Устройство для молекулярно-лучевой эпитаксии

Номер патента: 1555401

Авторы: Ломовой, Марошек, Строцкий

ZIP архив

Текст

СОЮЗ СОБЕТСНИХСОЦИАЛИСТИЧЕСНИХРЕСПУБЛИН 8015554 51)5 С 3 0 ПИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ ЕТЕПЬСТ ВТОРСК о асоЬ 1 1;.с 11 аиЬе гергахга 1сез.1976, 9,ЛЛ ГИО ьной пло Из вертнк винт 1Уст и используют етение относится интегральных к технологимикросхем,олучен йство ра ает следуюци ется упроцеванне угла изобретения Бель ние уст наклона тва и регулиложкодержател На 0 5щиваем с ОСУДАРСТВЕННЫЙ НОМИТЕТО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТНРЫТИЯМРИ ПНТ СССР(56) Сепя Р., РаЫ:е т,А шц 1 гр 1 е гесЬпгцие ШЮГог где гпчезг 8 агоп оГягоп зевпсопйпсГог зпгйД.РЬуз. Е.: Вс 1 1 пзггпш), М 11, р. 924-925.(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОЛЕ ВОЙ ЭПИТАКСИИ чертеже представлено устройство разрез.Устройство содержит вакуумную камеру 1, размещенный внутри нее подлажкодержатель, шток 2 которого соединен со средством 3 врацения и средством наклона относительно вертикальной оси. Средство наклона выполнено в виде горизонтальной плиты 4, жестко закрепленной на корпусе камеры 1, и кольца 5, установленного на плите 4. В кольце 5 размецена сферическая ца фа 6, закрепленная на корпусе 7 штока 2. На плите 4 установлены регулируемые по высоте упоры 8 и 9. В цапфе 6 выполнен паз 10, а кольцо 5 имеет штифт 11, взаимодействуюций с пазом 10. Для поворота подложкодержателя в(57) Иэобретенне относится к технологии получения интегральных микросхем и обеспечивает упроцение устройства и регулирование угла наклона. Устройство включает вакуумную камеру, в которой размещен подложкодержатель.Подложкодержатель соединен со средствами вращения и наклона, Отличия устройства относятся к выполнению средст ва наклона, которое позволяет проводить измерения наращиваемого слоя в процессе роста, позволяет регулироо вать угол наклона в пределах 0-5 1 ил. разом,Упоры 8 и 9 регулируют по в 1 соте,при этом в исходном положении сланец13 взаимодействует с упором 3, а приповороте корпуса 7 фланец 13 взаимодействует с упором 9 и обеспечиваетнаклон подложкодержателя в пределахоПри проведении измерений выраого на подложке 14 слоя, не остандвливая вращение штока 2, с помоцью винта 12 фланец 13 поднимают до взаимодействия с упором 9, при этом штифт 11 перемещается .по пазу 10 сф рической цапфы 6 и происходит отклонение штока 2 вместе с подложкой 14 на необходимый угол. После проведени измерений, шток 2 возвращают в и ходное положение при помощи винта 12 до упора фланца 13 в упор 8,Таким образом, предлагаемое устройство обеспечивает отклонение под1555401 ложкодержателя с одновременным еговращением для измерения параметровнаращиваемого слоя, при этом процесснаращивания слоя не прерывается припроведении измерений. формула изобретения Составитель П,Дав довач Техред Л,Кравчук 1(орректор О. Гол черявая аз 540 Тираж 344 ПодписноеИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям прн ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб., д, 4/5 В Производственно-издательский комбинат "Патент", г,Ужгород, ул. Гагарина,10 Устройство для молекулярно-лучевой 10 зпитаксии, включающее вакуумную камеру и подложкодержатель, размещенный в ней на штоке, соединенном со средствами вращения и наклона относитель 15 но вертикальной оси, о т л и ч а ющ е е с я тем, что, с целью упроще -ния устройства и регулирования угланаклона подложкодержателя, средствонаклона выполнено в виде горизонтальной плиты, жестко закрепленной накорпусе камеры, и кольца, в которомустановлена сферическая цацка, закрепленная на ытоке подложкодержателя,на плите установлены регулируемые повысоте упоры, в цапЬе выполнен паз,а кольцо имеет штиФт, взаимодействующий с этим пазом.

Смотреть

Заявка

4303667, 07.09.1987

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ Ю-9087

ЛОМОВОЙ ВАЛЕРИЙ ВАСИЛЬЕВИЧ, СТРОЦКИЙ ВЛАДИМИР ВЛАДИМИРОВИЧ, МАРОШЕК ГАЛИНА ЯКОВЛЕВНА

МПК / Метки

МПК: C30B 23/08

Метки: молекулярно-лучевой, эпитаксии

Опубликовано: 07.04.1990

Код ссылки

<a href="https://patents.su/2-1555401-ustrojjstvo-dlya-molekulyarno-luchevojj-ehpitaksii.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для молекулярно-лучевой эпитаксии</a>

Похожие патенты