Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме
Формула | Описание | Похожие патенты | МПК / Метки | Текст | Заявка | Код ссылки
Формула
УСТРОЙСТВО ДЛЯ ИОННО-ПЛАЗМЕННОГО РАСПЫЛЕНИЯ МАТЕРИАЛОВ В ВАКУУМЕ, содержащее катод с дисковой мишенью, магнитную систему с концентричными полюсными наконечниками, расположенными с зазором один относительно другого с нерабочей стороны мишени и эксцентрично оси симметрии мишени, перпендикулярной ее плоскости, отличающееся тем, что, с целью повышения воспроизводимости процесса распыления мишени, мишень установлена с возможностью периодического поворота относительно ее оси симметрии на угол 
, определяемый из выражения = 
, при этом угол
a 
2arccos 
и r 
а значение эксцентриситета 
составляет величину = 
- 
где n 3 - количество положений мишени;
R и r - внешний и внутренний радиусы зазора между полюсными наконечниками, мм.
Описание
Целью изобретения является повышение воспроизводимости процесса распыления мишени путем уменьшения влияния износа мишени на режимы ее распыления, а также увеличение коэффициента использования материала мишени.
На фиг. 1 показана конструкция устройства, разрез; на фиг. 2 - зоны распыления поверхности мишени.
Устройство состоит из катода 1 с дисковой мишенью 2. Мишень 2 крепится к катоду 1 с помощью кольца 3. С нерабочей стороны мишени 2 расположена магнитная система 4 с полюсными наконечниками 5 и 6, расположенными с зазором 7 один относительно другого и с эксцентриситетом
относительно оси симметрии мишени 2 перпендикулярно ее плоскости. Для фиксации мишени 2 при ее повороте на внешнем контуре мишени 2 имеются пазы 8, а на катоде 1 - выступ 9. Расчетным путем и экспериментально подтверждено, что поворот мишени 2 на угол должен определяться из выражения = 
при этом угол 2 arccos arc cos 
, a r 
. Значение эксцентриситета должно составлять величину, мм = 
< 
, где n 3 - количество положений мишени 2;R и r - внешний и внутренний радиусы зазора 7 между полюсными наконечниками 5 и 6, мм.
Зоны распыления пересекаются в областях 10 после каждого поворота мишени 2.
Устройство работает следующим образом.
Устройство размещают в вакуумной камере (на фиг. не показано) и откачивают до высокого вакуума. Затем напускают инертный газ до рабочего давления и подают напряжение на катод 1. Над мишенью 2 возникает газовый разряд магнетронного типа, в результате чего ионы инертного газа распыляют мишень. После определенной выработки мишени 2 в рабочую камеру напускается воздух и одновременно со сменой изделий осуществляется поворот мишени на угол
. В результате коэффициент использования материала мишени 2 получается вдвое больше, чем у дисковой мишени, расположенной без эксцентриситета, при этом измерение напряжения (при поддержании постоянной величины тока) происходит на величину не более 20-25 В. Это позволяет почти в четыре раза повысить воспроизводимость процесса распыления мишени.Изобретение может быть использовано для изготовления изделий полупроводниковой техники. Цель изобретения - повышение воспроизводимости процесса распыления мишени. Мишень (М) 2 закреплена на катоде 1. Полюсные наконечники 5 и 6 магнитной системы 4 расположены с зазором один относительно другого и с эксцентриситетом относительно оси симметрии М 2 перпендикулярно ее плоскости. Установка М 2 с возможностью периодического поворота относительно ее оси симметрии на угол
уменьшает влияние износа М 2 на режимы ее распыления. Кроме того, увеличивается коэффициент использования последней. В описании приводится выражение для определения угла a и величины, составляющей значение эксцентриситета. 2 ил. Рисунки
Заявка
3943674/21, 09.08.1985
Сейдман Л. А, Смирнов В. К
МПК / Метки
МПК: C23C 14/36
Метки: вакууме, ионно-плазменного, распыления
Опубликовано: 15.08.1994
Код ссылки
<a href="https://patents.su/0-1332866-ustrojjstvo-dlya-ionno-plazmennogo-raspyleniya-materialov-v-vakuume.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Устройство для ионно-плазменного распыления материалов в вакууме</a>
Способ определения величины отклонения жилы провода относительно оси симметрии
Номер патента: 1770990
Опубликовано: 23.10.1992
Автор: Карпенко
МПК: H01B 11/18
Метки: величины, жилы, оси, отклонения, относительно, провода, симметрии
...определяют направление смещения жилы в изоляции и его величину в указанном направлении, определение проводят путем приложения к проводу сжимающей нагрузки, нагрузку прикладывают до равенства величин деформации изоляции с обеих сторон провода в перпендикулярном приложению нагрузки направлении, в указанном направлении прикладывают нагрузку и по величинам ,деформации изоляции в перпендикулярном смещению жилы направлении определяют величину смещения жилы, при этом деформации изоляции провода не превышают упругих,На фиг.1 показано исходное положение проводника и инструментов; на фиг,2 - рабочее положение инструментов и проводника в процессе сжатия проводника; на фиг,3 - сечение А-А на фиг,1; на фиг.4 - сечение Б - Б на фиг,2.Способ...
