Травильный раствор
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 816983
Автор: Ряховская
Текст
Оп ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИ ВТИЛЬСТВУСоюз Советских Социалистических Реслублик(22) Заявлено 130679 (21) 2777290/29-33 с лрисовдинвнием заявки Н 9 С 03 С 15/00 Гасударственный квинтет СССР яе ямам нзобретеннй н открытнй(71) Заявитель ВВ КЛИО "1 Ь:(54) тЫВИЛЬНЫй ЫСтВОР 1 О 6-36 15 30 Изобретение относится к технике травления и может быть использовано при вытравливании рисунка на свинцово-силикатных металлостеклянных пленках методом Фотолитографии.Известен раствор 1 для травления моноокиси кремния, включающий, вес.Ъ:о48-ная фтористо. водородная кислота 2-22фтористый аммоний30-ная перекисьводорода 21-22Вода 12-108Укаэанный раствор не применяют при вытравливании рисунка на свинцово-силикатных металлостеклянных пленках.Наиболее близким к предлагаемому по назначению и составу является травитель 2 1 для растворения в процессе фотолитографии свинцово-боросиликатного стекла, содержащий, об.Ъф 25Плавиковая кислота 2 + 0,5Азотная кислота 5 ф 0,5Уксусная кислота 100 + 20Деиониэированнаявода 500 50 При использовании этого состава для вытравливания рисунка на свинцово-силикатных пленках время травления составляет 4-6 мин, пленка стравливатся неравномерно, вытравленный рисунок имеет неровный край и местами протравы по фотореэистору. Через 2-3 мин после начала травления происходит отслаивание фоторезиста го краям рисунка. Подтрав под фоторезист достигает значительных величин, искажаются Форма и размеры величин, искажаются Форма и размеры вытравлен. ных фигур. Причина отслаивания фоторезиста заключается в том, что, кроме травления по фронтальной поверхности пленки, происходит бокОвой подтрав под фоторезист, который увеличивается с временем воздействия травления.Цель изобретения -сокращение времени растворения незащищенных Фото- резистором участков свинцово-силикатных металлостеклянных пленок.Поставленная цель достигается тем, что в травильный раствор, включающий плавиковую, азотную и уксусную кислоты, дополнительно вводят перекись водорода при следующещ соотноше- нии компонентов, об,В:816983 Состав травителей, об.% Компоненты.Свойства 33,5 25,0 33,5 Плавиковая кислотаАзотная кислотаУксусная кислота 28,0 33,5 25,0 33,5 25,0 32, О. 8,0 8,0 15,0 Перекись водорода Время полного стравливания, сек 20 22 Образование шлама Незначительное Разрушение фотореэиста За время травления не разрушается 28-34 .25-35 25-358-15 Плавиковая кислотаАзотная кислотаУксусная кислотаПерекись водорода Формула изобретения Составитель О, Самохина Редактор Н. Бушаева Техред Н. Ковалева Корректор М. ВигулаЗаказ 1191/29 Тираж 520 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 4Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная,Плавиковая кислота 28-34 Азотная кислота 25-35Уксусная кислота 25-35Перекись водорода 8-15 Травитель составляют простым смешиванием концентрированных кислот.Перекись водорода добавляют непосредственно перед использованием.Примеры предлагаемого состава и его свойства приведены в таблице.Время травления в растворах предлагаемого состава в 10 раз меньше,Травильный раствор, преимуществен: З но для свинцово-силикатных металло- стеклянных пленок, включающий плави-, ковую, азотную и уксусную кислоты, о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, с целью сокращения времени. растворения пленок, он дополнительно содержит перекись водорода при следующем соотношении компонентов, об,: чем в известных травителях, благодаря этому исключено отслаивание фОторезиста. Кроме того, в растворах почти не образуется шлама, величина подтрава составляет 5-8 мкм, а неровность края не превышает 4 мкм.Все это обеспечивает возможность .визуального контроля процесса и изготовления методом фотолитографии, например, резистивных элементов с точностью, достаточной для применения в микроэлектронике. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1. Авторское свидетельство СССРР 240792, кл. С 03 С 15/00, 1967.2. Авторское свидетельство СССР9 230996, кл. С 03 С 15/00, 1966.
СмотретьЗаявка
2777290, 13.06.1979
ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-2502
РЯХОВСКАЯ ТАМАРА ИВАНОВНА
МПК / Метки
МПК: C03C 15/00
Метки: раствор, травильный
Опубликовано: 30.03.1981
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-816983-travilnyjj-rastvor.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Травильный раствор</a>
Предыдущий патент: Эмалевый шликер
Следующий патент: Способ нанесения покрытия на заготов-ку световода
Случайный патент: Способ производства сметаны