Способ получения литья направленным затвердеванием

Номер патента: 1460748

Опубликовано: 23.02.1989

Автор: Юозапавичюс

МПК: H01P 11/00

Метки: волновода, зоне, калибровки, канала, установки, фланца

...9, профиль которого повторяет конфигурацию выступа матрицы 1.Способ реализуется следующим образом.К волноводу 6 припаивают фланец 7; затем в него со стороны фланца 7 вводят калибровочный вкладыш 8, под Фланец 7 на расстоянии от него, равном 3 О длине плавного перехода, устанавливают матрицу 1, выполненную составной и снабженную выступом 2, а по углам - продольными канавками 3, ширина которых равна толщине стенок волновода 6, обжимают матрицей 1 волновод 6 затем 1Ф пуансоном 9, профиль которого повторяет конфигурацию выступа 2 матрицы 1 проталкивают волновод 6 через матрицу 1 до соприкосновения выступа 2 матрицы 1 с фланцем 7 и расчеканива 40 ют его.Установка матрицы 1 от фланца 7 на расстоянии, равном длине плавного перехода, и...

Номер патента: 1086999

Опубликовано: 30.01.1985

Авторы: Коротков, Маликова, Симашкевич

МПК: H01L 21/66

Метки: варианты, его, запрещенной, зоне, зоны, локальных, положения, полупроводника, уровней, ширины, энергетических

...кривая , . 35 Фотопроводимости полупроводника; на фиг. 2 - кривые спектральной зависимости фотопроводймости: кривая спектральная зависимость продольной фотопроводимости, кривая 2 - зависи мость амплитуды всплеска Д Э при. Л = . = 0,875 мкм от длины волны предварительного освещения, кривая 3 - зависимость В Э на фиксированной длине волны последующего облученич от дли ны волны предварительного возбуждения.Описываемый способ использует явление вспьшечной релаксации фотопроводимости полупроводника электромг- З 0 нитным излучением в области собстч венного и примесного поглощения (фиг. 1). В основе существования вспьппки фотопроводимости независимо от физических механизмов, ее вызывающих, лежит необходимость создания неравновесного состояния...

Номер патента: 1101174

Опубликовано: 30.06.1984

Авторы: Джордж, Ричард

МПК: B22D 18/06

Метки: вакуумным, всасыванием, газопроницаемую, литья, металлов, оболочковую, форму, черных

...металла Я ,Недостаток способа состоит в том,что при использовании оболочковыхнизкотемпературных форм происходит 20быстрое их разрушение еще до затвердевания в них металла. Особенно этосказывается при литье черных металлов.Цель изобретения - повышение стой-г 5кости форм из материалов, разрушаемыхпри высоких температурах.Цель достигается тем,; что согласно способу литья черных металлов вакуумным всасыванием в гаэопроницаемуюзооболочковую форму, включающему погружение части формы открытым концом в емкость с расплавленным металлом, создание вакуума для заполнения рабочей полости формы и удаление35формы из расплава, заполнение формыосуществляют через литниковый канал,имеющий сужение шириной менее 1,9 см,а удаление формы из...

Номер патента: 330967

Опубликовано: 01.01.1972

Авторы: Искра, Рут, Тегарлинска, Федоров

МПК: B28B 21/30

Метки: отливки, расплава, силикатного, труб, центробежной

...в зоне, прилегающей к торцу отливаемой трубы, - постановки плоского кольца стакана 10. Стаканы служат для формирования торцов трубы и предотвращения 15 выброса расплава из изложницы, и состоят изфланца,11, на котором пружинящими лепестками 12, усточненными в средней части, крепится плоское кольцо стакана 10, имеющее на наружной поверхности коническое или сферо коническое посадочное место. Причем, уголконуса на 3 - 5" больше угла трения сопршасающих поверхностей в горячем состоянии.На внутренней поверхности стакана, для улучшения его центровки относительно изложш.25 цы, выполнена призматическая или сферическая проточка 13.Залитый в подогретую до 200 - 400 С изложницу, внутренняя поверхность которой покрыта сыпучим б или твердеощим...

Номер патента: 461795

Опубликовано: 28.02.1975

Авторы: Балашов, Коновалов, Постнов

МПК: B22D 13/00

Метки: дном, заготовок, металлов, отливки, полых, сплавов, тугоплавких, центробежной

...является невозможность получения полой отливки с требуемыми толщинами дна и стенки с постоянной толщиной стенки по ее высоте.Целью изобретения является расширение номенклатуры литья и получение отливок с требуемыми толщинами дна и стенок,Это достигается тем, что гравитационный коэффициент жидкого металла на поверхности изложницы поддерживают постоянным в пределах 25 - 35 в процессе заливки металла и кристаллизации стенок отливки, а затем в течение 4 - 10 сек его снижают до нуля. При этом оставшийся жидкий металл опускается для формирования дна отливки.Предлагаемый способ осуществляется следующим образом.Тугоплавкий металл или сплав расплавляют в вакуумной гарниссажной печи. Во вращающуюся изложницу через воронку заливают расплавленный...