Способ изготовления дифракционных решеток рельефного типа на поверхности полупроводниковых материалов
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Текст
ОП ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветсиикСоциалистическихРеспубиии 61 ополнительное к авт, сви ву624219/1 1)М. Кл. 2) Заявлено 05,08,"78 (21) присоединением заявки М " 5/14 ВсудерственныМ каинт(72) Авторы изобрете Смирнов и А. В, Шмалько. Быковский, В Московский ордена Трудового Красного Знамени инженерно физический институт(54) СПОСОБ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ДИФРАКБИОННЫХ РЕШЕТОКРЕЛЬЕФНОГО ТИПА НА ПОВЕРХНОСТИ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХМ АТЕРИА ЛОВ к Фотоселективноти полупроводника ческого поля приво распределению неос ряда, возникающих слоя при интерфере Такое перераспреде е травление поверхносв присутствии алектридит к дрейфу и переновных носителей завблизи поверхностного нционной его засветке. ление неосновных ноИзобретение относится к области когерентной оптоалектроники, в частностпьк интегральной оптике, и может использоваться при изготовлении алементов иузлов интегрально-оптических схем и систем оптической обработки информации.Известно несколько способов получения дифракционных решеток рельефйоготипа на поверхности тонкопленочных волноводов для целей интегральной оптики Г 13,Решетчатые структуры, полученныеатими способами, обычно имеют профиль,близкий к синусоидальному. Дпя изготовления дифракционных решеток со специальным профилем, например наклонным,требуется сложная технология, включающая получение фоторезистивных масок наповерхности материала, осущес твлениаионно-лучевого травления и друтие вспомогательные операции Е 23 ,Наиболее близким техническим решением к предлагаемому является способинтерференционного фототравления поверхности полупроводниковых материалов, спомощью которого дифракционные решет. ки рельефного типа с синусоидальным профилем получают в едином технологическомцикле Г 33Однако известный способ не позволяетполучать дифракционные решетки с профилем, отличным от синусоидального.Целью изобретения является получениештрихов с наклонным профилем.Указанная цель достигается тем, чтов процессе фототравления вдоль поверхности полупроводника накладывают алект- рическое поле в пределах от 10 до 3510 ф в/см перпендикулярно направлениюинтерференционных полос излучения засвеъ3" 714сителей заряда вызывает изменение скорости растворения попупроводника в области засветки и приводит к изменениюпрофиля травления дифракционной решетки. Причем угол наклона, профиля получаемых решетчатых структур можно регулировать за счет задания величины прикладываемого электрического поля.Предложенным способом получены дифракционные решетки рельефного типа с,наклонным профилем на поверхности полу-"проводниковых тонкопленочных волноводов,Угол наклона профиля решетчатых структур, отсчитанный от нормали к поверхности, составляет от 46 до 75 приизмене-нии величины прикладываемого электрического поля от 10 до 10 в/см соответственно и зависит от степени легирования попупроводника,Применение предлагаемого способа из- рцготовпения дифракционныхрешеток рельефного типа с наклонным профилем обеспечивает возможность изготовления:в еди/ном технологическом цикле различных высокоэффективных элементов и устройств 25 331, 4 направленного действия для интегрально- оптических схем.Формула изобретенияСпособ изготовления дифрвкционных решеток рельефного типа на поверхности полупроводниковых материалов путем интерференциального фото травления поверхности попупроводника, о т и и ч а ю - щ и й с я тем, что, с целью получения штрихов с наклонным профилем, в процессе фототравления вдоль поверхности попупроводника накладывают электрическое попе 10 -; 10 в/см перпендикулярно направлению интерференциальных полос излучения засветки,Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1, 1 ЕЕЕ, 23, 1975, р, 2.2. АРРИОд РЬУЗЖ, 29, 1976, Р. 303,3, ЖТФ, 46, 1976, с. 505 (прототип), Составитель В. НанторинРедактор О. Филиппова Техред . 3. ФантаКорректор Е, ПаппЗаказ 9283/43Тираж 569ПодписноеЦНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5Филиал ППП Патент", г. Ужтород, ул. Проектная, 4
СмотретьЗаявка
2624219, 05.06.1978
МОСКОВСКИЙ ОРДЕНА ТРУДОВОГО КРАСНОГО ЗНАМЕНИ ИНЖЕНЕРНО ФИЗИЧЕСКИЙ ИНСТИТУТ
БЫКОВСКИЙ ЮРИЙ АЛЕКСЕЕВИЧ, СМИРНОВ ВЛАДИМИР ЛЕОНИДОВИЧ, ШМАЛЬКО АНАТОЛИЙ ВАСИЛЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: G02B 5/14
Метки: дифракционных, поверхности, полупроводниковых, рельефного, решеток, типа
Опубликовано: 05.02.1980
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-714331-sposob-izgotovleniya-difrakcionnykh-reshetok-relefnogo-tipa-na-poverkhnosti-poluprovodnikovykh-materialov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления дифракционных решеток рельефного типа на поверхности полупроводниковых материалов</a>
Предыдущий патент: Радиолокационная система пространственного контроля количества и интенсивности осадков
Следующий патент: Панкратический объектив
Случайный патент: Устройство для очистки регенеративных вращающихся воздухоподогревателей