Способ изготовления отражающихкопий дифракционных решеток

1111 8192 Союз Советских Социалистических Республик(088.8) делам изобретеии и открытий 5) Дата опубликования описания 07.03,8 1(72) Авторы изобретен С. А, Стрежнев, В, П. Петров, Я, К. Лукашевич 71 Заявите Б ИЗГОТОВЛЕНИЯ ОТРАЖАЮЩДИфРАКЦИОННЫХ РЕШЕТОК ПИ 4) С Изобретение относится к технологии изготовления оптических элементов, в частности, отражающих копий дифракционных решеток для ультрафиолетовой области спектра и может быть широко использовано в 5оптико-механической промышленности.Известен способ изготовления копий дифракционных решеток путем нанесения нарешетку-матрицу слоя алюминия с подслоем хрома (или титана) - защитного слоя, 1 Ообработки покрытия гидрофобизирующпмраствором (парами диметилдихлорсилана),нанесения слоя полимеризационноспособного материала (смолы), совмещения поверхности решетки-матрицы с подложкой копии 15из стекла, отверждения материала и отделения изготовленной копии от решетки-матрицы 1,Наиболее близким по технической сущности и достигаемому результату к изобретению является способ изготовления копийдифракционных решеток путем нанесенияна решетку-матрицу в вакууме разделительного и защитного слоев (:/мм) приклеивания подложки из стекла, отделения копии 25от решетки-матрицы по разделительномуслою, удаления разделительного слоя, атакже последующего нанесения на защитный слой отражающего покрытия, например, ал 1 омннпя и фтористого магния, вольфрама, золота, платины и т. д. 2.К недостаткам этих способов относятся низкий коэффициент отражения копий дифракционных решеток в ультрафиолетовой области спектра, что связано с изменением профиля штрихов в процессе нанесения на готовую копию отражающего покрытия, а также возможность загрязнения поверхности копии при пх изготовлении.Цель изобретения - повышение коэффициента отражения копий решеток в ультрафиолетовой области спектра.Зто достигается тем, что в известном способе изготовления отражающих копий дифракционных решеток путем нанесения в вакууме на решетку-матрицу разделительного и защитного слоев, приклеивания стеклянной подложки, отделения копии, удаления разделительного слоя и нанесения в вакууме отражающего покрытия, отражающее покрытие наносят на разделительный слой перед нанесением защитного слоя.Отражающие копии дпфракцпонных решеток по предложенному способу изготавливаются в следующей последовательности.На дпфракционную решетку-матрицу, поверхность которой защищена любым из известных способов, наносят в вакууме разде811192 Формула изобретения Составитель М. Шойтов Техред А, Камышникова Корректоры: О. Силуянова и О. ТюринаРедактор И. Квачадзе Заказ 519/17 Изд. Хо 246 Тираж 553 Подписное НПО Поиск Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж.35, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр. Сапунова, Е лительный слой, например маннит, высоко- отражающее покрытие, например вольфрам для копий, работающих в области спектра короче 110 нм, фтористый магний - для области более 110 нм, покрытие, например 5 слой алюминия, приклеивают подложкукопии, отделяют изготовленную копию от решетки-матрицы по разделительному слою, а затем удаляют разделительный слой с копии решетки, 10Ниже приведен конкретный пример выполнения описываемого способа.Проводили изготовление отражающих копий дифракционных решеток для ультрафиолетовой области спектра. На дифракцион ную решетку-матрицу 1800 штр/мм, изготовленную на слое алюминия и защищенную одним из известных способов в вакууме, последовательно наносили разделительный слой - маннит, высокоотражающее по крытие - фтористый магний, защитное покрытие - слой алюминия толщиной порядка 1 мкм. Затем приклеивают подложку копии из стекла, отделяют изготовленную копию от решетки-матрицы и удаляют разде лительный слой с копии решетки.Нанесенце высокоотракающего покрытия в вакууме на разделительнып слой перед нанесением защитного покрытия обеспечивает выполнение профиля штрихов копий решеток, полностью соответствующих профилю штрихов решеток-матриц, При этом коэффициент отражения копий решеток в ультрафиолетовой области спектра увеличивается. Способ изготовления отражающих копий дифракционных решеток путем нанесения в вакууме на решетку-матрицу разделительного и защитного слоев, приклеивания стеклянной подложки отделения копии, удаления разделительного слоя и нанесения в вакууме отражающего покрытия, отличающ и й с я тем, что, с целью повышения коэффициента отражения копий решеток в ультрафиолетовой области спектра, отражающее покрытие наносят на разделительный слой перед нанесением защитного слоя,Источники информации,принятые во внимание при экспертизе 1. Авторское свидетельство СССР М 404036, кл. 6 02 В 5/18, 1970.2. Патент СШЛ Мв 2464738, кл, 264 - 1;1963.