Способ электролитического осаждения покрытия с диспергированными частицами
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 264876
Авторы: Парфенов, Урукайте, Химической, Хот
Текст
Союз Советских Социалистических Реслублииависимое от авт. свидетельства л, 48 а, 5/26 Заявлено 08,Х 11,1966 ( 111с присоединением заявки МПриоритет 22-1) 1 ПК С 23 Ь 5/26 ДК 669.228,7(0 Комитетобретени елам ткрытий ликовано 03.11.19 Бюллетень Хо 9 ри Совете МинноСССР Дата опубли ковани 7 У 111 197 сани яурукайтеитовской ССР Авторыизобретения, Хотянович, В, А. П Заявит ститут химии и химической технологии АН Л ЭЛЕКТРОЛИТИЧЕСКОГО ОСАЖДЕНИЯ ПО С ДИСПЕРГИРОВАННЬ 1 МИ ЧАСТИЦАМИ СПО Т способ ия жар лектрол о,приэ ношени е сереб лий алий тем, ч и электр асканск нты бер отличаетсяостойкости ит вводяттом компони, г/л:ро 0 - 45 0 - 70 0 - 45 8 - 12 1 - 2 0 - 2 тонитом 1 - 3ри 20 Сдл-. тки кат ой плот онепрерывном поагнитной или меха ме- ниПроцесс проводят пришивании электролита мческой мешалкой.В качестве стекла прикомпозицию, вес. ч.:31 Ое 38; ВаО 44; ВеО, б,5; СаО 4,0; ВеОХпО 5,0.Состав подобран с учетом параметров стла и серебра, Варку стекла производят в квцевых тиглях в силитовой печи при 1500После варки стекло отжигают при 550 С,мельчают, размалывают в шаровой мельнв водной среде в течение 8 - 12 час, после ч ек ар. оС изице3 Известен спасо чения серебряног ными частицами,Предложенный с целью повышен проводности, в э бентонит и стекл в следующем соот металлическо цианистый ка углекислый к едкое кали асканский бе стекло с зерт и процесс ведут сти тока 1,5 - 2 а/электрохимического попокрытия с диспергнров методом отмучивания отделяют фракцию сразмером частиц от 1 до 3 мк,Перед нанесением покрытия изделия, например никелевые, обезжиривают, анодно обрабатывают в 15%-ном растворе соляной кислоты при плотности 1,2 а/дме в течение 3 - 5 люпри температуре 30 С.Тигановые изделия обрабатывают в 80%-номрастворе серной кислоты без наложения токапри температуре 90 С в течение 3 лик. Затемдсгали промывают водой и загружают в ванну серсбрсиия вышеуказанного состава.Осле осаждения покрытия деталь промывают дистиллированной водой, сушат при температуре 150 в 2 С в течение 30 чан подвергают термообработке в муфельной электропечи при температуре 900 С в течение 1,0- -2,0 чан. В результате такой обработки на поверхности детали формируется плотный защитный слой, выдерживающий нагрев до800 С в течение 80 - 100 час. обладающий вэтих условиях высокой электропроводностью.Для повышения жаростойкости покрытия,выдерживающего нагрев свыше 100 час чритемпературе 800 С, необходимо на серебряное покрытие дополнительно нанести второйонкий слой стекла вышеуказанного состава.Этот слой наносят, опуская деталь с металлокерамическим покрытием в концентрированную водную суспензию, содержащую тонко264876 Составитель С. КалмыковаТехред Л. В, Куклина Корректор В. А. Голоскер Редактор В. Сорокин Заказ 2220/1 Тираж 480 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССР Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 дисперсные частицы стекла размером от 1 до3 мк, или методом электрофоретического осаждения из указанной выше суспензии стекла. Предмет изобретенияСпособ электролитического осаждения покрытия с диспергированными частицами, например серебра, из электролита на основе соли серебра, цианистого калия, углекислого калия, едкого кали, отличающийся тем, что, с целью повышения жаростойкости и электропроводности, в электролит вводят асканский бентонит и стекло, при следующем соотношении компонентов, г/л:металлическое серебро 30 - 45 5 цианистый калий 40 - 70углекислый калий 30 - 45 едкое кали 8 - 12 асканский бентонит 1 - 2 стекло с зерном 1 - 3 лк 10 - 20 10 и процесс ведут при 20 С и катодной плотности тока 1,5 - 2 а/дя 2,
СмотретьЗаявка
1118272
С. И. Хот нович, В. А. Парфенов, Л. М. урукайте Институт химии, химической технологии Литовской
МПК / Метки
МПК: C25D 15/00, C25D 3/46
Метки: диспергированными, осаждения, покрытия, частицами, электролитического
Опубликовано: 01.01.1970
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-264876-sposob-ehlektroliticheskogo-osazhdeniya-pokrytiya-s-dispergirovannymi-chasticami.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ электролитического осаждения покрытия с диспергированными частицами</a>
Устройство для осаждения и отвода частиц жидкой фазы из газожидкостного потока
Номер патента: 1346202
Опубликовано: 23.10.1987
Авторы: Ловейко, Лукьяненко, Малкин, Маркин
МПК: B01D 45/08
Метки: газожидкостного, жидкой, осаждения, отвода, потока, фазы, частиц
...и корпусом 1, поддерживая. температуру в камере осаждения на 10-30 С выше температуры застывания жидкой фазы. Иными словами, газо(паро)воздушная смесь выполняет роль активной изоляции.Через эаборник 9 происходит подсос холодного воздуха, что вызывает конденсацию в камере 3. Сконденсированная жидкая фаза осаждается на пластинах, скатывается по имеющимся канавкам в сторону естественного наклона и падает с треугольников, не касаясь стенок камеры благодаря отражательным щитам, расположенным под углом к пластине.Отсепарированная жидкая фаза не застывает на стенках в случае попадания) и пластинах камеры конденсации благодаря наличию активной изоляции, поддерживающей температуру в камеры выше температуры застывания, отводится за пределы...
