Электромагнит имплантационной установки
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1614049
Автор: Титов
Текст
ЮЗ СОВЕТСКИХЦИАЛИСТИЧЕСКСПУБЛИК 14049 А 19) 5 Н 01 1 37/00 ГОРСУДА Р СТВЕ ННЫ Й КОМПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТПРИ ГКНТ СССР ЕТЫТИЯМ ТЕН ЛАНТАЦИОН(54) ЭЛЕКТРОМА НОЙ УСТАНОВКИ (57) Изобретение для легирования м аппаратуре.для л ИТ И ИСАНИЕ ИЗОБ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(56) Вторая Международная конференция по мирному использованию атомной энергии, М 1959.ПТЭ, 1969, М 4, с.19,тносится к устроиствам атериалов, в частности к гирования поверхности Изобретение относится к устройствам для легирования материалов, в частности к аппаратуре для легирования поверхности ионными пучками, и может быть использовано в имплантационных установках с ионными источниками щелевого типа "калютрон" и электромагнитными масс-анализаторами ионного пучка.Цель изобретения - уменьшение габаритов, массы и энергопотребления магнита- анализатора.На фиг,1 изображен предлагаемый электромагнит, разрез; на фиг.2 - разрез А-А на фиг.1 (вертикальный разрез в районе межполюсного промежутка); на фиг.3 - вариант электромагнита с увеличенными вставками.Электромагнит содержит ионный источник 1 и приемник 2, присоединенные с противоположных сторон к рабочей камере 3,ионными пучками, и может быть использоВано в имплантационных установках с ионными источниками щелевого типа "калютрон" и электромагнитными масс- анализаторами ионного пучка, Целью изобретения является уменьшение габаритов, веса и энергопотребления магнита-анализатора. Использование изобретения позволяет в 2 - 3 раза уменьшить объем и вес магнита в результате уменьшения сечения магнитопровода и уменьшения числа ампервитков, при этом уменьшается в 2,5 раза энергопотребление магнита в результате уменьшения рабочей зоны зазора и рассеянного поля. 3 ил. центральная часть которой помещена в межполюсный зазор магнита 4 (пунктиром 5 в плане показаны размеры полюсных наконечников электромагнита-прототипа), По боковым стенкам камеры 3 в зоне магнита 4 расположены вертикальные вставки б из сверхпроводящей керамики, охлаждаемой жидким азотом. Магнитные силовые линии 7 в рабочем пространстве параллельны и вертикальны. Это позволяет использовать рабочий межполюсный зазор на всю его ширину, определяемую расстоянием между вставками. Масс-сепаратор расположен в зоне магнита 4. Из источника 1 выходит ионный пучок 8.Чтобы уменьшить потери на рассеянное магнитное поле, размер вставок б можно увеличить, как показано на фиг.3.Электромагнит работает следующим образом, 1614049Ионный пучок 8 выходит из щели ионного источника 1 в камеру 3 и попадает в масс-сепаратор 9, обслуживаемый магнитом 4, Поле во всем зазоре масс-спаратора 9 однородно, поэтому пучок 8 максимальНой апертуры, ограничиваемой только расстоянием между свехпроводящими вставками 6, фокусируется на приемнике 2.Использование предлагаемого электромагнита (по сравнению с известными), позволит в 2 - 3 раза уменьшить объем и вес магнита за счет уменьшения сечения магнитопровода, уменьшения числа ампервитков, т,е. объема катушки и, следовательно, 1 меньшения суммарной длины магнитопровода, кроме того, это позволит в 2 - 2,5 раза уменьшить энергопотребление магнита как за счет уменьшения объема рабочей зоны зазора, так и за счет уменьшения рассеянного поля,5Формула изобретения Электромагнит имплантационной установки, содержащий обмотку, полюса, установленные с зазором один относительно 10 другого, о т л м ч а ю щ и й с я тем, что, с. целью уменьшения габаритов, массы иэнергопотребления, по внешнему и внутреннему радиусам зазора установлены вертикальные вставки из сверхпроводящей 15 керамики, высотой, в 2-3 раза превышающей величину зазора.1514049 Редактор А, Ре орректор О.Кравцова Заказ 3895 Тираж 402 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ С 113035, Москва, Ж, Раушская наб., 4/5 роизводственно-издательский комбинат "Патент", г. Ужгород, ул.Гага Составитель И.фише Техред М,Моргентал
СмотретьЗаявка
4360700, 11.01.1988
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ А-1758
ТИТОВ ВАЛЕНТИН ВАСИЛЬЕВИЧ
МПК / Метки
МПК: H01J 37/00
Метки: имплантационной, установки, электромагнит
Опубликовано: 15.12.1990
Код ссылки
<a href="https://patents.su/3-1614049-ehlektromagnit-implantacionnojj-ustanovki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Электромагнит имплантационной установки</a>
Предыдущий патент: Устройство для контроля межконтактного зазора электромагнитного реле
Следующий патент: Квадрупольный масс-спектрометр
Случайный патент: Способ получения кристаллических пластин селенида цинка