Панкратический объектив
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
(23) ПриоритетОпубликовано.05,02.80, Бюллетень М 5 3 Ъеударетеенный кеяитет СССР в делам нэаеретеиий н вткрнтнйДата опубликования описания 08,02.80(54) ПАНКРАТИЧЕСКИЙ ОБЪЕКТИВ Изобретение относится к фогографиче ским панкрагическим объективам.Известны конструкции трехкомпонентных панкрагических объективов, плавное изменение фокусного расстояния в которых выполняется перемещением первого и третьего компонентов, жестко связанных между собой, второй компонент неподвижен 1 Ц/Известные конструкции не обеспечиваютИ съемку на кадр с диагональю 2 ч = 43,3 мм при достаточно высоком относительном отверстии (1:2,8) и высоком качестве изображения по полю.Наиболее близким к изобретению по технической сущности является панкратический объектив, содержащий три компонента, из которых первый и второй установлены с возможностью перемещения в направлении вдоль оси, при атом первый компонент выполнен из отрицательной лин-, зы и положительного мениска, второй включает двухсклеенную линзу, а третий состоит иэ четырех одиночных линз, третья и четвертая из которых положительная и отрицательная соответственно, идвухсклеенной из отрицательного менискаи двояковыпуклой линзы 21Укаэанная конструкция не обеспечиваетсъемкуна кадр с диагональю 2 у,в 43,3 ммпри относительном отверстии объективавыше 1:2,9, имеет большую велйчину отрицательной дисторсии и плохое качество иэображения по полю,Целью изобретения является увеличение относительного отверстия с одновременным улучшением коррекции аберраций.Поставленная цель достигается тем,что в панкратическом объективе, содержащем три кбмпонента, иэ которых первый и второй установлены с воэможностью перемещения в направлении вдольоси, при этом первый компонент выполнен иэ двояковогнутой отрицательной линзы, второй включает двухсклеенную линзу, а третий состоит из четырех одиночных линз, третья и четвертая из которыхположительная и отрицательная соогвет3 714332 4ственно, и двухсклеенной из отрицатель- мапьная величина перемещения первогокомпонента составляет 3,95 мм для дипервый комйонент дополнен установленны- станции 1,2 м. Световой поток, постуми перед двояковогнутой отрицательной пающий на кадр, регулируется через дейстпинэой отрицательным мениском, обра вующую диафрагму 17.щеннйм вогнутостью к изображению, иВыполнение объектива по предложеннойдвояковыпуклой линзой, второй компонент схеме повышает светосилу панкратическоснабженположительным мениском, обра- го объектива при хорошем качестве изобщенным вогнутостью к иэображению, и ражения по полю и уменьшает дисторсиюдвояковыпуклой линзой, расположенными 10 на минимальном фокусе,соответственно перед и за двухсклееннойлинзой, йрй этом первая линза третьего формула изобретения"комйонента выпопнейа в виде положитещго мениска выпуклостью обращенного Панкратический объектив, содержащийе й ик изображению, вторая - в виде отрица три компонента, иэ которых первы ительной двояковогнутой линзы; а третья-. второй установлены с возможностью перев виде двояковыпуклой линзы, мещения в направлении вдоль оси, приНа "чертеже представлена оптическая атом первый компонент выполнен из двоисхема объектива, , ковогнутой отрицательной линзы, второйПанкратический объектив состоит из р 0 включаетдвухскпеенную линзу, а третийтрех компонентов 1-3, Компонент 1 со- состоит из четырех одиночных линз, тредержит отрицательный мениск 4, обращен- тья и четвертая иэ которых положительный вогнутостью к иэображению; двояко- ная и отрицательная соответственно, ивыпуклую 5 и двояковогнутую 6 линзы.двухскпеенной иэ отрицательного менискаКомпонент 2 выполнен из положительного 25 и двояковыпуклой линзы, о т л и ч а юмениска 7, обращенного вогнутостью кщ и й с я тем что, с цепью повышенияизображению, склеенных линз 8 и 9, иэ относителЬного отверстия с одновременкоторых 8 - отрицательный мениск, об- ным улучшением коррекции аберраций,ращенный вогнутостью к изображению, 9- первый компонент дополнен установленныдвояковыпуклая линза, н нздвояковыпук- Зр ми перед двояковогнутой отрицательнойпой линзы. 10. Компонент 3 выполнен иэ линзой отрицательным мениском, обращенчетырех одиночных линз 11-14. и скле-ным вогнутостью к изображению, и двоя:енных линз 15 и 16, из которых 11 - ковыцуклой линзой, второй компонентположительный мениск, обращей выпук- снабженположительным мениском, обра постью к изображейию, 12 -"двояковогну- З 5 щенным вогнутостью к изобра ению, итая линза, 13 - двояковыпуклая линза, двояковыпуклой линзой, расположенными14 - двояковогнутая линза, а склеенная соответственно перед и за двухскпееннойпара линз состоит иэ отрицательного ме. линзой, при этом первая линза третьегониска 15, обращенйого вогнутостью к компонента выполнена в виде положитепьизображензпо, и двояковыпуклой линзы 16. 40 ного мениска, выпуклостью обращенного кЗа линзой 13 установлена действующая иэображению, вторая - в виде отрицательной двояковогнутой линзы, а третья - вОбъектив работает следующим образом, виде двояковыпуклой линзы.Изменение фокусного расстояния выпоп- Источники информации,няется путем взаимосвязанйого перемеще- м принятые во внимание при экспертизения компонента 1 (линзы 4-6) по нелиней- . 1. Волосов Д, С, фотографическаяному закону и компонента 2 (линзы 7-101 оптика, М"Искусство", 1971, с. 467.по линейному закону.2, Паикратический объектив "Янтарьфокусировка объектива. на дистанцию 5 М". Техническая документацияосуществляется перемещением компонен- зо БЛ 38 73338 Сх. - организации-заявителята 1 в сторону объекта, причем макси- (прототнп).714332 и и в Составитель, М. Ле Техред 3. фанта ахтар О. Коррек то л. Проектная аз 9283/43 Тираж 869 ЦНИИПИ Государственного кове по делам ииэобрегений и огк 113035, Москва, Ж.;35, Раущска
СмотретьЗаявка
2614017, 04.05.1978
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-8450
ЮРЧЕНКО ЮРИЙ ФЕДОРОВИЧ, БЕЗДИДЬКО ЛЮДМИЛА ИВАНОВНА
МПК / Метки
МПК: G02B 15/16
Метки: объектив, панкратический
Опубликовано: 05.02.1980
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-714332-pankraticheskijj-obektiv.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Панкратический объектив</a>
Предыдущий патент: Способ изготовления дифракционных решеток рельефного типа на поверхности полупроводниковых материалов
Следующий патент: Объектив микроскопа
Случайный патент: Способ изготовления и применения лецитинового препарата для подкожных и внутривенных вливаний