Способ лазерной обработки
Формула | Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Формула
1. СПОСОБ ЛАЗЕРНОЙ ОБРАБОТКИ, преимущественно с помощью лазерного комплекса резки портального типа, заключающийся в передаче от лазера и преобразовании с помощью оптической системы высокоотражающих поворотных под углом 90o зеркал, на одно из которых нанесено фазосдвигающее покрытие, горизонтального линейно поляризованного под углом 45o к вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера, излучения в вертикальное с круговой поляризацией и последующей его фокусировке на поверхности обрабатываемого материала, отличающийся тем, что, с целью снижения себестоимости и улучшения эксплуатационных свойств зеркал при отражении излучения лазера с помощью по крайней мере четырех зеркал фазосдвигающими покрытиями дополнительно снабжены другие три зеркала, на каждом из четырех зеркал излучению придают одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги между P- и S-компонентами отраженного излучения лазера, лежащими соответственно в плоскости падения и перпендикулярно ей для каждого из зеркал, по сравнению с падающим на них излучением, равные 22,5o.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в случае, когда отражающие поверхности первого и второго от лазера зеркал параллельны между собой, перпендикулярны вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера, и центры этих зеркал обращены друг к другу, фазовые сдвиги излучения лазера на первом, втором и четвертом зеркалах создают отрицательными или положительными, а на третьем зеркале фазовый сдвиг - положительным или отрицательным.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что в случае, когда отражающая поверхность второго зеркала перпендикулярна отражающей поверхности первого и составляет 45o с проходящей через центры первого и второго от лазера зеркал вертикальной плоскостью, фазовые сдвиги излучения на первом и третьем зеркалах создают отрицательными или положительными, а на втором и четвертом - положительными или отрицательными.
Описание
Целью изобретения являетcя cнижение cебеcтоимоcти и улучшение экcпллуатаци-онных cвойcтв зеркал.
Hа фиг. 1 предcтавлена принципиальная оптичеcкая cхема лазерного комплекcа резки; на фиг.2 и 3 - принципиальные cхемы разновидноcтей зеркальных cиcтем передачи луча лазера портального типа для лазерного комплекcа резки, cоcтоящих по крайней мере из четырех выcокоотражаю-щих зеркал, c помощью которых cоздают фазовые cдвиги, равные - 22,5о или + 22,5о, отражающего под углом 90о от каждого из зеркал излучения лазера.
Способ заключается в передаче системой поворотных под углом 90озеркал линейно поляризованного горизонтального излучения лазера 1, преобразовании его в вертикальное с круговой поляризацией с помощью по крайней мере четырех зеркал 2, 3, 4, и 5 с фазосдвигающими покрытиями, обеспечивающими одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги излучения, равные 22,5о, которые в сумме создают фазовый сдвиг в

Для реализации способа использовали устройство, содержащее лазер 1 с горизонтальной главной оптической осью, оптическую зеркальную систему передачи излучения лазера 1, состоящую по крайней мере из четырех высокоотражающих поворотных зеркал 2, 3, 4 и 5 для изменения направления при каждом отражении луча излучения лазера 1 на 90о и преобразования его из горизонтального плоскополяризованного под углом 45о к вертикальной плоскости в вертикальный с круговой поляризацией, фокусирующую систему 6. Зеркала 2, 3, 4 и 5 снабжены фазосдвигающими покрытиями для обеспечения одинаковых по абсолютной величине фазовых сдвигов между Р и S-компонентами поляризованного излучения лазера 1, лежащими соответственно в плоскости падения и перпендикулярно ей для каждого зеркала 2, 3, 4 и 5 и равных 22,5о.
Причем, если отражающие поверхности зеркал 2 и 3 параллельны между собой, перпендикулярны вертикальной плоскости, проходящей через главную оптическую ось лазера и эти зеркала, и обращены друг к другу, то фазовые сдвиги на зеркалах 2, 3 и 5 должны быть отрицательными (положительными), а на зеркала 4 фазовый сдвиг должен быть положительным (отрицательным) (cм. фиг.1 и 3). А если отражающая поверхность зеркала 3 перпендикулярна отражающей поверхности зеркала 2 и составляет угол 45о с проходящей через главную оптическую ось лазера и зеркала 2 и 3 вертикальной плоскостью, то фазовые сдвиги на зеркалах 2 и 4 должны быть отрицательными (положительными), а на зеркалах 3 и 5 - положительными (отрицательными) (см.фиг.1 и 2).
Зеркала 2, 3, 4 и 5 оптически связаны с лазером 1 и фокусирующей системой 6, причем зеркало 2 расположено на главной оптической оси лазера 1, а зеркало 3 - на вертикальной оси, пересекающей главную оптическую ось лазера 1. Зеркала 3, 4 и 5 расположены в одной горизонтальной плоскости с возможностью совместного с системой 6 перемещения вдоль общей оси зеркал 2 и 3. Зеркало 5 установлено с возможностью перемещения вдоль их общей с зеркалом 4 оптической оси и с возможностью перемещения совместно с зеркалом 4 вдоль общей оси зеркал 3 и 4. А фокусирущая система 6 установлена с возможностью перемещения вдоль вертикальной общей для зеркала 5 и системы 6 оси.
Рассмотрим распространение линейно поляризованной электромагнитной (оптической) волны по системе передачи луча, в которой каждое из зеркал изменяет направление распространения волн на 90о, причем плоская электромагнитная волна от лазера распространяется вдоль оси OY. Обозначим римской цифрой вверху амплитудные коэффициенты отражения, набег фазы и другие характеристики, относящиеся к процессу отражения волны от соответствующего зеркала. Амплитуду падающей волны обозначим верхним индексом П.
Зеркало 2 расположено под углом 45о к оси OY, плоскость падения волны ZY. Волна поляризована так, что плоскость поляризации составляет угол 45о к плоскости падения. При рассмотрении процесса отражения представим электромагнитную волну как суперпозицию двух поляризаций


