Загуральский

Номер патента: 679540

Опубликовано: 15.08.1979

Авторы: Загуральский, Ковнер

МПК: C03C 7/04

Метки: эмаль

...6,71,20,040,27 о, Эмаль варят при 1150 1200 С дополного провара.1 ЪоТемпература обжига, С 820 810 830 700-78 780 0,190 0,175 0,180 0,170 0,260-0,32020%-ном растворе НСВ 0,180 0,200 0,210 О, 160 0,200-0,35 О 300 320 0,12 0,1 Прочность на удар, кгм; Лесок кварцевый 46,9 Борную кислоту 21,7 Алюминия гидроокись 6, 1 Натриевую селитру10, 1 Соду кальцинйрованную 25,7 Калиевую селитру 6 4 ДВуокись титана 3 Тринатрий фосфат 5,4Циркониевую руду,содержащую 627% Кобальта окисьНикеля окисьМарганцевую пасту Химстойкость (потеря веса после4 ч кипячения), мг/см в210%-ном раствореЙс 10 Н Термостойксть по методутеплосмен, С Конкретные составы эмали, вес.% 1234 ф Са О 7,5 2,5 2,62 3 Со О 1,3 1,18 1,18 0,8/1 Ф 1 О 001 002 0,04ОМиО Оф 59 О, 1 0,23 0,62р,...

Номер патента: 644741

Опубликовано: 30.01.1979

Авторы: Загуральский, Ковнер

МПК: C03C 7/04

Метки: грунтовая, эмаль

...- 8; МпгО, 3 - 4; СоО 0,35 - 0,90; -%0 0,4 - 1; ГегОз 0,3 - 0,55; Г 4 - 5,6.Варку грунтовой эмали осуществляют в обычной производственной вращающейся печи, например, емкостью на 250 кг фитты при 1200 С в течение 1 ч 35 мин. Расплав гранулируют на воду. Помол фритт производят мокрым способом в шаровой мельнице до тонины 14 - 16 (по сосуду Лисенко, метод Азарова),Шликеры грунтовых эмалей наносят на предварительно обработанную по обычной схеме поверхность металла, например, из стали 08 КП, одним из,известных способов: окунанием, пульверизацией, электроосаждением и др. Использование опис эмали позволит расшири га, повысить адгезию эм улучшить технологическ онные свойства покрытиПоказатели Таблица 1 5 Состав, вес. % Интервал тсмпературы обжи....

Номер патента: 631477

Опубликовано: 05.11.1978

Авторы: Загуральский, Иорданов, Ковнер, Паукш

МПК: C03C 7/04

Метки: эмаль

...известнойляется высокая температур(820-850 С), что приводитции стальных изделий прикроме того, в известной эинтервал оплавления - 80оЦелью изобретения являние температуры обжига и.интервала оплавления эмал Эмаль впри темпер1,5 час стем гранулИзобретми составамвес.Ъ:802В 2 ОЭ631477 Ко О 20 18,3 19 13,5 И 25 3 4 4, 5 3 ЕпО ж 0,3 3 1,2 0,5 Бг 0292 47 55 3 5 710. 2 8 ,; . 2,9 1,5 Сйд 2,843,8 7,5 СО 20 ОУ 9 1,2 1 У 2 0,7 Помол легкоплавкой эмали осуществляют в шаровой мельнице до тонины 8-12 (по сосуду Лысенко, метод Азарова) . В мельницу загружают следующие компоненты, вес,ч:Фритта 100 Глина Часовъярская 3-4 Бура жженая 0,1-0,2 Аммоний молибденово"Вода О, 05-0, 1 Вода 3 6-5 О.Наносят эмаль нй изделия, например из стали 08 КП,известными...

Номер патента: 631475

Опубликовано: 05.11.1978

Авторы: Загуральский, Ковнер, Паукш

МПК: C03C 7/00

Метки: шликер, эмалевый

...ШЛИКЕ сотерше й фрлтгу, Глину и Воду, В качестве добавки содержай 1,2,3 трноксибензо при с. еруОшам соотношении компоненто 1 лнВод1,2 3 трчоксибенэол О 02 13 30111 Гяке э Готовят .", .:,; мокрого помолафритты л Глины, 1,2,3 трноксибензол вводят вшлнкер послс еГО риготовления прном перемешч ванин.Злсктрофоренческое нанесение покрытийна металлические изделия осуществляют приполном цх окунании в шликер и непрерывномламинарном перемещнвании шликера. После на.нех,гпя гОкрытия изделия промывают волок,6 Описываемые составы обладают следую своиства Максимапьнпри электроо ое напряжение саждении, в я плотность 10 Максимальнатока, а/дмаВремя злект,5 аждения,0 се проводность Удельная элешлихтера 900 500 актеристика получе Плотный слой, не....

