Способ восстановления поверхностей деталей

Номер патента: 24336

Опубликовано: 30.11.1931

Авторы: Ливенцев, Сарафанов

МПК: B22F 7/00, B23K 20/22

Метки: инструментов, карбидов, металлов, поверхностью, рабочей, твердых

...года (заяв, свид. МГ. Сарафанов и Н. М. Лнвеноября 1931 года, Действиет от 30 ноября 1931 года. балы, никель, железо); на этот слой помещается второй слой порошка карбида вольфрама или аналогичного металла, также с прибавлением более легкоплавкого металла, но в меньшей пропорции чем в первом слое, или иных связующих веществ,Затем инструмент закладывается в специальную оправку (или заформовывается) и нанесенная смесь прессуется с одновременным пропусканием через смесь и инструмент электрического тока, что особенно удобно делать на аппарате для стыковой сварки.Этим смесь нагревается до высокой температуры (порядка 1500 ); при этом слой порошка спекается или сплавляется и образует твердый рабочий слой, который при помощи...

Номер патента: 547462

Опубликовано: 25.02.1977

Авторы: Магдеев, Мирсаев, Петров

МПК: C08L 63/02

Метки: адгезивная, композиция, металлизации, поверхностей, электроизоляционных

...покрытия. Поставленная цель достигается тем, чтоадгезивная композиция для металлизацииэлектрэизоляционных поверхностей, включаю- .щая эпоксидную диановую смолу и меднуюсоль муравьиной кислоты, дополнительно ссдержит мелкодисперсный порошок железониПрисутствие в адгезивнэм металлиэируемом слое однэвременнэ леталлическэгэ напэл- И нителя и соли муравьинэй кислэты как видно иэ таблицы, эбуслэвливает синергетический зффект снижения удельнэгэ эбъемнэгэ сопротивления, улучшении спэсэбнэсти к гальваническэлу эсаждению металла и качества 00 келевого сплава с соотношением железа и никеля 1:1 при следующем соотношении ком- понентов, весЛ:Эпоксидная диановая смола 46-62Медная соль муравьинойкислоты 1 9-27Порошок железоникелевогосплава...

Номер патента: 892206

Опубликовано: 23.12.1981

Авторы: Белоусова, Солодухо, Сурков

МПК: G01B 11/16, G01L 1/24

Метки: давлением, контактных, металлов, модель, напряжений, нормальных, поверхности, рабочей, штампа

...оси к на рабочей поверхности корпу пендикулярно его оси выполне цевые канавки, отношение глубины канавок к расстоянию между ними выбрано не менее трех, а толщина втулки равна ширине кольцевой канавки.На фиг. 1 изображена модель дляизмерения контактных нормальных напряжений на рабочей поверхностиштампа для обработки металлов давлением на фиг, 2 - вид А на фиг, 1,Модель содержит разъемный полыйцилиндрический корпус 1, выполненныйиз оптически неактивного стекла, ирадиально расположенную вдоль осикорпуса пластину 2, выполненную иэоптически чувствительного материала,втулку 3 иэ оптически чувствительного материала, расположенную коаксиально оси корпуса, на рабочей поверхности корпуса 1. перпендикулярно егооси выполнены кольцевые...

Номер патента: 2003693

Опубликовано: 30.11.1993

Авторы: Вегман, Зуев, Пареньков, Туктамышев, Цейтлин, Черноусов, Юсфин

МПК: C21B 7/00

Метки: восстановления, газов, жидкофазного, капель, металла, нагретых, отходящих, печей, пыли, шихтной, шлака

...отходящих газов печей жидкофазного восстановления от шихтной пыли, капель металла и шлака, включающем подачу в нижнюю часть осадительной камеры пылеулавливающего устройства жидкой среды и периодическое удаление из пылеуловителя продуктов очистки, согласно изобретению, в качестве жидкой среды подают доменный шлак, а удаление шихтной пыли, капель металла и шлака иэ пылеуловителя осуществляется вместе с расплавленным шлаком,Сущность изобретения заключается также в том, что в устройстве для очистки отходящих газов печей жидкофазного восстановления от шихтной пыли, капель металла и шлака, включающем осадительную камеру с центральным вертикальным газопроводом для грязного газа и выходным патрубком (выходными патрубками) очищенного газа,...

Номер патента: 641890

Опубликовано: 05.01.1979

Авторы: "пьер, Даниель, Жак, Клод

МПК: H01J 1/312, H01J 9/02

Метки: металл-диэлектрик-металл, типа, эмиттера

...эмиттеров, содержащих диэлектрический слой,расположенный между двумя металлическими слоями 11). Диэлектрический слойобычно изготавливается из окисных пленок, например А 8 еО ипи Ве О, Такиеэмиттеры получают путем электропитичеокого осаждения на металлическую подложку слоя диэлектрика 21,Указанный способ трудно реализоватьпри формировании слоев диэлектрика набольшой площади подложки,Цель изобретения - упрощение технологии получения слоя диэлектрика,Поставленная цель достигается тем,что готовят раствор из органическогорастворителя (гексаметилфосфоротриамидаи тетрагидрофурана) и электролита-перхлората щелочного металле, погружаютв этот раствор металлическую подложку,подают нв нее отрицательное напряжи проводят осаждение...