Способ изготовления селективно отражающегозеркала

81792 Союз Советсиил Социалистические РеспубликЗависимое от авт, свидетельстваЗаявлено 25965 ( 948764/29-14 Кл. 32 Ь, 17/1 исоедицением заявкиПриоритет МПК С 03 сУДК 666.1.056(088.8 Комитет ло дела иаоеретениИ и открытиори Совете МинистрСССР Опубликовано 21.Ч,1966. Бюллетень1 Дата опублик ия эписания 9,Ч 11.1 Авторыизобретен В. К. Баранов, Н. Н. Протасов, Т. Н, Крылова и явител Я СЕЛЕКТИВНО ОТРАЗЕРКАЛА ПО СОБ 4 З ГОТО ВЛ Е Е цо отражающего емым коэффиццрццой требуемо,Известен способ изготовления селективно отражающего зеркала, заключающийся в последовательном нанесении ца подложку ццтерферецционцых слоев сульфида цинка фтористого магния или двуокиси титана и 5 двуокиси кремния.Описываемый способ по сравнению с известным обеспечивает поглощение радиации, пропущенной ицтерферецциоццым покрытием. Зто достигается тем, что ца металлическую 1 О подложку предварительно наносят поглощающий слой черного никеля или черного хрома.На фиг. 1 изображено предлагаемое зеркало в разрезе; на фиг. 2 - спектральные характеристики отражения зеркала с покрытия ми, изготовленными физическими методами.На металлическую подложку 1 с полированной поверхностью нанесен слой 2, поглощающий лучистую энергию, а на этот слой нанесено интерферецционцое покрытие 3, отра жающее энергию в заданном спектральном диапазоне, Луч 4, содержащий энергию в широком спектральном диапазоне, например солнечный луч, падает на покрытие 3, которое отражает энергию только в заданном диапа зоне, например видимую часть спектра, а вся остальная энергия проходит сквозь покрытие и поглощается непрозрачным слоем 2.В качестве подложки лучше всего использовать никелевое зеркало, являющееся галь вяцопластической копией полированной стеклянной поверхности, Нанесение ця подложку слоев осуществляют обычным ц технологическими приемами ця участках вакуумных оптических покрытий с использованием существующего производственного оборудования, снабженного фотометрцческим контролем толщины слоев.Для изготовления зеркэнергию в интервале от 0,45цо использовать подложкищающий слой из черногоренционные покрытия,Ицтерферецционцое покрытие, получаемое физическим методом, состоит из чередующихся слоев прозрачных диэлектриков с высокими (г) 2,0) ц низкими (и ( 1,6) показателями преломления, цапример сульфида цинка (гг =- 2,3) и фтористого магния (а=1,4).Оптическая толщина Ха всех слоев, кроме первого и последнего равна л,(4; оптическая толщина первого слоя должна быть равна цли несколько меньше .18, я оптическая толщина последнего слоя равна цли несколько болыце г.,/8 (., - длина волны, соответствующая центру спектральной области максцмяльнсго отражения).Количество слоев селективпокрытия определяют желавитом отражения, а также шцОбласти спектра Яа 3й Видимая (0,45 - 0,7 мкм) .0,90Инфракрасная(0,7 - 2,6 мам)0,94 0,87 29,6 28,6 0,18 45,28,7 фаа ( Мгрныи нинепь дез пснрыптиЧерньа нинель с 1 мпентприцеснимпонрытиеи 50 05 Составитель Н. НечаеваТехред А. А. Камышиикова Корректоры: Л, Г,. Марисич и О, Б. ТюринаРедактор Н. Громов Заказ 1927,6 Тирак 750 Формат бум. 60 Х 90/в Объем 0,21 изд. л. ПодписноеЦИИИПИ Комитета по делам изобретений и открытий при Совете Министров СССРМосква, Центр, пр. Серова, д. 4 Типография, пр. Сапунова, 2 спектральной области с высоким отражением и зависит от разности показателей преломления используемых диэлектриков, Чем больше разность между показателями преломления соседних слоев, тем с меньшим числом слоев можно получить требуемое высокое отракениее. Б таблице приведены сравнительные характеристики известных зеркал с алюминиевым покрытием и предлагаемого зеркала,По сравнению с известным зеркалом зеркало с промежуточным поглощающим слоем, практически не уменьшая отраженный поток н видимой области спектра, позволяет более чем в 5 раз сократить интенсивность отраженных инфракрасных лучей.Интерференционные покрытия, состоящиеиз 8 - 12 чередующихся слоев двуокиси титана и двуокиси кремния, нанесенные химиче ским методом, обладают высокой стабильностью и допускают чистку различными органическими растворителями. Предмет изобретения 15Способ изготовления селективно отражающего зеркала посредством последовательного нанесения на подложку интерференционных слоев сульфида цинка и фтористого магния 20 нли двуокиси титана и двуокиси кремния, отличающийся тем, что, с целью поглощения радиации, пропущенной интерференционным покрытием, на металлическую подложку предварительно наносят поглоща 1 ощий слой черного 25 никеля или черного хрома.