C23C 14/12 — органический материал

Вакуумная установка для нанесения электрофотографических слоев на цилиндрические подложки

Загрузка...

Номер патента: 374387

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Биктагиров, Броницкий, Исл, Казакова, Колосов, Коньков, Негод, Подвигалкин, Рейцман, Тутова, Шнейдман

МПК: C23C 14/12

Метки: вакуумная, нанесения, подложки, слоев, цилиндрические, электрофотографических

...1, внутские подль 4.ановлены ритель 4 тх чашек куумнои камерь ены цилиндриче и 3 и испарите подложки 2 уст орах б, а испа вательно надет ри кото ложкиЦиль на вра выполи Изобретение относится к нанесению покрытий в вакууме,Известна вакуумная установка дния электрофотографических слоевщая вакуумную камеру, внутри коположены цилиндрические подложватели и испаритель,Однако в известной установке нерно использован объем камеры и низводительность.Цель изобретения - увеличениедительности работы установкиПредлагаемое устройствоо нагреватели установленыащающихся опорах внутридложек, а испаритель выпотельно надетых чашек на б на трубчатую печь 7 и расположен по оси камеры.В чашки б загружается испаряемое вещество. Цилиндрические подложки 2,...

294544

Загрузка...

Номер патента: 294544

Опубликовано: 15.04.1974

Авторы: Айвазов, Кобка

МПК: C23C 14/12

Метки: 294544

...от корпуса устрой вг 1 Я чертеже изображсцо предлагаемое устройства.Устройство состоит из вякуу.ц 1 ой камеры 1, с 1:стсмы .". ияцуска паров аргяш 1 чсской жидкоси 3 с всцтилсм 4, отключающим системуат кяерь 1, и,1 оских етял:1 иеских электродов 5, подложки 6, пластин 7 из вакуумцо о диэлекгргчсского материала, системы 8 совмсщсиия подложек 6 с масками 9, изолирующих фляццсв 1 О., с граце, ва раоат 1 ет слсдх 1 Оиим образом.В 1 Якл миую камсру 1, давление в которой сасгяв.яст 1 10- мм рт. ст., открыв вентиль 1 с 1 гстсмы , цаг скают пары рабочей жидкости 3. Скя дявлсиис в камере 1 це станет 11 явць 1. 0.2 - 0.5 1;и рт, ст. Зягем ия электроды 5 иодяк;т цаиряжсцис Г-=500- 800 в частоты 1 00 гц. При этом ц всех открытых х ьясткях 1...

Устройство для контроля толщины пленок

Загрузка...

Номер патента: 1147769

Опубликовано: 30.03.1985

Авторы: Беляковский, Орлов, Савчук, Сергеев

МПК: C23C 14/12, G01B 11/02

Метки: пленок, толщины

...контроля толщины размещено в вакуумной камере 14,- имеющей смотровые окна 15, 16 и 17. Напротив смотрового окна 16 размещен Фотоприемник 18, На Фиг. 2, 3 и 4 представлено по Фазам взаимодействие вращающихся с одинаковой угловой скоростью карусели 8 и обтюратора 12 при измерении интенсивности излучения в режимах "Пропускание" и "Отражение" в процессе напыления.Устройство работает следующимобразом,При вращении модулятора 2 с определенной частотой, на порядок превышающей частоту вращения карусели 8и обтюратора 12, попеременно посылаетая сигнал для измерения интенсивности излучения в режиме "Пропускание"; источник 1 - зеркало 3 - зер-,кало 4 - подложкодержатель 9 сподложкой (или.со сквозным отверстием 10) - зеркало 7 с...

Устройство для распыления материалов в вакууме

Загрузка...

Номер патента: 1707084

Опубликовано: 23.01.1992

Автор: Коновалов

МПК: C23C 14/12

Метки: вакууме, распыления

...электрических соединений представлена схема устройства с заземленным анодом (фиг,1), как оптимальная с точки зрения работы устройства.Устройство работает следующим образом,После достижения необходимого вакуума, порядка 1,33 10 -1,33 10 Па, в рабочей камере (не показана) включается источник 1 ионного распыления и производится распыление мишени 3 пучком 2 ионов.Одновременно с этим включается и источник зле тронов, для чего термокатод б с помощью нн,ковольтного источника 9 разогревается до температуры эмиссии электронов прямым пропусканием тока. Под действием высокого напряжения источника 14 электроны ускоряются по направлению к экрану-аноду и выводятся в формедискового электронного потока 12 через кольцевой зазор, образованный...