в целом.За счет присутствия полиоксиэтиленалкилсульфата натрия на поверх ю ности стеклянной заготовки образуется пленка значительно (в десять раз) замедляющая ионообмен в поверхностном слое стекла, что в комплексе с уменьшением коэффициента диффузии За ионов калия приводит к.так называемому "замораживанию" ионообмена,Целью изобретения является снижение количества локальных подтравов на поверхности фотошаблонов.Поставленная цель достигается тем, что состав для обработки стеклянных пластин, включающий нитрат калия и воду, дополнительно содержит гипохлорит циркония и органическую40 кислоту общей формулы СпН О где а=п или и+2, а пМ 5, при следующем соотношении компонентов, мас.4:Нитраткалия 10-1545Гипохлоридциркония 4-6Органическаякислота 4-6Вода Остальное ОСущность изобретения состоит в следующем.Кинетика выщелачивания натриевоборосиликатного стекла в кислотах носит диффузионный характер. Скоростьвыщелачивания в слабых растворах кислоты является наибольшей, что приводит к увеличению экстракцииЗаказ 5250/31 Тираж 508 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д,4/5филиал ППП "Патент", г.ужгород, ул.Проектная, 4 5 9451 кового стекла после операции механической обработки и отмывки помещают в емкость со следующим раствором,:Нитрат калия 15Цавелевая кислота 65Гипохлорит циркония 6Вода 73Поэтому изменение коэффициента зиффузии (степени экстракции) ионов щелочных металлов оценивают по вре о мени выдержки до появления локальных подтравов на поверхности хромированных пластин, Равномерность ионообмена в поверхностном слое пластины оценивается по плотности локальных под травов.Полученные данные представлены в таблице. В таблице п- количество ло кальных подтравов на пластинах с мас о кирующим слоем и слоем фоторезиста через сутки после обработки пластин (величина, определяемая глубиной ионообмена, находящаяся в обратно 13 6пропорциональной зависимости от коэффициента диффузии ионов калия иглубины экстракции ионов натрия);СИ 0,2 ом- время до появленияпредельно допустимого количества локальных подтравов (величина, определяемая глубиной ионообмена, находящаяся в прямой зависимости от коэффициента диффузии ионов калия и глубины экстракции ионов натрия); вмколичество локальных подтравов после3 мес выдержки (определяется равномерностью глубины ионообмеКа),Использование предлагаемого состава позволяет повысить выход годных в производстве фотошаблонных заготовок не менее, чем на 15,Состав для обработки стеклянных пластин, включающий нитрат калия и воду, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью снижения количества локальных подтравов на поверхности фотошаблонов, он дополнительно содержит гипохлорид циркония и органическую кислоту общей формулы ЩД где ш=п или и+2, а ш(5, при следующем соотношении компонентов,мас.Ф:Нитрат калия 10-15Гипохлорит циркония 4-6Органическая кислота 4-6Вода Остальное Источники информации,принятые во внимание при экспертизе 1, Патент Японии У 52-24921,кл. 21 В 72, 1977,2. Патент Франции У 2353501,кл. С 03 С 21/00, 1978 (прототип).