Радиационно-структурируемая композиция

Номер патента: 1214695

Опубликовано: 28.02.1986

Авторы: Барановский, Бурменко, Данилюк, Задонцев, Кузнецова, Мих, Подгорная, Попов, Синдеев, Урвелис, Ширяева, Яковлева

МПК: C08L 63/00, C09D 3/58

Метки: композиция, радиационно-отверждаемая

...реакционной массыне превышала 80 С. Продолжительность синтеза составляет 3 ч, остаточное кислотное число равно 6 мгКОН/г.П р и м е р 5. По технологии,представленной н примере 1, загружают 26,14 г .0,16 моль) ТХУК, добавляют 95,56 г 1,64,69 мас.Х или0,1 моль) ЭД. Продолжительностьсинтеза 3 ч 40 мик, кислотное число составляет 8 мг КОН/г.П р и и е р 6. Загружают 32,68 г( 0,2 моль) ТХУК, добавляют 95,56 г63, 49 мас.% или О, моль) ЭД.Продолжительность синтеза 5 ч. Кислотное число 14 мг КОН/г.Эпоксиакрилатный одигомер ЭАС 655 под действием ионизирующегоизлучения структурируется с образонанием трехмерной сетки, ЭТХАС под действием ускоренных электроновтакже отнерждается на воздухе. Однако н обоих случаях получаются покрьгтия с низкими...

Номер патента: 1799026

Опубликовано: 10.04.1996

Авторы: Бурменко, Быкова, Васильева, Ефремов, Иванов, Калинина, Князева, Нерозник, Петухова, Шиханова

МПК: C09D 163/10, C09D 5/03, C09D 7/14

Метки: композиции, порошковой, радиационно-отверждаемой

...при следующем соотношении компонентов, мас. ф :Эпоксиакрилатная смола 50-67 2,4 - Диметилфенилмалеинимйд 5-10 Пылевидный кварц 23-45 Данный способ полученияпорошковой эпоксиакрилатной композиции радиационного отверждения может быть реализован следующим образом,Эпоксиакрилатную смолу ЭАСА, полученную методом этерификации эпоксиднодиановой смолы ЭДакриловой кислотой, подвергают термообработке при 140-200 С в течение 1 - 6 ч, Полученный продукт при комнатной температуре смешивают с 2,4- диметилфенилмалеинбмидом и пылевидным кварцем в заявляемом соотношении.Далее композицию загружают в экструдер, где осуществляется шнековое перемешивание расплава композиции при5 температуре 110 +10 С, а иэ зкструдеракомпозиция поступает на вальцы....

Номер патента: 1705320

Опубликовано: 15.01.1992

Авторы: Данилюк, Кузнецова, Скрипко, Токарь, Тростянецкая, Урвелис, Ширяева

МПК: C08K 5/15, C08L 63/02

Метки: композиция, радиационно-отверждаемая

...техническими условиями ТУ 38.10551. В образовавшуюся суспензию в течение 1,5- 2, ч прикапывают 311,61 г (4 моль) технического эпихлоргидрина. В процессе подачи эпихлоргидрина температура реакционной массы повышается и достигает 85 - 90 С, Затем массу нагревают на глицериновой бане. При 95 С начинает отгоняться азеотропная смесь вода - эпихлоргидрин. По мере отгонки воды температура реакционной массы постепенно повышается и к концу отгонки достигает 125-130 С, Время реакции составляет 1-1,5 ч. После прекращения отгонки воды массу охлаждают до комнатной температуры и отфильтровывают от осадка хлористого натрия, промывая последний на фильтре 100 мл эпихлоргидрина. Из фильтра отгоняют в вакууме с остаточным давлением 100 - 130 мм рт, ст....

Номер патента: 1735279

Опубликовано: 23.05.1992

Авторы: Есипов, Колотило, Нижникова, Онищенко

МПК: C07C 317/14

Метки: дигалоидфенилсульфонов

...( ).1 г бис-(4-хлорфенил)сульфона растворяют в смеси, состоящей иэ 26,03 г хлорсульфоновой кислоты и 33,5 г фосфорилхлорида (соотношение по массе (1;1,3), добавляют 0,01 г йода и хлорируют в условияхпримера 1 в течение 10 ч, Пробу реакционной массы обрабатывают и анализируютаналогично. Найдено, мас.%: бис-(3,4-дихлорфенил)сульфон 97; примеси 3,4-дихлорфенил-хлорфенилсульфона 2,4; смесьпродуктов более высокой степени хлорирования 0,5.П р и м е р 3. Синтез (И).5 г бис-(4-хлорфенил)сульфона растворяют в смеси, состоящей из 16,66 г хлорсульфоновой кислоты и 11,18 г фосфорилхлорида (соотношение по массе 1:0,7). Раствор переносят в хлоратор, добавляют 0,050,1 г йода и хлорируют газообразным хлором в условиях примера 1....

Номер патента: 142300

Опубликовано: 01.01.1961

Автор: Красноусов

МПК: C07C 25/12

Метки: бензола, гексахлоран, радиационного, хлорирования

...и применением бензола с высокой концентрацией хлора до 14,Ъ), то значительно повышает производительность реактора при уменьшении его габаритов (высота реактора для фотохимичсского хлорирования 8,5 а; а для радиационного - 1 5,и при одинаковой производительности).142300На рисунке. изображена технологическая схема производства гексахлоранаВ сатурато 15 е 1 при охлаждении производится растворение хлора в бензоле до концентрации 14%.Полученный" раствор из сатуратора 1 поступает в реактор для радиационного хлорирования бензола 2, состоящего из труб, соединенных в коллекторы, с 1)асположенными между трубами источниками ионизирующих излучений 3, представляющих собой герметические алюминиевые ампулы.Из реактора 2 раствор поступает в...