Способ осаждения высокодисперсных минеральных частиц из водных суспензий
Номер патента: 380355
Опубликовано: 01.01.1973
МПК: B01D 21/01, B03D 3/06
Метки: водных, высокодисперсных, минеральных, осаждения, суспензий, частиц
...способы осаждения высокодцсперсных,минеральных частиц из водных суспензий с добавлением реагентов-флокулянтов. Известны и,широко применяготся различные реагенты-флокулянты. В СССР - полиакрцламид, гидролизованный полиакриламид, гипан, метас, полиокс, Комета и др,; за руоежом - сепаран, седипур, аэрофлоки, полуфлоки, магнафлоки, акринакс, седохгагос, экофаег и др.Предлагаемый способ отличается от известных тем, что в качестве реагента-флокулянта применяют продукт конденсации алкилдиметиламинов Сго - Сео с дихлорэтаном, имеющий структурную формулу где К=Сгг - С,о цлп СгеПо предлагаемокгу способу флокулянтпредставляет сооой нетогосичную коричневатую, легкоподвнжную жидкость, хорошо рас творяющуюся в вгде и органических жидкостях. Товарная...
Устройство для осаждения и отвода частиц жидкой фазы из газожидкостного потока
Номер патента: 1095955
Опубликовано: 07.06.1984
Автор: Седова
МПК: B01D 45/08
Метки: газожидкостного, жидкой, осаждения, отвода, потока, фазы, частиц
...что в устройстве для осажденияи отвода частиц жидкой фазы из газожидкостного потока, включающем установленные под углом к нему парал.лельные пластины с отверстиями и выступами под ними, поверхность пластин и выступов с обеих сторон выполнена с рельефами в виде каналов, приэтом каналы на выступах имеют общийсток, отверстия и выступы выполненытреугольной формы, пластины в местестока снабжены зубцами, а каждаяпластина полностью перекрывает сечеьие устройства.На фиг. 1 изображено устройство.для осаждения и отвода частиц жидкой фазы из газожидкостного потока; наФиг. 2 - пластина, вид сверху; нафиг. 3 - вид А на фиг. 1 (выступ,увеличено).Устройство содержит параллельныепластины с отверстиями 2 и выступами 3. Поверхность пластин и...
Устройство для определения температуры взвешенных частиц в газовом потоке
Номер патента: 1617312
Опубликовано: 30.12.1990
Авторы: Вольчин, Кривошеев, Макарчук, Марущак
МПК: G01J 5/52
Метки: взвешенных, газовом, потоке, температуры, частиц
...со средней интенсивностью 1 рсобственного излучения частиц и интенсивностью 1 о излучения эталонного источника зондирующего излучения.При пересечении частицами движущейся газовзвеси светового пучка эталонногоисточника часть светового пучка ослабляется частицами. Поэтому поток излученияФ (1), регистрируемый фотоприемником вмомент времени 1, состоит из собственногоизлучения частиц и прошедшей части излучения эталонного источника и имеет следующий вид10 й(е)Ф(т) = 5 Х 1 р)+1 о(Зой, (1)где Й(т) - число частиц в поле зрения фотоприемника в момент времени т;1 р) - интенсивность излучения 1-й частицы;Я - площадь отдельной частицы;Яо - площадь поля зрения фотоприемника.Усреднив по времени уравнение (1),получают выражение для среднего...
Способ плазмохимического осаждения пленок фосфоросиликатного стекла
Номер патента: 1795829
Опубликовано: 20.02.1996
Авторы: Кастрицкий, Козлов, Корешков, Красницкий, Турцевич, Химко
МПК: H01L 21/316
Метки: осаждения, плазмохимического, пленок, стекла, фосфоросиликатного
...более 2 ат. о, возрастает в 5 и более раз, что обуславливает улучшение пассивирующей способности пленки за счет повышения ее влагостойкости и повышение стойкости стекла к диффузии ионов металлов.Выбор отношения ингредиентов закись азота-аммиак при осаждении пленки ФСС сделан на основе экспериментальных результатов.При соотношении ингредиентов закись азота-аммиак менее 5 ухудшаются условия для введения фосфора в пленку, что обуславливает ухудшение качества ФСС из-за увеличения дефектности,При соотношении ингредиентов закись азота-аммиак более 25 ухудшается пассивирующая способность пленки из-за уменьшения количества азота в ней, что наряду с увеличением привносимой дефектности обуславливает ухудшение качества пленок ФСС.Возможность...
Предыдущий патент: Составной электрод-инструмент для электрохимической обработки
Следующий патент: 264877
Случайный патент: 331969