Оснастка для изготовления вакуумно-пленочных литейных форм
Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Номер патента: 1178531
Авторы: Галитовский, Закрочимский, Ильин, Мирошниченко, Снежной
Текст
4 В.Р. ЗакроС. Ильин, Мир ошнич ен ть 5-36 19 ство 9/02(54) (57) ОСНАСТКА ДЛЯ ИЗГОТОВЛЕНИЯВАКУУМНО-ПЛЕНОЧНЫХ ЛИТЕЙНЫХ ФОРМ,содержащая вакуумную подмодельнуюплиту, модель, концентраторы образования складок пленки, расположенные на модели, о т л и ч а ю -щ а я с я тем, что, с целью повышения качества форм за счет устраненияскладе:; пленки на рабочей поверхности формы, концентраторы установлены на подмодельной плИте вокругмодели так, что прямые, соединяющиеточки расположения концентраторов,находятся вне проекции модели наподмодельную плиту.Тираж 747 ПодписноеВНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Заказ 5587/10 Филиал ППП "Патент", г. Ужгород, ул. Проектная, 4 Изобретение относится к литейному производству, а именно.к. конструкциям литейной оснастки для получения вакуумно-пленочных литейных форм.Цель изобретения - улучшение качества форм за счет устранения складок пленки на рабочей поверхности формы.На фиг. 1 изображена оснастка для получения вакуумно-пленочной литейной формы, общий вид, в разрезе, на фиг. 2 - то же, вид в плане.Предлагаемая оснастка содержит вакуумную подмодельную плиту 1, модели 2, стояк 3, концентраторы 4 образования складок, пленку 5, складки 6.На вакуумную подмодельную плиту 1 установлены модели 2, стояк 3, концентраторы 4 образования, складок. Нагретой до оптимальной пластичности пленкой 5 покрывают подмодельную плиту 1, установленные на ней модели 2, стояк 3, концентраторы 4 образования складок. Под действием вакуума пленка 5 облегает укаэанные элементы оснастки. При этом между 1 78531 гконцентраторами 4 образования складок и стояком 3, имеющими высоту,большую высоты моделей (стояк 3является одновременно .и концентрато ром образования складок) образуютсяскладки 6 полимерной пленки 5, как,между наиболее высокими частямиоснастки.Взаимное расположение концентра О тов 4 образования складок между собой и стояком 3 позволяет получатьскладки, не проходящие через поверхность моделей. В вакуумных полуформах изготовленные в дальнейшем 15 рабочие гнезда получаются без искажений их поверхностей, что соответственно дает воэможность в собранных вакуумных формах получатьотливки без нарушения их геометрии 20 и рельефа. Применение предлагаемого устройства для изготовления вакуумных формпозволяет улучшить качество и раэ мерную точность отливки, снизитьбрак по искажению геометрии отливки,уменьшить затраты на механическуюобработку.3
СмотретьЗаявка
3712412, 21.03.1984
НАУЧНО-ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ИНСТИТУТ СПЕЦИАЛЬНЫХ СПОСОБОВ ЛИТЬЯ
ГАЛИТОВСКИЙ МИХАИЛ ДМИТРИЕВИЧ, ЗАКРОЧИМСКИЙ ВАЛЕРИЙ РАЙМУНДОВИЧ, ИЛЬИН АЛЕКСАНДР НИКОЛАЕВИЧ, ИЛЬИН НИКОЛАЙ СТЕПАНОВИЧ, МИРОШНИЧЕНКО АЛЕКСАНДР ГЕОРГИЕВИЧ, МИРОШНИЧЕНКО ВАЛЕРИЙ НИКОЛАЕВИЧ, СНЕЖНОЙ ВСЕВОЛОД РОСТИСЛАВОВИЧ
МПК / Метки
МПК: B22C 9/03
Метки: вакуумно-пленочных, литейных, оснастка, форм
Опубликовано: 15.09.1985
Код ссылки
<a href="https://patents.su/2-1178531-osnastka-dlya-izgotovleniya-vakuumno-plenochnykh-litejjnykh-form.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Оснастка для изготовления вакуумно-пленочных литейных форм</a>
Предыдущий патент: Модельная плита
Следующий патент: Литниковая система для модифицирования металла в форме
Случайный патент: Электропривод подвесной канатной дороги