Способ изготовления полупроводниковых приборов
Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Описание
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что поры формируют анодным электрохимическим травлением кремниевой структуры.
Заявка
3947136/25, 27.08.1985
Всесоюзный электротехнический институт им. В. И. Ленина
Мишанин В. Е, Блохина А. П, Изидинов С. О
МПК / Метки
МПК: H01L 21/28
Метки: полупроводниковых, приборов
Опубликовано: 27.06.2000
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1335055-sposob-izgotovleniya-poluprovodnikovykh-priborov.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Способ изготовления полупроводниковых приборов</a>
Предыдущий патент: Устройство для измерения угловой скорости
Следующий патент: Способ получения хлорметанов
Случайный патент: Способ создания мочепузырнокишечного анастомоза