Способ выращивания эпитаксиальных пленок феррит-гранатов

Номер патента: 1597401

Авторы: Логинов, Рандошкин

ZIP архив

Текст

(51)5 С 30 В 19/04 29/2 ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ СКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ КА гии электронного приборостроения иможет быть использовано при производ стве носителей информации для запоми нающих устройств. Цель изобретения увеличение скорости движения доменных стенок в пленках. Пленки выращи вают на подложку из гадолиний-галли евого граната из переохлажденного раствора-расплава, содержащего Вт 0 ТвОЗ, Ге 05, СаО., БаСО э и СаО, при 865-900 С. Значение скорости дв жения доменных стенок в пленках уве личено по сравнению с известным на 1-2 порядка, 1 з.п, ф-лы, 1 табл. ературы имнок фер тела, 49-1551 о 1 Ь(54) СПОСОБ ВЫРАЩИВ НЫХ ПЛЕНОК ФЕРРИТ-ГР;(57) Изобретение от НИЯ ЭПИТАК НАТОВ ится к т но те оэлект ожет тве носител ых и магнит Исполба обесным повнок в плводит книтного соестгаемог ьзовапие предлечивает по сьппение скоросенках на 1-2 авненн и оменных сте Вей порядка, ч тродействи пр аг повьппениюматериала ителя инф ГОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИПРИ ГКНТ СССР(56) Дудоров В.Н, Влияние темна интегральные характеристикипульсного перемагничивания плрит-гранатов,-Физика твердогЛ., 1986, т, 28, вып, 5, с. е относится к технологииного приборостроения ипользовано при производй информации для доменоптических устройств обработки и запоминания информации.Целью изобретения является увеличение скорости движения доменных стенокв пленках,П р и м е р. Пленки выращивают на установке УЭР. Гранатообразующие оксиды и растворитель общим весом 200 г, взятые в необходимых пропорциях, загружают в тигель диаметром 40 мм, помещают в печь установки, нагревают до 1050-1100 С и гомогенизируют полученный раствор-расплав в течение 2-6 ч. После этого температуру снижают до значения Т= 865-900 Со расплав помещают подложку из гад ний-галлиевого граната с ориентаци К 1597401(111) диаметром 20 мм, предварительно прогретую до той же температуры, Под- е ложку приводят во вращение со скоростью 120-180 об/мин. Наращивание пленок проводят в течение 1-30 мин, после чего подложку извлекают из раствора-расплава, приводят ее в ускоренное вращение для стряхивания капель раствора-расплава и охлаждают.Параметры пленок скорость движения доменных стенок, коэффициент опти- СР ческого поглощения гленок, выращенных при разных составах раствора-расплава и температуре роста, даны в таблице,1597401 Ф ор м у л а и з о б р е т е и и я СоставСодержание компонентов, мол.7) Вьоа Тт Оа Реоа Сатори т, фС 7,м/с на сов СаО Коэффициентоптическогопо) лощення)см 84,0 2 82,9 Э 83,5 4 82,77 5 83,74 6 82)471800 1500" 2900 710 450" 1520 865 900 880 890 900 870 1,78 1,96 1,86 1,82 1,67 1,91 11,3611,7111,4811,9311,3611, 71 1,301,611,46 1,53 1,42 1,59 1,56 1,82 1,70 1,66 1,60 1,80 30 33 82 0,29 0,21 0,52 ЕСкорость доменных стенок при действующем магнитном поле Н350 Э,аСкорость доменных стенок при действующем магнитном поле Н250 Э. Составитель Е. ЛебедеваТехред.Л,Олийнык Корректор М. Пожо Редактор И. Дербак Заказ 3033 Тираж 343 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР 113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 415Производственно-издательский комбинат "Патент", г,ужгород, ул. Гагарина,101 ции за счет, например, снижения времени переключения ячеек магнитооптического управляемого транспаранта, повьппения частоты работы запоминающихустройств и т.д. 1. Способ выращивания зпитаксиаль О ных пленок феррит-гранатов на подлож-, ке из гадолиний-галлиевого граната из переохлажденного раствора-расплава, содержащего компоненты ВО, Тш 0) РеО з, Са)О и ВаСОз, о т л ич а ю щ и й с я тем, что, с целью увеличения скорости движения доменных стенок в пленках, соотношение компонентов берут равным, мол,Я: Ре О 11, 36-11, 93 аз 1, 30-1,61СадО з 1,67-1,96Иа СО 1, 56-1,82В Оа Остальноеа выращивание ведут при 865-900 оС,2, Способ по п. 1, о т л и ч а ющ и й с я тем, что, с целью повьппения прозрачности пленок, в раствор-расплав дополнительно вводят СаО при следующем соотношении компонентов, мол.й:ге Оз 11136 11 в 93 Тш,О 3 1,42-1, 59 Са Оз 1, б,91 НаСО 1,60-1,80 СаО 021-0,52 В,ООстальное а выращиваниеведут при 870-900 ОС.

Смотреть

Заявка

4477971, 30.08.1988

НоАо Логинов и В. В. Рандошкин

ЛОГИНОВ НИКОЛАЙ АЛЕКСАНДРОВИЧ, РАНДОШКИН ВЛАДИМИР ВАСИЛЬЕВИЧ

МПК / Метки

МПК: C30B 19/04, C30B 29/28

Метки: выращивания, пленок, феррит-гранатов, эпитаксиальных

Опубликовано: 07.10.1990

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1597401-sposob-vyrashhivaniya-ehpitaksialnykh-plenok-ferrit-granatov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ выращивания эпитаксиальных пленок феррит-гранатов</a>

Похожие патенты