ZIP архив

Текст

(61) ЗависиоОе от авт. свцдетельства 19,05,69 (21) 133032026 о 13 00 51) 1 К явле соедицением заявки 32) ио т Государственный квинтеСовета Министров СССРоо делан изобретениЯн открытий 53) УДК 621.319.4.0.5 (088.8) 4. Балле убликов о а опубликования описацпя 16.09.7 2) Авторы изобретения Я. Айвазов и В,обк,71) Заявитель 54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИАПЫ,Г 1 ЕНИЯ ПОЛИ 1 ЧЕ ДИЗЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК Изобретение относится к техиологии производства радиоаппаратуры и может быть исцользоваио для изготовления диэлектриче- СКИХ СЛОЕВ тОИКОПЛЕЦОои 1 ЫХ КОЫДЕИСатОРОВ, изолирующих и защитцых слоев хикросхсм 5 различной конфигурации.Известно устройство для изготовления диэлектрических слоев методом полимеризации в тлеющем разряде. В этом устроцствс диэлектрические полимерные плецки цапыляют 10 иепосрсдствецпо иа метгллические поверхности, которые служат электродами тлеющего разряда. Поэтому известное устройство це кОжет быть применено для напыления поли.;ерцых диэлектрических плецок ца изолиро ванные подлокки на тех участках, где топо- логически предусмотрспо использование их в качестве диэлектрика тонкоплецочиого конденсатора, изолирующего или зящитиого слоя. Кроме того. цри цолцмеризации на элек тродс наблюдается исравцомерцость толщины полимерного слоя, что приводит к сиикепиа электрической ирочцостц тонкопленочного коцдецсаторя и зависимости эффективнойе:кости коцдсцсатора От сга ц 0 мц И Я11.Цель изобрстсиия - иолучеш 1 с равномерной ио толщине и одцородцой ио электрофизическцм параметрам полимерной диэлектри- ЧССКОИ ЦЛСИ 1+.И ЗЯДЯ 111 ОИ КоцфИГУРЯЦИИ, ЧТО 30 увелпиит 1:роцсцт выходя годных микросхем и с, 11 зит их себсстои.ость.3 а даст 1 ггяется гсм, что ца илоскис металлическис электроды, пяряллельцые и соосиые между собой и ияряллел; цые и соосные с подложкой, с тыльной стороны укреплены пляс-иць; из диэлсктри:сскога материала, а система совмеисция подла;фкек с кяскями элсктри вски изолирована от корпуса устрой вг 1 Я чертеже изображсцо предлагаемое устройства.Устройство состоит из вякуу.ц 1 ой камеры 1, с 1:стсмы .". ияцуска паров аргяш 1 чсской жидкоси 3 с всцтилсм 4, отключающим системуат кяерь 1, и,1 оских етял:1 иеских электродов 5, подложки 6, пластин 7 из вакуумцо о диэлекгргчсского материала, системы 8 совмсщсиия подложек 6 с масками 9, изолирующих фляццсв 1 О., с граце, ва раоат 1 ет слсдх 1 Оиим образом.В 1 Якл миую камсру 1, давление в которой сасгяв.яст 1 10- мм рт. ст., открыв вентиль 1 с 1 гстсмы , цаг скают пары рабочей жидкости 3. Скя дявлсиис в камере 1 це станет 11 явць 1. 0.2 - 0.5 1;и рт, ст. Зягем ия электроды 5 иодяк;т цаиряжсцис Г-=500- 800 в частоты 1 00 гц. При этом ц всех открытых х ьясткях 1 гадложк; 6 через окия в маске 9 формиох ется цоги.;1 сри 1 я диэгектри еская3пленка за счет бомбардировки подложки диффузным потоком ионов и возбужденных молекул, ооразующпхся в тлеющем разряде.Скорость формирования пленки определяется концентрацией ионов и возбужденных частиц в плазме, давлением и составом паров органической жидкости в камере. Для получения равномерной по толщине и однородной по электрофпзическим свойствам полимерной пленки необходимо, чтобы плазма была однородна у всей поверхности подложки, а так как концентрация ионов и возбужденных частиц в плазме акспально симметрична в сечении, параллельном электродам, в устройстве используются плоские электроды 5, параллельные и соосные между собой и параллельные и соосные с подложкой 6, Кроме того, аксиальная система концентрации ионов и возбужденных частиц в плазме будет выполняться только в том случае, если будет максимально исключена электрическая утечка из области разряда, и область разряда максимально локализована в пространстве между электродами. Зто условие выполняется 4благодаря изоляции обоих электродов от корпуса устройства с помощью пластин 7 из вакуумного диэлектрического материала, изоляции системы совмещения подложек с мас ами с помощью фланцев 10диэлектрического .датериала и диэлектрического экранировапия области тлеющего разряда.Предмет изобретенияУстройство для напыления полимерных диэлектрических пленок, содержащее вакуумную камеру, снабженную системой совмеще.ния подложек с масками, систему напуска 15 паров, плоские металлические электроды, расположенные параллельно и соосно подложке, отличающееся тем, что, с целью получения равномерных и воспроизводимых по толщине и электрофизическим свойствам пленок 20 заданной конфигурации, на металлическиеэлектроды с тыльной стороны укреплены пластины из диэлектрического материала, а система совмещения подложек с масками электрически изолирована от корпуса устройства.

Смотреть

Заявка

1330320

В. Я. Айвазов, Г. Кобка

МПК / Метки

МПК: C23C 14/12

Метки: 294544

Опубликовано: 15.04.1974

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-294544-294544.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">294544</a>

Похожие патенты