Материал термокомпенсатора для полупроводникового выпрямительного элемента

Номер патента: 385465

Опубликовано: 01.01.1973

Авторы: Иностранцы, Масани

МПК: G01L 1/24

Метки: конструкции, степени, усталости, элементов

...материала .или элемента конструкции отражающего,сломя и покрытии последнего оптически чувствительным материалом.Для упрощения технологии нанесения отражающего слоя на материал или элемент конструкции предложено отражающий слой выполнять в виде пластины,из оптически прозрачного материала, приклеиваемой к образцу, на который, в свою очередь, приклеивать пленку из оптически чувствительного матеро 1 ала, после чего наблюдать оптические картины.На фиг. 1 изображена конструкция с наложенной,на нее,прозрачной пластичной, вклад сбоку; на фланг. 2 - то же, вид сверху.Пластину 1 из прозрачного вещества клеем прикрепляют к поверхности конструкции 2. Прозрачная пластина должна пропускать, по крайней мере, 5% воздействующего на нее света. Затем...

Номер патента: 623695

Опубликовано: 15.09.1978

Авторы: Кан, Тронь

МПК: B23P 3/02

Метки: биметалла, вольфрам-молибден

...текучести металла. Так как значения пределов текучести вольфрама и молибдена отличаются, отличаются и их сопротивления деформации и,следовательно, значения,на которые они продеформируются при прокатке, Опыты показали,что если деформация всего пакета составляет 35-40%, то деформация молибденасоставляет 40-50%, а вольфрама -10-15%, что обеспечивает удовлетвооительное качество сварки. Температураопрокатки 1600-1800 С определяетсятем, что при меньшей температуре невозможно продеформировать пакет на такую4 Овеличину (составляющие - вольфрам имолибден разрушатся, а при большей температуре происходит рекристаллизациявольфрама и молибдена, что уменьшаетпрочность биметалла),отсутствуют микротрещины, уменьшаетсябрак при выпуске биметвллв и...

Номер патента: 738526

Опубликовано: 30.05.1980

Авторы: Дэвид, Уолтер

МПК: G03G 5/00

Метки: состав, фотопроводящего, электрофотографического, элемента

...растворы наносят на подложку из покрытого алюминием элсктропроводного поли 1 тцлсцтсрсфталата, после чего производят покрытие перемещающим заряд слоем. Чувствительность каждого полученного электрофотографического элемента, указанную в форме разряда от 700 до - 200 В.Было установлено, что элемент в каждом случае пригоден для получения изображения электрофотографичсским способом. 573852В другом варианте исполнения электрографического элемента подложку покрывают слоем клеягцего вещества или полимерным слоем до того, как производят нанесение создающего заряд фотопроводящего слоя из раствора.5Растворитель с первичным органическим амином представляет амин общей формулы В 1 ЙН 2),1 где п =12 или 3 и остаток й содержит от 1 до 4 атомов...

Номер патента: 1010526

Опубликовано: 07.04.1983

Авторы: Истомина, Нижник

МПК: G01N 23/20

Метки: конструкций, пластичности, ресурса, тонкостенных, элементов

...тангенциальное) образца, изготовленного путем хо 60 о 5 снятие рентгенограмм эталонных образцов и рентгенограмм исследуемогообразца и измерение количествакристаллитов основной фазы материала, формирующих ограниченнуютекстуру, снимают текстурные рентгенограммы эталонных образцов из исследуемой стали, деформированныхпри варьируемых соотношениях радиального и тангенциального компонентов деформации, строят зависимостьколичества кристаллов, формирующихцилиндрическую текстуру, от радиальной деформации и зависимость отношения количеств кристаллитов, формирующих цилиндрическую и ограниченную текстуры, от отношения рядиальной и тангенциальной деформацииснимают текстурные рентгенограммыобразца из исследуемого элементаконструкции, измеряют...

Номер патента: 1625641

Опубликовано: 07.02.1991

Авторы: Дрожженников, Карулин, Опекунский

МПК: B23K 37/04

Метки: конструкций, насыщения, пространственных, сборки, сварку, тонколистового, элементами

...пружиной 16 относительно педали 14. Скоба 15 шарнирно соединена с двуплечим рычагом 17, который, в свою очередь, шарнирно соединен посредством тяг 18 с зажимами 19,Устройство работает следующим образом.На стол устанавливают элемент 4 и зажимают зажимным механизмом 3, Втулки 5 находятся в нижнем положении. Палец 13 стержня 8 находится в верхнем прямолинейном участке паза 12. На ложементы 6 укладывают элементы 7 насыщения, Под действием веса элементов 7 насыщения палец 13 выходит из верхнего прямолинейного участка, Втулка 5 начинает подниматься, при этом палец 13 перемещается в пазу 12 и поворачивает втулку 5 с ложементами в необходимое для сварки положение, при этом элемент 7 прижат к элементу 4,5 10 15 20 25 30 35 40 45 После...