Способ химического никелирования

Номер патента: 945230

Опубликовано: 23.07.1982

Авторы: Плющев, Полянин, Пузей

МПК: C23C 3/02

Метки: кислых, корректирования, никелирования, никеля, растворах, содержания, химического

...корректив раствора химическзуют отдельные кз 945230 после введения которых осуществляют оконча тельную доводку р аммиаком или уксусной кислотой. Пример Показатели ТХ 0 200 Сернокислый никель, г/л миак (25%-ный водный створ),80 150 020035 300 г/лСвинец азотнокислый, г/л 05 О,04 9,0 4 88 - 9 8 - 92 88-92 Температура С Пери орректирования, ч 5 Время осаждения, ч 0,5-1,0 узки, дм 2/л 0,5-1,0 0,5-1,0 Плотность за 1,2 ы покрытий, мк Разброс толщ МикротвердоВиккерсу ь покрытии по 450-550 00-550 ез пор 450 - 60 ористость, ед/см,5 з по Как видно из данных таблицы осуществление Предлагаемый способ позволяет получать корректирования содержания соли никеля в из корректируемых растворов никелевые по- растворах химического никелирования...

Номер патента: 1595940

Опубликовано: 30.09.1990

Авторы: Гаевская, Семененко, Цыбульская

МПК: C23C 18/34

Метки: никель-бор, осаждения, покрытий, раствор, химического

...содержащем, г/л:Иа.СО з 30-35; ИазРО, 30-35; моющеесредство "Экстра", при 40-60 С в течение 10-15 мин, травление в полирук 1 щем травителе состава, мл/л: НРО550; ННОЕ 200; СНдСООН 250; тиомочевина 0,2 г при комнатной температурев течение 20-60 с, декапирование вразбавленнои НС 1 (1:1) в течение2-3 мин. После каждой операции проводят тщательную промывку в проточной и дистиллированной воде.Сравнительные данные по свойствами скорости осаждения покрытий приведены в таблице. 40Скорость осаждения покрытия никель-бор оценивали гравиметрически,внешний вид - визуально и с помощьюмикроскопа МБС, коэффициент паяемости,определяли по ОСТ 11.029,00174. 45П р и м е р 1. Печатную плату,подготовленную по описанной выше методике, погружают в нагретый...

Номер патента: 526652

Опубликовано: 30.08.1976

Авторы: Дьяконова, Кудряшова, Лутовинова, Шапкин

МПК: C09K 13/00

Метки: никеля, раствор, сплавов, травления, химического

...-0,035 мм/мин, фактор травления 2,5 - 3,0, не 10 ровность края травления 0,001 в ,002 мм,класс чистоты обработанной поверхности 9 -10, ширина элементов маркировочных знаков0,150 в ,200 мм, боковое травление 0,025 -0,050 мм на сторону,15 Для приготовления раствора трилон Б ифенилмочевину растворяют в теплой воде ив виде смеси приливают к раствору смеси кислот, Процесс травления осуществляют притемпературе 40 - 50 С.20 Изобретение может быть использовано вэлектронной технике в технологических процессах изготовления изделий, например клише, применяемых при маркировке деталей впластмассовом корпусе, а также для фотохи 25 мической обработки никеля и его сплавов приизготовлении прецизионных изделий типа сеток, сит, экранов, плоских выводов...

Номер патента: 1382873

Опубликовано: 23.03.1988

Авторы: Бубнова, Казаков, Котов, Макаров, Ушаков

МПК: C23C 22/84

Метки: никеля, окрашивания, химического

...диафрагмь 1.Максимумы плотности тока (0,5 А/дм)и напряжения (30 В) ограничены длямаксимальной концентрации растворабелка (белков), так как при большиххарактеристиках забивается диафрагма.Минимум времени (30 мин) обусловлен достаточностью обработки для получения в дальнейшем устойчивого окрашивающего раствора при максимальной концентрации белка (15 г/л).При осуществлении предлагаемогоспособа сначала готовят водный раствор органической добавки, который затем обрабатывают электролитически иотбирают католит. Полученный католитсмешивают с раствором, например, состава, г/л:Порошок селенистойкислоты 5,0Сернокислая медь 5,0Азотная кислота 4,0Соляная кислота 6,0Вода Остальноепосле чего добавляют водный растворсульфанола МП5,0 г/л и...

Номер патента: 1668468

Опубликовано: 07.08.1991

Авторы: Балакир, Косачев, Малышева, Чавчанидзе

МПК: C23C 10/26

Метки: антифрикционных, деталях, комбинированных, нержавеющей, покрытий, стали

...от 1,2 до 2,5 6. причем насыщение и осаждение никеля осуществляется при напряжении от 1,2 до 1,5 В, обеспечивающем полное восстановление ионов никеля до атомарного состояния на катоде и исключающем процесс восстановления ионов молибдена, а насыщение и осаждение молибдена - при напряжении от 2,0 до 2,5 В, позволяющем осуществить реакцию восстановления ионов молибдена до атомарного уровня после восстановления ионов никеля и осуществить последовательное нанесение элементов подслоя.Насыщение никелем нержавеющей стали и осаждение подслоя никеля при напряжении ниже 1,2 В не обеспечивает выделения никеля на катоде, так как зто значение меньше напряжения, необходимого для восстановления ионов никеля. При напряжении выше 1,5 В на поверхности...