ZIP архив

Текст

Республик 1) Дополнительное к авт. свид-ву Кл г Н 05 К 3/О Н 011. 21/ 05,05.74 (21) 2025520/262 3 аявл нением заявк с при Государственныи комитет риоритет Совета Министров СССро делам изобретенийи цткрытиК,48 (088.8) 12 0.03.76, Бюллетен убликов Дата опубликования описания 16.06.7 ТОШАБЛОН базовых меток тие 3 с селектив зрачное для той роизводится совз экспонирующего 2 нанеым свеобласти ещение, излучеместо расположения сено защитное покрь топропусканием, про спектра, в которой п и непрозрачное для Изобретение относится к области полупроводникового производства и может быть использовано, в частности, для производства многослойных структур,Известны фотошаблоны, содержащие стеклянную подложку, на рабочей поверхности которой выполнены рисунок из маскирующего материала, непрозрачного для экспонирующего излучения, и базовые метки для совмещения упомянутого рисунка фотошаблона с подложкой микросхемы.Однако использование фотошаблонов при большом числе фотолитографий требует нанесения большого количества пар базовых меток на полупроводниковой пластине, что приводит к уменьшению полезной площади пластины, то есть увеличению потерь полупроводникового материала,С целью повышения точности совмещения и сокращения потерь материала подложки микросхемы на нерабочей поверхности стеклянной подложки фотошаблона напротив каждой базовой метки нанесено покрытие из материала с селективным светоиспусканием, прозрачного для области спектра, в которой производят совмещение, и непрозрачного для экспонирующего излучения.На чертеже изображена схема фотошаблона с базовыми метками.На нерабочей стороне фотошаблона 1 на ния.Совмещение полупроводниковой пластины,покрытой фоторезистом, с фотошаблоном производят по базовым меткам. Возможность сов мещения обеспечивается прозрачностью защитного покрытия в видимой области спектра.Затем полупроводниковую пластину вводят в контакт с фотошаблоном и экспонируют.Участки пластины, на которых расположены 15 базовые метки, остаются неэкспонированнымиблагодаря защитному покрытию и поэтому при проявлении и травлении они остаются покрытыми фоторезистом, то есть пригодными для следующей фотолитографии.20 Таким образом, неограниченное количествосовмещений возможно производить лишь по двум базовым меткам, то есть большая площадь полупроводниковой пластины остается рабочей - сокращаются потери полупровод пикового материала.При каждой очередной фотогравировке базовый знак, содержащийся на соответствующем фотошаблоне, не экспонируется, то есть не переносится на полупроводниковую под ложку и совмещение осуществляется по од508974 Формула изобретения Составитель Т. БогдаловаТехред Т, Колесова Корректор А. Галахова Редактор Н. Коляда Заказ 1310/2 Изд.1329 Тираж 1029 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета Совета Министров СССР по делам изобретений и открытий 113035, Москва, Ж.35, Раушская наб., д. 4/5Типография, пр. Сапунова, 2 ним и тем же меткам, содержащимся на полупроводниковой подложке, что позволяет повысить точность совмещения. Фотошаблон, содержащий стеклянную подложку, на рабочей поверхности которой выполнены рисунок из маскирующего материала, непрозрачного для экспонирующего излучения, и базовые метки для совмещения упомянутого рисунка фотошаблона с подложкой микросхемы, отличающийся тем, что, с целью повышения точности совмещения и сокращения потерь материала подложки микросхемы, на нерабочей поверхности стеклянной подложки фотошаблона напротив каждой базовой метки нанесено покрытие из материала с селективным светопропусканием, прозрачного для области спектра, в которой произво дят совмещение, и непрозрачного для экспонирующего излучения.

Смотреть

Заявка

2025520, 05.05.1974

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Р-6707

КОРНЮШИН НИКОЛАЙ ДМИТРИЕВИЧ, ОРЕНМАН АРКАДИЙ ХАИМОВИЧ, ФАНДЕЕВ ВЛАДИМИР ВИКТОРОВИЧ

МПК / Метки

МПК: H01L 21/363, H05K 3/06

Метки: фотошаблон

Опубликовано: 30.03.1976

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-508974-fotoshablon.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Фотошаблон</a>

Похожие патенты