Многолучевой интерферометр

(59 С 01 В 9 0 ЗОБРЕТЕНИЯВидктВЪС там СПИ САНИ(56) 1, Борн М, Оптика М , "Нау1973, с. 327.2. Миберн Дж. Обнаружениерометрия слабых источников свМ., "Мир", гл. У 1.(54)(57) МНОГОЛУЧЕВОЙ ИНТЕРФЕРОМЕсодержащий источник излучения, вхной и выходной коллиматоры и две и спект- ета. ГОСУДАРСТВЕНК 11 й КОМИТЕГЮ ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ тины с отражающими покрытиями, снабженные системой сканирования, о т -л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью повипения разрешающей способнос.ти и стабильности интерференционной ка", картины, одна из пластин выполненав виде дифракционной решетки с симметричным профилем штрихов и установлена параллельно отражающему слоюдругой пластины, а входной и выход- ТР, ной коллиматоры установлены ортогоод- нально отражающим граням штрихов диплас- фракционной решетки.Изобретение относится к оптикоинтерференционным приборам и можетбыть использовано для спектрометрииисточников света.Известны многолучевые интерферометры, использующие полосы Физо, вкоторых используется многократнаяинтерференция света между пластинамиинтерферометра, имеющими малый угол.Для обеспечения точной регистрацииспектра в таких приборах необходимос высокой степенью точности поддержи"вать угол между пластинами.Г 11.Наиболее близким по техническойсущности и достигаемому результату 15является многолучевой интерферометр,содержащий источник излучения, вход- .ной и выходной коллиматоры и двепластины с отражающими покрытиями,снабженные системой сканирования 1 21, 20. Недостатком известного устройства являются низкие разрешающая способность и стабильность интерференционной картины,.обусловленные ограниченными пределами расстояния между плас тинами и числом интерферирующих лучей, связанными с технологическимивозможностями изготовлением пластин.. Цель изобретения - повышение разрешающей способности и стабильности ЗО интерференционной картины.Поставленная цель достигается тем, что в многолучевом интерферометре, содержащем источник излучения, вход- . нОЙ и выходной коллиматоры и две, пластины с отражающими покрытиями, снабженные системой сканирования, Однаиз пластин выполнена в виде диФракционной решетки с симметричным профилем штрихов и установлена парал-О дельно отражающему слою другой пластины, а входной и выходной коллиматоры установлены ортогонально отра" аающим граням штрихов дифракционной решетки. 45Ва чертеже приведена функциональная схема многолучевого интерферомет" ра.Интерферометр содержит входной коллиматорс источником света, выходной коллиматор 2, пластинку 3 с .Отражающим покрытием, дифракционнуюрешетку 4 с симметричным профилем штрихов и систему сканирования 5.Устройство работает следующим об разом.Исследуемый световой поток, выходящий из входного когцтиматора 1 падает под углом 1 на пластинку 3. После прохождения отражательного слоя пластинки 3 световые лучи падают по нормали на левые грани штрихов дифракционной решетки 4, от которых они отражаются обратно в сторону пластинки 3. После отражения от слоя пластинки 3 световой поток падает по нормали на правую грань штриха, отражаясь от которого частично выходит через отражающий слой пластинки 3 в сторону выходного коллиматора 2. Лучу, чтобы выйти иэ схемы многолучевого интерферометра в направлении к коллиматору 2, нужно пройти путь, равный 41 /соэ 1 . Далее ход лучей внутри схемы повторяется снова и в . стороны выходного коллиматоры направляется новая часть радиации, которая интерферирует с ранее прошедшей и т.д. Дифракционная решетка 4 установлена на сканирующем устройстве 5. Таким образом, при смещении дифракционной решетки 4 интерференционные кольца на выходе коллиматора 1 сбольшей частотой смещаются в фокальной плоскости по сравнению с обычным интерферометром ФП. При больших углах падения 1 и отражения частота смещения колец возрастает в 2/сфэ 1о раз, например, при 1=ЬО, частота. модуляции увеличивается в 4 раза.С другой стороны по сравнению с прототипом в предлагаемом устройстве покачивания сканирующего элемента дифракционной решетки 4 при работе устройства 5 вносят меньшие ошибки и изменение разности хода. Так при ее наклоне по часовой стрелке в пра-,вом наклонном плече разность хода,например, будет возрастать, а в левомнаклонном плече, наоборот, будетуменьшаться в первом приближении натакую же величину. В результате разность хода в предлагаемом устройствезависит в первую очередь только отрасстояния дифракционной решетки 4до пластинки 3 и меньшей степени отнаклонов дифракционной решетки 4,появляющихся при сканировании, т.естабильность оптической схемы повышается на порядок,Повышенная разрешающая способностьпредлагаемого устройства при анализесложных спектров при меньшей баземежду оптическими элементами делаетего более предпочтительным по сравнению с базовым объектом, так как приЗаказ 4939/29 Тираж 587 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий . 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5филиал ППП "Патент", г.ужгород, ул.Проектная, 4 3 110307 прочих равных условиях разрешающая способность в предлагаемом устройстве возрастает в 2/ссэ . Например, при=бО разрешающая способность возрастает в 8 раэ.5 Подобные системы могут найти применение .в метрологии, голографии, измерительной технике и спектроскопии 0 4и т.д. В частности предлагаемое устройство может быть использовано присоздании многолучевого фурье-спектрометра - прибора нового типа. Причемпоследний будет обладать не толькобольшей разрешающей способностью применьших габаритах, но имеющий болеевысокую (на порядок) стабильностьоптической схемы,