Способ определения устойчивости пчел к заболеванию нозематозом

Номер патента: 986268

Опубликовано: 20.10.1995

Авторы: Григоров, Мартынович

МПК: H01S 3/16

Метки: активный, активных, варианты, его, лазер, лазера, приготовления, элемент, элементов

1. Активный элемент лазера на основе монокристалла, содержащего центры окраски, отличающийся тем, что, с целью увеличения диапазона изменения выходных характеристик лазерного излучения и расширения возможностей управления ими, он выполнен с изменяющейся концентрацией центров окраски в направлении, перпендикулярном к рабочей оси активного элемента.2. Активный элемент лазера на основе монокристалла, содержащего центры окраски, отличающийся тем, что, с целью увеличения диапазона изменения выходных характеристик лазерного излучения и расширения возможностей управления ими, он выполнен в форме цилиндра, а центры окраски в нем имеют градиент концентрации по окружности.3. Способ приготовления активных элементов твердотельных лазеров,...

Номер патента: 1359300

Опубликовано: 15.12.1987

Авторы: Афиногенов, Грабовская, Копылова, Тотолян

МПК: C12Q 1/04

Метки: активного, активности, антиинфекционной, биологически, соединения

...числа жизнеспособных клеток из пробирок сзаметным помутнением среды готовятсерию десятикратньх разведений, высеваемых на чашки с плотной питательной средой. По .числу колоний,формирующихся на чашках через 24 чинкубации при 37 С, судят о концентрации бактерий в опытной и контрольной пробах, В данном опыте МИК катапола цля стрептококка группы А -25 мкг/мл.Определение степени подавленияадгезии катаполом,В пробирки с монослоем эпителияНЕрвносят 2 мл среды, содержащейкатапол в дозах 5 - 100 мкг/мл и0,2 мл суспензии стрептококка стандартной густоты (0,1 при длине волныб 50 нм), Смесь инкубируют 30 минопри 37 С, клетки монослоя отмываютот неприкрепивпихся бактерий многократной сменой Физиологическогораствора, фиксируют, окрашивают...

Номер патента: 575049

Опубликовано: 30.09.1977

Авторы: Вернер, Рольф

МПК: H01B 9/06

Метки: высоковольтное

...управляющий электрод 11 и через второй управляюцяй электрод 12 йа защитном элементе 13 оболочки, выполненной в виде надвнжной муфты 14.управляющие электроды имеют такую форму, что возникающие на краях изоляционных распорок напр гкенности поля ограничиваются допустимыми значениями и электрические свойства устройства не ухудшаются крепежными элементами, например винтами, В области изоляционной распорки внут. ренний проводник, обычно выполняемый в виде полой тонкостенной трубки, имеет массивный промежуточный участок 15. Последний может быть выполнен из материала, термическая устойчивость которого выше термической устойчивости остальной его части, например из стали,Преимущественно и защитный элемент, и массивный промежуточный участок...

Номер патента: 1705417

Опубликовано: 15.01.1992

Авторы: Буслаева, Делекторский, Ефанов, Корнев, Синицын

МПК: C25D 3/50

Метки: палладирования, электролит

...более 30 г/л приводит к образованию значительного количества молекулярного хлора над электролизной ванной, что представляет повышенную опасность для здоровья обслуживающего персонала.Использование 1,3,6.8-тетрааэатрицикло(4,4,1,1, д)додеканцинкхлорида (ТУ 6-09- 13-899-84) в составе электролита основано на образовании в прикатодном пространстве промежуточного комплекса палладия с указанным органическим реагентом, константа устойчивости которого превышает константу устойчивости тетраамминпалладий (11) дихлорида, что способствует увеличению катодной поляризации и соответственно образованию мелкодисперсного плотного покрытия с высокой отражательной способностью. При концентрации ТДЦХ менее 2.0 г/л отражательная способность покрытия...

Номер патента: 1810025

Опубликовано: 15.05.1994

Авторы: Короткий, Усов

МПК: H01L 21/326, H05B 7/00

Метки: дисперсного, плазменной

СПОСОБ ПЛАЗМЕННОЙ ОБРАБОТКИ ДИСПЕРСНОГО МАТЕРИАЛА, включающий подачу в разрядную камеру высокочастотного индуцированного плазмотрона плазмообразующей среды, формирование в ней от высокочастотного источника питания индукционного разряда и подачу в область разряда дисперсного материала, отличающийся тем, что, с целью повышения удельной производительности при обработке высокотемпературного дисперсного материала за счет повышения устойчивости разряда, в рабочем объеме разрядной камеры высокочастотного индукционного плазмотрона дополнительно формируют от низкочастотного источника питания совмещенный с высокочастотным индукционным разрядом сильноточный электродуговой разряд, подачу дисперсного материала осуществляют в область совмещенного...