Способ определения удельной поверхности сыпучих материалов

Номер патента: 1695704

Опубликовано: 23.12.1992

Авторы: Груич, Кирсон, Эстерлис

МПК: C23C 14/02

Метки: вакууме, дуговым, поверхности, разрядом

...поверхУдельнаямощность, кВт ч/м Сталь горячекатаная Х 18 Н 10 Т Окалинаполно 200 20 10 0,21 0,21 стью удалена То же0,680,770,8 150 300 250 Бр, АЖИМЗ Сталь 65 Г Сталь Рб М 5 Сталь горячекатаная . Х 18 Н 10 Т 2,047,73,2 23 24 23 1 5 1 3 10 4 Окалина удалена, поверх- . ность оп- лавлена 200 19 1,67 1,2 0,82 ность электрода-анода, так как в процессе перемещения экрана открываются участки анода, ранее не участвовавшие в работе. Это устраняет перегрев поверхности, чем повышается качество обработки. Кроме того, наличие экрана с отверстием уменьшает поток продуктов эрозии, осаждающихся на электроде, Это приводит к стабилизации процесса горения разряда, а следовательно, и к повышению качества обработки.Способ обработки осуществляется следующим...

Номер патента: 1185548

Опубликовано: 15.10.1985

Автор: Нафтулин

МПК: H02M 7/04

Метки: дугового, разряда, стабилизатор

...с запрещающими входами элементов ЗАПРЕТ 25 и 26 ичерез формирователь 32 импульсов -с управляющим электродом разрядноготиристора 18, а другой выход - с за прещающими входами элементов ЗАПРЕТ27 и 28 и через формирователь 33 импульсов - с управлякнцими электродамитиристора 19. Обозначения элементовпреобразователей 1 и 2 отмечаютсяиндексами.Элементы ионного источника: нить34 накала катода подключена к отрицательному выводу конденсатора 22,а подогревный катод 35 подключен 15 к положительному выводу 22 ; анод 36подключен к положительному выводуконденсатора 22.Между положительным выводом конденсатора 22 и отрицательным выво дом конденсатора 22 подключен датчик 37 отклонения тока дугового разряда, выход его и выход оптрона 38включения...

Номер патента: 940016

Опубликовано: 30.06.1982

Авторы: Агузумцян, Гегин, Герасимов, Заблоцкая, Костин, Романенко

МПК: G01N 15/08

Метки: высокодисперсных, поверхности, порошков, удельной

...инжектора частицы вокруг этой оси. Так как заряженные час- ,тицы стоемятся по силовым линиям поля,то они полностью собираются в приемной кювете, что значительно уменьшаетпаразитное осаждение частиц вокруготверстия и повышает точность измерения. Величина потенциала игольчатогоэлектрода зависит от расстояния довыходного отверстия и выбираетсяэкспериментально.На чертеже изображена схема устройО ства,Устройство содержит диэлектрический корпус 1 с закрепленными в нем верхним электродом 2 и нижним электродом 3 с выходным отверстием 4, Под выходным отверстием расположен измерительный электрод 5 с приемной кюветой 6, снабженной игольчатым электродом 7. б 4Измерительная емкость 8 и измерительный прибор 9 служат для .измерениязаряда...

Номер патента: 343200

Опубликовано: 01.01.1972

Автор: Новосибирский

МПК: G01N 13/00

Метки: поверхности, твердого, удельной

...материала 5 вычисляется по формуле:5 - (м/г),Р ж- переводной коэффициент, равный10/0,239 10 ф;Л/ - цена единицы площади пика тепловыделения в кал/слт-,Я - общая площадь пика тепловыделения в слР;Р - цавеска материала в г;Я - удельная теплота смачивацияповерхности жидкостион, - Т - " ), равная для водыАТ)116 эрг/слР при 1 20 С.Способ осуществляется следующим образом.Навеска материала в количестве 0,05 -0,6 г в зависимости от степени чувствительности калориметра и также свойств самогоматериала берется из его средней пробы, помещаемой ца 2 - 3 час в эксикатор для насыщения парами смачивающей жидкости, и послс этого закладывается в патрончик, свернутый,из бумажного фильтра.343200 10 Предмет изобретения Составитель Г, Кузьминова Техред...

Номер патента: 377689

Опубликовано: 01.01.1973

МПК: G01N 13/00, G01N 33/38

Метки: активной, поверхности, портландцемента, удельной

...емкости водяным паром до давления на 4 - 5 мм рт. ст. нике давления насышенных паров воды при комнатной темпера туре. (Ампула с материалом отключена). Присоединяют ампулу с материалом к измерительной системе. После того, как адсорбция практически прекратится (через 20 - 30 мин) и отношение равновесного давления 30 к давлению насыщенных паров установится в пределах 0,3 - 0,5, производят десорбцию путем охлаждения однои из емкостеи жидкимазотом или сухим льдом, Затем ампулу отключают от системы, охлаждение снимают иизмеряют давление десорбированного водяного пара при комнатной температуре (20 С).Давление водяных паров до проведения сорбции (Р 1), млт масл, ст. 176Давление десорбированных водяных паров в том же объеме системы (Рз), мм...