Рассмотрим распространение волны в системе передачи луча по схеме на фиг.2. В падающей на первое зеркало 2 волне




(1)

rP=



rS=



Далее волна падает на зеркало 3, отразившись от которого распространяется вдоль оси Ох. Это значит, что плоскость падения волны на зеркало 3 перпендикулярна плоскости падения волны на зеркало 4. Поэтому Р- и S-компонентавми падающей на зеркало 3 волны будут соответственно S- и Р-компоненты, отраженные первым зеркалом 2




После отражения от второго зеркала 3 амплитуды Р- и S-компонент электромагнитной волны будут соответственно равны

(3)

Зеркало 4 направляет отраженную волну вдоль оси Оу, Ху - плоскость падения волны на зеркало 4 - при этом также перпендикулярна к плоскости падения электромагнитной волны на зеркало 3, поэтому Р-компонентной падающей на зеркало 4 волны будет S-компонента волны, отраженной от второго зеркала 3 и наоборот




Амплитуды отраженных волн связаны с амплитудой падающей волы через комплексные коэффициенты отражения rpIII и rsIII.

(5)

Зеркало 5 направляет отраженную волну вдоль отрицательного направления оси OZ. Здесь также плоскость падения YZ перпендикулярна к предыдущей плоскости падения XY и Р-компонента отраженной от зеркала 4 волны будет S-компонентой в падающей на зеркало 5 волне и наоборот. Амплитуды отраженных волн записываются через амплитуды падающих волн и соответствующие комплексные коэффициенты отражения rpIV и rsIV

(6)

Результирующая разность фаз после прохождения волнового фpонта составит





argW - аргумент комплексного числа W.
Преобразовав эти выражения, можно получить










или










Если зеркала 2 и 4 будут создавать разность фаз между Р- и S-отраженными компонентами (+22,5о), а зеркала 3 и 5 (-22,5о), то результирующая разность фаз




Выполним аналогичные рассуждения для оптической схемы на фиг.3. Зеркало 3 направляет отраженную волну вдоль оси OY и при этом плоскость падения остается той же. Отраженная первым зеркалом 2 Р-компонента будет и Р-компонентной падающей на второе зеркало 3 волны, аналогично для S-компоненты. Поэтому амплитуды Р- и S-компонент выходящей из системы передачи луча волны будут равны

(9)











Как показали расчеты, для отражателей-фазосдвигателей с









































Система передачи луча лазеpа портального типа по схеме (см.фиг.2) принципиально обеспечивает




Были рассчитаны и реализованы отражатели-фазосдвигатели с


П Ме 1,11 Н 1,55 В - для

П Ме 0,984 Н 0,69 В - для

Расчетные значения коэффициентов отражения для обоих видов отражателей-фазосдвигателей при принятых значениях












Сделаем расчетную оценку результирующих характеристик систем передачи луча портального типа в соответствии со схемами на фиг.2 и 3 в случае применения отражателей-фазосдвигателей с
















Результирующие оптические характеристики




Изобретение относится к способам лазерной обработки материалов, в частности к лазерной резке, и может быть использовано для создания систем передачи луча на объект обработки в лазерных комплексах резки. Цель изобретения - снижение себестоимости и улучшение эксплуатационных свойств зеркал. Осуществляют передачу системой поворотных под углом 90° зеркал линейно поляризованного горизонтального излучения лазера. Преобразуют излучение в вертикальное с круговой поляризацией с помощью фазосдвигающего покрытия последнего из зеркал и фокусировки его на поверхность обрабатываемого материала. Обеспечивают одинаковые по абсолютной величине фазовые сдвиги, равные 22,5°, при отражении от четырех зеркал с фазосдвигающими покрытиями, число слоев в которых снижено до двух. Поэтому снижается общая себестоимость зеркал за счет упрощения их конструкции и улучшаются эксплуатационные свойства за счет снижения потерь на поглощение излучения в зеркалах на 0,7 - 2,7%. Зеркала имеют фазовые сдвиги


















Рисунки
Заявка
4627534/27, 29.12.1988
Научно-исследовательский центр по технологическим лазерам АН СССР
Глебов В. Н, Мананкова Г. И
МПК / Метки
МПК: B23K 26/00
Метки: лазерной
Опубликовано: 15.11.1994
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1593057-sposob-lazernojj-obrabotki.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ лазерной обработки</a>
Предыдущий патент: Защитная среда для лиофилизации вакцинного штамма erysipelothrix rhusiopathicae suis bp-2
Следующий патент: Сплав на основе титана
Случайный патент: Установка для выращивания микроорганизмов