Номер патента: 607801

Опубликовано: 25.05.1978

Авторы: Загуральский, Ковнер, Паукш

МПК: C03C 7/00

Метки: ингибитор, свойств, стеклоэмалевых, суспензий, электропроводящих

...удельной эл в оптимальн ионы удаляю шликера 11 ы используют ичных свойст ОЦель Изоб ектропрово вых суспен Это дости а в качес водящих с спензий. етения - стабилиящих свойств стеиф,цияоэманением циквара электрооэмалевых гается примтве ингибитвойств стек он ро Кроме того, ингибитя для стабилизации рауспензий О, Вжелтый мелкокристаллический порошок,без запаха и приятного вкуса.В табл. 1 приведена удельная злектропроводность суспензии (,Ю б см ), ав табл. 2 - содержание компонентовразличных марок стеклофриттов.Из приведенных примеров следует, что циквалон не только стабилизирует удельную электропроводностьсуспензий, но и незначительно понижает ее. Это позволяет применять циквалон по новому его назначению приэлектрофоретическом нанесении...

Номер патента: 591420

Опубликовано: 05.02.1978

Авторы: Байбурдов, Загуральский, Кашкина, Ковнер, Нарвоин, Невмытая, Северинов, Скороходова

МПК: C03C 7/00

Метки: шликер, эмалевый

...плотный электрофоретический осадок, который не смывается водой при струйной промывке.Электрофоретическое образование осадка с влажностью 12-18 с более плотной упаковкой частиц дисперсной фазы способствует электроизолирующему действию покрытия, вследствие че 66 В полученный шликер добавляют 0,5-10 тройного сополимера метакриловой кислоты с бутилакрилатом и метилметакрилатом, который предварительно нейтрализован до рН 7,0-8,5 диметилзтаполамином. Составы эмалевых шликеров с использованием различных фритт представлены в табл. 2. Электрофоретическое покрытие из данных фщликеров наносят на Тройной сополимер метакриловой кислоты с бутилакрилатом и метилметакрилатом Тройной сополимер метакриловой кислоты с бутилакрилатом и метилметакрилатом...

Номер патента: 583982

Опубликовано: 15.12.1977

Авторы: Везник, Веретенников, Глушевицкая, Загуральский, Иоффе, Ковнер, Паукш

МПК: C03C 7/00

Метки: эмаль

...9 - 171120А 120 з 5 - 9,51,5 - 2,52,5 - 50,2 - 31,5 - 2,50,5 в 1,53,5 - 82 - 30,1 - 50,5 - 2небольшойчочестососттермообра Целью изобретенияитервала Обжига и 1 цеЦель достигается темэа,11 дополнительноСЛСДУ 01 ЦЕМ СООТНОШЕПП 15102В 20 зКОХа 20Т 102Уг 02Са 1.-2А 120,Р 20;Со 20 зВ качестве прсоставы предлагэ А 12 ОВ 20 з эК 20 3Ма 20 18Т 10, 2Со Оз 0,8Хг 02 .1,2Р 20 1СаГ.Шхту готовят пз к1 лавпковсго шпата, се1120 з Со 20 з Уг 02 и т 3 - 5 18 - 20 2 - 3,8 4,2 - 9,2 3 - 6,2 3,5 - 5 1 - 2,1 0,8 в 1,5 рпведены следующие 1 а ш вес % г 7 31 о Составитель С. БелобоковаТскрс; И, М:халова 1(оррсктр 3, Тарасова Редактор Е, Яков ик Подписное Заказ 200314 11 зг. Ло 955 Тираж 585 11 ПО Государственного комитета Совета Министров СССР ио,слз. изоорстсии...