Скользящая опалубка для возведения монолитных сооружений с вертикальной осью симметрии
Номер патента: 652298
Опубликовано: 15.03.1979
Авторы: Болтушкин, Куников, Мурашкин
МПК: E04G 11/22
Метки: вертикальной, возведения, монолитных, опалубка, осью, симметрии, скользящая, сооружений
...заглушки 12.Короб состоит из нескольких секций. Секция собирается из верхней 13 и нижней 14 половин. Полость секции с одной стороны ограничена подпружиненной плитой 15 с установленными на ней вибраторами 16, с двух других сторон полость ограничена несущими опалубочными щитами 17, на которые наклеены полосы фольги 18. На концах секций имеются перегородки 19. Ложементы закреплены от смешения по образующей купола 20 с помощью дюбелей 21.На начальном этапе возведения купола полость короба закрывается заглушкой 12 и заполняется с помощью насосов 5 конструкционным материалом, Далее материал уплотняется с помощью вибраторов 16 и выдерживается в них для набора прочности. Для ускорения процесса твердения создается соответствующий...
Шаговый электродвигатель
Номер патента: 1140208
Опубликовано: 15.02.1985
Авторы: Краснопевцев, Шватов
МПК: H02K 37/00
Метки: шаговый, электродвигатель
...вид со стороны одного изторцов; на фиг.2 - разрез А-А нафиг.1; на фиг.3 - разрез Б-Б нафиг,2; на фиг.4 - разрез В-В нафиг.2; на фиг,5 поясняется соотношение угловых размеров элементов магнитной системы статора; на фиг.б(а,6,5,) - принцип действия двигателя;на фиг.7 - 11 представлена одна измодификаций предлагаемого двигателя,08 2на фиг.12 и 13 - другая модификация предлагаемого двигателя, виды с противоположных торцов; на фиг.14 - раз; рез Г-Г на фиг.12; на фиг.15 - разрез Д-Д на фиг. 14; на фиг. 16 - разрез Е-Е на фиг,14; на фиг.17 - взаимное положение элементов магнитной системы статора двигателя согласно фиг.12-16; на фиг.18 - 22 - модификация двигателя со сплошным малоинерционным ротором.На пластине 1, выполненной из...
Способ абразивной обработки
Номер патента: 1310176
Опубликовано: 15.05.1987
Авторы: Байков, Бенюхис, Бойко, Гарипов, Головчиц, Морозов, Хомич
МПК: B24B 31/112
Метки: абразивной
...нарезок.Так, при обработке винтовых наружных,поверхностей с глубиной нарезки Оболее 3 мм детали 1 располагают так,чтобы в поперечном сечении прямая,соединяющая их центры, была перпендиокулярна (угол /3 =90 ) оси симметрииполюсных наконечников 2 (фиг. 1). 15При этом величину бокового зазора взацеплении выбирают в пределах 0,81,5 мм. При таком расположении деталей основная масса ферроабразивногопорошка скапливается в,зоне зацепления деталей и обеспечивает интенсивную обработку глубоких впадин,При обработке винтовых наружныхповерхностей с глубиной нарезки менее3 мм расположение деталей по фиг. 1 5приводит к появлению шаржированияиз-за наличия большого количества по 13101 рошка в зоне зацепления и к неравномерности обработки. Поэтому...
Способ магнитно-абразивной обработки наружных поверхностей цилиндрических деталей
Номер патента: 1650401
Опубликовано: 23.05.1991
Авторы: Бруй, Скворчевский, Устинович, Якименко
МПК: B24B 31/112
Метки: магнитно-абразивной, наружных, поверхностей, цилиндрических
...вызывает возрастание магнитной индукции на участке рабочей зоны с меньшим зазором и ее уменьшение на участке с большим зазором. Возрастание магнитной индукции в отдельных зонах рабочего зазора приводит к усилению силового воздействия порошка на деталь в этих зонах, вызывающему получение погрешностей формы детали,Если полюсные наконецники поворачивают на угол, при котором величина магнитной индукции между осью их рабочей поверхности и кромкой торца детали больше 0,9 В, то не обеспечивается уменьшение влияния краевого эффекта и выравнивания индукции вдоль оси рабочей поверхности, приводящих к выравниванию силового воздействия порошка на поверхность детали. Формируется бочкообразный профиль продольного сечения детали.При повороте...
Предыдущий патент: Вакуумная интегральная схема
Следующий патент: Эластичный магнитный композиционный материал
Случайный патент: Пружинный механизм для поступательного перемещения