Логутова

Номер патента: 689411

Опубликовано: 10.05.1995

Авторы: Гунина, Лаврентьев, Логутова, Поярков, Степанов, Черников

МПК: G01N 19/04

Метки: адгезии, пленки, подложке

1. СПОСОБ ОПРЕДЕЛЕНИЯ АДГЕЗИИ ПЛЕНКИ К ПОДЛОЖКЕ, заключающийся в том, что к пленке прикладывают отслаивающее усилие, а об адгезионных свойствах судят по наличию неконтактирующей площади, отличающийся тем, что, с целью повышения точности определения адгезии фоторезистивных пленок, поверхность пленки подвергают ионному легированию, подложку с пленкой нагревают, а об адгезионных свойствах судят по наличию вздутой пленки.2. Способ по п.1, отличающийся тем, что легирование осуществляют ионами фосфора с энергией 100 200 кэВ и дозой легирования 100 500 мкКл/см2.3. Способ по п.1, отличающийся тем, что легирование осуществляют ионами бора.4. Способ по п.1, отличающийся тем, что легирование осуществляют ионами сурьмы.

Номер патента: 1040349

Опубликовано: 07.09.1983

Авторы: Алакозов, Зареченский, Казачков, Колечко, Логутова, Макуров

МПК: G01K 1/10

Метки: наконечника, покрытие, термопары

...в состав покрытия дополнительновводят вольфрамовый порошок при следующем соотношении компонентов,вес.:Нитрид бораДистенсиллиманитВольфрамовый порошок 35-40Связующее ОстальноеВведение вольфрамового порошка всостав покрытия значительно увеличи"вает его стойкость против воздействия жидкого алака благодаря образованию на поверхности наконечника проч"ного металлокерамического покрытия,Снижение содержания вольфрамового по.рошка ниже 351 и увеличение свыше 403ухудшает стойкость покрытий. В пер" 2вом случае содержание вольфрама недостаточно для образования прочной металлокерамики, во втором происходит окисление вольфрама из-за недостатка стеклофаэы, выделяющейся из дистенсиллиманита.При погружении наконечника в шлаковую ванну происходит...

Номер патента: 938338

Опубликовано: 23.06.1982

Авторы: Гунина, Лаврентьев, Логутова, Поярков, Степанов, Черников

МПК: G03F 7/26, H01L 21/265

Метки: фотошаблон

...этогоне происходит "сшивание" фоторезистас маскирующей пленкой и положительный эффект не достигается.При легировании ионами с энергией более 2 ЬО кэВ происходит разогревание подложки до температуры, прикоторой происходит разрушение фоторезиста,Если доза легирования менее100 мкКл/см , то не достигается оптигмальная оптическая плотность, неполностью затягиваются проколы и,следовательно, цель изобретения недостигается.При дозе легирования. больше500 мкКл/см происходит разогревстеклянной подложки, что отрицательно влияет на качество легированного 1 Офоторезиста, резист разрушается.На чертеже изображен предлагаемыйфотошаблон, разрез,фотошаблон содержит стекляннуюподложку 1 с нанесенным .на нее маскирующим слоем 2 из металла илл...

Номер патента: 632431

Опубликовано: 15.11.1978

Авторы: Кузнецов, Логутова

МПК: B21C 47/28

Метки: барабан, ленты, намотки, тонкой

...диск 2 крепится на валу привода 3 шпонкой 4 и установочным винтом (на чертеже не показан). На каждом 20 сегменте 1 шарнирно закреплены по двесерьги 5, одними концами которые связаны между собой валиком 6 с упругим покрытием, например обрезиненным. На резьбовом конце вала при вода 3 установлена ходовая36 гайка 7, в кольцевой проточке которой установлены два нажимных полукольца 8, соединенные винтами 9 с клиньями 10. Клинья 10 жестко закреплены на втулке 11. По всей длине сегментов 1 с внутренней стороны закреплены упоры 12, ограничивающие концы наматываемых лент 13. Для разделения наматываемых лент между собой на сегменты надеты разделительные диски 14 и ограничительные полукольца 15. Серьга 5 посажена внутренней стороной...