Однообъективиый растровый микроскоп

Номер патента: 40859

Опубликовано: 31.12.1934

Автор: Максутов

МПК: G02B 21/04

Метки: апертуры, высокой, микроскопов, объектив

...ниже апертуры центрального экранирования, - дает возможность получить ультрамикроскоп высокой апертуры в крайне простом и изящном виде и без особых осветителей темного поля, так как Данный объектив, в зависимости от апертуры конденсора, регулируемой диафрагмой, всегда приспособлен к работе и как объектив микроскопический и как объектив ультрамикроскопический,На чертеже фиг. 1 - 4 изображают схемы хода лучей в различных вариантах устройства предлагаемого объектива.На схеме хода лучей, изображенной на фиг. 1, литера 5, обозначает светящуюся точку, а 5 г - ее изображение, Центр кривизны поверхности совпадает с точкой 5 а поверхности П - с точкой 5 Г 1 оверхность Ц - в данном случае эллипсоид вращения, весьма близкий к параболоиду. В...

Номер патента: 46061

Опубликовано: 29.02.1936

Автор: Воскресенский

МПК: G02B 21/02

Метки: микроскоп

...положении тубуса сходились на оси тубуса несколько ниже рассматриваемого объекта, Ножка нижнего осветительного зеркала такой длины, чтобы центр его был на оси тубуса. По размерам нижнее вогнутое зеркало должно быть .несколько больше верхнего, дабы при отбрасывании им лучей к верхнему зеркалу последнее могло быть использовано все полностью,На том же стержне, на котором помещено нижнее осветительное зеркало, помещается и приспособление для передвижения по вертикали (наводки в фокус) зеркала. объектива 28. Здесь имеется лишь микрометрическая наводка на фокус; грубая наводка не нужна, так как ножки оправ объективов рассчитаны таким образом, что при помегцении каждого данного объекта в гнездо держателя рассматриваемый объект будет находиться...

Номер патента: 66325

Опубликовано: 01.01.1946

Автор: Кондратьев

МПК: G01J 1/04, G01J 1/22

Метки: времени, облучения, объекта, прибор, светом, солнечным

...тени, которую отбрасывает пластинка В на линейку А, приведенную в горизонтальное положение и ориентированную так. чтобы тень занимала всю ее ширину.При помощи шкал линейки А находится продолжительность дозы при совершенно ясном небе, назовем условно такую дозу нормально. В случае появления облачности, при появлении пыли, наконец, гри высокой влажности воздуха продолжительность дозы изменяется и ее величина определяется с помощью оптического клина Р, движущегося в салазках Е по наружной стороне пластинки В. Клин Р представляет собой прозрачную линейку, на которую наклеены слои желтсго целлофана, Число слоев растет от одного края клина до другого. У верхнего обреза клина располагаются числа, которые опреЛо 66325 Отв, редактор В, Н. Костро...

Номер патента: 618610

Опубликовано: 05.08.1978

Автор: Боленок

МПК: F21V 7/09

Метки: осветительных, отражатель, приборов, света

...имеюший на ренней поверхности гофры, покрытые миниевой пленкой, размещение которы спечивает заданную кривую силы свет бора.Недостатками этого отражателя яв ся одинаковые отражаюшие свойства и участках его поверхности и трудность чения заданной кривой силы света,Цель изобретения -- получение различных отражающих свойств на различных участках внутренней поверхности отражателя.Эта цель достигается тем, что алюминиевая пленка, покрывающая внутреннюю поверхность отражателя, имеет различную толщину на разных участках поверхности.На чертеже изображен предложенный отр аж атель.Отражатель состоит из основания 1, покрытого слоем эмали 2, алюминиевой пленки 3, нанесенной на слой эмали, и прозрачного закрепляющего слоя 4. Различные по...

Номер патента: 1161820

Опубликовано: 15.06.1985

Автор: Манза

МПК: G01B 11/16

Метки: деформаций, объекта

...сеток 23 .Однако при реализации известного способа картины муаровых полос, соот-ЗО ветствующие различным сеткам, Получаются наложенными одна на другую и слабоконтрастными, что затрудняет их обработку и приводит к снижению точности получаемых результатов, 35Цель изобретения - повьппение точности путем улучшения контрастности изображения.Указанная цель достигается тем, что согласно способу определения де- ф Формаций объекта методом муара, заключающемуся в том, что на поверх- ность объекта наносят первый растр, Фиксируют его изображение на Фотопластинке, деформируют объект, вновь Фиксируют деформированный растр на той же Фотопластинке, анализируют полученную картину муаровых полос и определяют деформации объекта, на поверхность первого...