Номер патента: 578273

Опубликовано: 30.10.1977

Авторы: Загуральский, Шумов

МПК: C03C 5/06

Метки: шликер, эмалевый

...80 1,5 0,5 1,0 Т а б л и ц а 2 Состав Показатели 4017 Вязкость суспензии по В 3-4, с Удельная электропроводность, 10 - з Ом - 1 см - 1рН суспензии 1,838,3 8,2 1,858,7 зовавшегося осадка, Выравнивание толщины осадка на изделии обнаруживают по резкому 40 падению силы тока при формировании осадка.Например, если в начале осаждения силатока равна 16 А, то через 30 - 45 с - 8 - 10 А, т. е. почти наполовину падает в результате 45 образования плотного осадка на изделии. Интенсивность формирования осадка составляет от 150 до 500 мк/мин. 50 1. Эмалевый шликер для электрофоретического нанесения покрытий, содержащий фрит ту, бентонит, глину, нитрит натрия, алюминат натрия и воду, отличающийся тем, что, с55 целью улучшения качества покрытий, он...

Номер патента: 574410

Опубликовано: 30.09.1977

Авторы: Загуральский, Ковнер, Паукш

МПК: C03C 7/00

Метки: покрытия, шликер, эмалевого

...стсклофритт используют:1. Смесь грунтовых стеклофритт5,600,601; состояп 1 ую из 50, 30, 20 вес. %, соответственно.Таблица 2 Состав, вес. ч. Компоненты шликера Стеклофритта ЛК 10 Глина 110 2 50 0,191205,5800,5 1000,2400,02 Вода Оксигидрохинонтри- ацетат 15 Таблица 3 С о с т а в Условия осаждения и характеристика осажденного слоя 2,0 2,5 4,0 10 20 40 2,0 2,5 4,015 20 60 2,0 2,5 4,510 20 60 Плотность, А/дРНапряжение, ВХарактеристикаоса 1 кдеиного слоя Плотныи слои, несмываем при много кратном окунании в воду и при струйной промывке, адгезия хо- рошая Ровный тонкий слой, не смываемый при окунании, адгезия хорошая Плотный слой, несмываем водой при многократной и струйной промывке, адгезия хо- рошая Формула изобретения 20 Составитель С....

Номер патента: 560013

Опубликовано: 30.05.1977

Авторы: Загуральский, Ковнер

МПК: C25D 13/02

Метки: изделия, металлические, нанесения, покрытий, электрофоретического

...(Зпл-ивлслис и к; гол сс)от)стс)с ц:. 1 рц этом элсктрл 3 вы:1 лцсн: вде н. ГОЛ) т(;12, Олна цз стрц п3(рп( сть) 1 кО ОРО ЦЗОтВЛЕ:,) ПЗ ЦОР пот О ОКПРО 3- Л Я цс О а3 т с Р 112 Г 1 1, 11 2 . 1 Р ц м . Р 1 ) 111 к 013 О О пркага нср)кавсюпсп сгзлп. 1;р .с тг, лып э,скгрЛ 3 с:;)йжс; патр) камц 5 ц 0 Л, 151:1 Лзи ц с 3 Г и 32 жилис ти. 1) ) Г) ОкЛ,Я СГ 1 ИВЗ ЖцЛКОс"Гц рав)с 1 цсп В:1 ц.К 1(Й (1- Стц;,с);Э,сК; РОЛ;.В элскгрофорстц с(кой и)цпс 1 прц полсослицсццц зцоЛ 2-цзЛ(Ги 513 вовсрх 13 стц 4 КЗ- тода 3 к источцку постоянного элок) рцчсск- го тока процскоЛцт элсктрофорстичсскос цапсссис стскгоэ)13,1 сВОГО:10 КРВ 31 ц 51 ц 1 ЗцЛ- и (ЛСГ 1 ц( ), ПРи:-)э) с 131 п.ис 1 цп 1 с и;11 ппы 13 с) с:сизин перс )Спаются к к;)тлм,), пр:и,кают через...

