Способ контроля процесса испарения материалав вакууме

Номер патента: 204484

Авторы: Ивановский, Кузьмин, Мах, Назаров, Тибоков

ZIP архив

Текст

Союз СоветскихСоцивлистически Республик ОБРЕТЕН К АВТОРСКОМ ЕЛЬ СТВУ ависимое от авт. свидетельствааявлено 05,Х 1.1964 ( 928044/26-25)присоединением заявкиПриоритетОпубликовано 20,Х.1967, Бюллетень22Дата опубликования описания 26,Х 11,1967 Комитет оо делам обретений и открытий ри Совете Министров СССР. Пятибок витель Я МАТЕРИАЛА А ПОСОБ КОНТРОЛЯ ПРОЦЕССАВ ВАКУУМ обратную связь с пастввоздействующих арителя. В качестве тлизацил режима пидовательно, скорости электронной эмиссии простых схем стабиточную чувствительИзавсгные способы контроля скорости иопа. рения - метод ионизационного манометра, кварцевого резонатора и др. - мало пригодны для использования в геттерно-ионных насосах. Обычно,в таких напылительньвх устройствах испарение с прямонакальных и подогревных испарителей контролируют, регулируют и стабилизируют по одному из параметров накала (току, напряжению или удельной мощности). Однако такой способ не обеспечивает удовлетворительной точности регулирования и стабилизации процесса испарения, так как поверхность испарителя и его сопротивлечие меняются с течением времени не по линейному закону.Предлагаемый способ отличается от известных тем, что измеряют термоэлектроиный ток с испарителя при вго рабочей температуре, по величине которого судят о скорости испа. рения.Для регистрации тока эмиссии вблизи иапарителя располагают дополнительный электрод (анод), имеющий положительный потенциал относительно испарителя. Испари. тель будет служить источником электронов (катодом). Контроль тока эмиссии, начиная от нескольких микроампер и более, достаточно просг. Регулирование или автоматическое поддержание постоянной скорости испарения может быть осуществлено либо прямым регулированием, либо через мощью несложных сред на режим питания исп обратной связи для стаб тания испарителя и, сле испарения по току термо может служить одна из лизации, имеющая доста ность,Возможность контроля скорости испаренияпо току термоэлекгронной эмиссии основывается на известном факте, что механизм испускания электронов накаленным катодом 15 аналогичен испарению атомов из твсрдоготела. Измеренная для титана зависимость тока электронной эмиссии от скорости испарения при изменении температуры показывает, что ток эмиссии изменяется пропорцио нально скорости исиарсиия. Проведенная проверка на прямоиакальных титано-молибденовых испаритслях геттерио-ионных насосов показала, что скорость испарения титана при постоянном токе термоэлектронной эмиссии 25 в вакууме 10 в 6 в О лл рт, ст. сохраняетсяс течением времени постоянной в пределах 4 - 8%. Это доказывает достаточную надежность способа для технических применений з условиях изменяющегося в процсссс испаре ния состояния поверхности испарителя,204484 Предмет изобретения Составитель Г. А, Жукова Техред Л, Я. Бриккер Корректоры: В. В. Крылова и Л, В, ЧернякРедактор Н, С, Коган Заказ 4192/15 Тираж 535 ПодписноеЦНИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Центр, пр. Серова, д. 4 Типография, пр, Сапунова, 2 Способ контроля процесса испарения материала в вакууме с металлических прямонакальных или подогревных испарителей, Бапример в геттерно-ионных насосах, отличаюиийся тем, что, с целью повышения точности контроля, измеряют термоэлектронный ток с иопарителя при его рабочей температуре, по величине которого судят о скорости испа р ения.

Смотреть

Заявка

928044

А. С. Назаров, Г. Ф. Ивановский, Э. А. Мах, Л. К. тибоков, А. А. Кузьмин

МПК / Метки

МПК: F04B 37/06, H01J 19/70

Метки: вакууме, испарения, материалав, процесса

Опубликовано: 01.01.1967

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-204484-sposob-kontrolya-processa-ispareniya-materialav-vakuume.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ контроля процесса испарения материалав вакууме</a>

Похожие патенты