Способ определения химической стойкости керамических материалов

Номер патента: 1778650

Опубликовано: 30.11.1992

Авторы: Задорожная, Костылев, Семериков, Славов, Хачпанян

МПК: G01N 23/20

Метки: покрытия, стойкости, титановой, химической, эмали

...используют соотноПредлагаемый способ позволяет учитывм ь физическую сущность влияния фазы рутила в поверхностных слоях покрытия, фазового состава грунта и покровной эмали на химическую стойкость белой титановой эмали, не связан с необходимостью воздействия кислоты на эмалированное изделие, дает возможность прогнозирования химической стойкости эмалированных изделий на сснове информации о дифракционных химических параметрах и обеспечивает не- разрушающий контроль качества покрытия в процессе эксплуатации.На чертеже представлена номограмма, позволяющая реализовать предложенный способ и получить эмалированные изделия требуемого качества. Номограмма представляет собой зависимости химической стойкости эмали от величины уширения...

Номер патента: 1078334

Опубликовано: 07.03.1984

Авторы: Богоявленская, Борухин, Демьянова, Рудакова

МПК: G01N 33/38

Метки: силикатных, стойкости, химической

...таккак они не дают сведений о химическом сопротивлении поверхности изделия. Оценка химической стойкостиповерхности изделия преобретает особое значение в тех случаях, когдаона является зоной контакта штучного футеровочного изделия со связующим, и ее коррозия может принестик проникновению агрессивной средыпо прокорродиронавшей зоне междуштучными изделиями под защитноепокрытие,Данные по химической стойкости,полученные известным способом, яв ляются относительными и не даютконкретных сведений об абсолютныхзначениях исследуемого свойства,Кроме того, этот метод ограниченисследованием щелочных стекол, фу теровочные же изделия, применяемыев строительстве и противокоррозионной защите, содержат в основномокислы щелочноземельных элементов...

Номер патента: 424060

Опубликовано: 15.04.1974

Авторы: Готра, Дмитренко, Матвийкив, Мушкарден

МПК: G01N 27/02

Метки: стойкости, фоторезиста, химической, электрический

...ионным распылением) напыляют образец-свидетель - тонкую (порядка сотен ангстрем) пленку токопроводящего материала, легко травимого в агрессивной среде, по отношению к которой определяется химическая стойкость фоторезиста. Для повышения чувствительности метода тонкую пленку изготовляют в виде сложной линейнойконфигурации, для чего используют любойметод создания конфигурации (например, на.5 пыление через маску, фотолитография). Затем на образец-свидетель наносят тонкуюпленку исследуемого фоторезиста. К концамобразца-свидетеля припаивают выводы, ккоторым подключают измерительный прибор10 (омметр), после чего подложку с расположенным на ней образцом-свидетелем и исследуемым фоторезистом погружают в агрессивную среду. По мере разрушения...

Номер патента: 987523

Опубликовано: 07.01.1983

Авторы: Марконренков, Невский, Шелудяков

МПК: G01N 33/38

Метки: неорганических, стойкости, химической

...установке, содержащей реактор 1, испытательную камеру 2 и сосуд с нейтрализующим раствором 3, изготовленные иэ меди и соеди оненные медными трубками 4 Реактор и,испытательная камера снабжены электро-,нагревательными блоками, содержашиминихромовую обмотку 5, амперметр 6 иавтотрансформатор 7, Злектронагреватели обеспечивают нагрев до 1000 ОС.Температуру в реакторе и испытательной камере изйеряют термопарами 8,подключенными к прибору КСП.Способ осуществляют следующим образом.Готовят образец из испытуемого материала в виде бруска или пластинки.Образец шлифуют, промывают этиловымспиртом, сушат при 100 фС, замеряютплощадь поверхности, удельный вес ивзвешивают с точностью до 0,0002 г.Образец помещают в испытательнуюкамеру и нагревают до...

Номер патента: 1046679

Опубликовано: 07.10.1983

Авторы: Беликова, Владимиров, Глаговская, Гуральник, Никифорова, Степанова, Шишкин

МПК: G01N 33/38

Метки: огнеупорных, расплавах, стойкости, химической

...протекающими в ваннефосфорной и карбидной печи, и кинематическими зависимостями процессавосстановления.20Заданный интервалскорости вращения 0,1-3,0 м/мин моделирует гидродинамику, происходящую в ваннеруднотермической печи с учетом коннектинных процессов, имеющих местопри свободном истечении расплаваи склонности исследуемых расплавовк испарению при высоких температурах с открытым зеркалом расплава.На действующих электропечах скорость истечения расплана меняется ЗО в широксм диапазоне и достигает3 м/мин. Уменьшение скорости истечения расплава до 0,1 м/мин возможно при небольших количествах расплава в ванне печи, что учтено при 35 выборе диапазона вращения образцаи не дает представительных результатов.Выбранный диапазон времени...