Номер патента: 550457

Опубликовано: 15.03.1977

Авторы: Верцман, Загуральский, Иоффе, Ковнер, Хорошев

МПК: C23D 11/00

Метки: детали, нанесения, пульверизацией, сложной, формы, шликера, эмалевого

...расхода эмалевого шликера предлагаемое устройство снабжено вибратором, подпружиненным к транспортеру и расположенным перед сушильной камерой.На чертеже показано предлагаемое устройство, содержащее транспортер 1, над которым смонтирован корпус 2 с распылителями 3, под которыми расположен сборник 4 эмалевого шликера с обрабатываемых деталей и вибратор 5. Для перекачивания эмалевого шликера из сборника 4 к распылителям 3 он снабжен насосом 6. За корпусом 2 2расположена сушильная камера 7, при этом корпус 2 с распылителями 3 снабжен кривошипами 8 с приводом (на чертеже не показан). Для очистки транспортера 1 устройство 5 снабжено ванной 9.Устройство работает следующим образом.Включают транспортер 1 и обрабатываемые детали...

Номер патента: 523067

Опубликовано: 30.07.1976

Авторы: Загуральский, Кошевой, Шумов

МПК: B28B 11/00

Метки: формования, электрофоретического

...по влажности, это мо 5 Целью изобретения является повышение качества изделия и снижение энергозатрат.Достигается это тем, что составные частиэлектродов выполнены чередующимися по полярности и снабжены электрическими размы 10 кателями,Такое выполнение устройства дает возможность отключать подачу тока к отдельнымчастям отформованного изделия, что исключает электроосмотическое обезвоживание в15 зонах законченного формования и сокращаетэнергозатраты. Отформованное же изделиеголучается более однородным по влажности,что облегчает его сушку и снижает брак.Предлагаемое устройство для электрофоре 20 тического формования изделий схематичноизображено на чертеже.Оно представляет собой ванну 1, заполненную суспензией 2, В ванну 1 помещены...

Номер патента: 484343

Опубликовано: 15.09.1975

Авторы: Загуральский, Кошевой, Шумов

МПК: F16H 17/06

Метки: автоматическая, передача, фрикционная

...ролик выполнен в виде последовательно увеличивающихся в диаметре камер с эластичными поверхностями качения, В перегородках камер установлены клапаны, через которые при повышении скорости вращения рабочая жидкость перетекает в смежные камеры большего диаметра, а при снижении скорости вращения - в смежные камеры меньшего диаметра. Однако известные передачи обладают ступенчатым изменением скорости.С целью плавного изменения скорости вращения ролика, установленного на ведомом валу, этот ролик выполнен коническим, а передача снабжена установленным внутри полого ролика и контактирующим через эластичную стенку с коническим роликом диском с отверстиями и закрепленной на нем крыльчаткой, имеющей лопасти. На чертеже показана предлагаемая...

Номер патента: 481581

Опубликовано: 25.08.1975

Авторы: Загуральский, Шумов

МПК: C04B 41/30

Метки: формования, электрофоретического

...использовании предлагаемогоустройства набор осадка будет происходить по всему межэлектродному пространству, причем в местах, где межэлектродное расстояние наименьшее, набор осадказакончится раньше и будет продолжатьсяпроцесс электроосмотического обезвоживания, а на участках с большим межэлектродным пространством процесс осаждениябудет продолжаться. Продолжительностьформования изделий лимитируется максимальным расстоянием между электродамии параметрами тока. Интенсивность электро форетического формования составляет0,5-30 мм/мин,На чертеже изображено предлагаемоеустройство, общий вид,Устройство представляет собой электроизолированную ванну 1, заполненнуюсуспензией 2, В ванну 1 помещены электроды 3 и 4, форма которых в сборе...

Номер патента: 464666

Опубликовано: 25.03.1975

Авторы: Загуральский, Кошевой, Шумов

МПК: C23B 13/00

Метки: внутренних, поверхностей, покрытия, сосудов, электрофоретического

...8 присоединены к круговым ребрам 6, Дополнительные электроды 7 опираются на опорные кольца 9, которые штифтами 10, выполненными на поверхности втулки 5 между 10 круговыми ребрами 6, перемещаются в продольных окнах 11 и присоединены к электроду 12. Электрод 12 через шайбу 13 и пружину 14 взаимодействует со втулкой 5.В процессе работы к шайбе 13 прилагается 15 усилие и пружина 14 деформируется. Электрод 12 утапливается во втулку 5. Штифты 10 жестко закрепленные к основному электроду 12, перемещают опорные кольца 9 по направлению движения электрода 12. При 20 этом шарнирно присоединенные к круговымребрам 6 дополнительные электроды 7 опускаются, располагаясь вдоль втулки 5. Устройство вводится в горловину 2 до соприкосновения последней с...