H01J 3/14 — устройства для фокусировки или отражения луча или пучка

Электронно-оптическая система

Загрузка...

Номер патента: 44867

Опубликовано: 31.10.1935

Автор: Макс

МПК: H01J 3/14

Метки: электронно-оптическая

...пластинок 11 и 12.По отношению к стенкам покрытой металлическим слоем трубки пластинки 11 и 12 находятся под отрицательным потенциалом,Электронный пучок, проходящий в плоскости АА (фиг. 2), изображен своими крайними лучами 13, 14 (фиг. 1). Эти последние при пересечении эквипотенциальных поверхностей, показанных на чертеже пунктиром, фокусируются (на входе и выходе воздействующего устройства). При вступлении электронного пучка в зону пластинок 11 и 12 воздействие их таково же, как и по выходе из них; вследствие этого, понятно, повышается сходимость лучей 13 и 14, расположенных в плоскости АА. Таким образом, катодные лучи покидают зону электродов 11 и 12, располагаясь внутри угла, ограниченного крайними лучами 13, 14.В плоскости,...

Е-тот, -, жш-ц: bj-vgtzua

Загрузка...

Номер патента: 271669

Опубликовано: 01.01.1970

Авторы: Берсене, Дер, Куликов

МПК: H01J 3/14

Метки: bj-vgtzua, е-тот, жш-ц

...слоя. Главныелучи всех пучков, исходящих из выходной поверхности шаблона, сходятся в одну точку, которая совпадает с главной плоскостью уменьшающей линзы 4 (или системы линз) и рас положена на общей оси симметрии шаблонаи линзы. В этой же плоскости расположена апертурная диафрагма 5, цен-р отверстия ко.торой находится также на общей оси симмет.рии шаблона и линзовой системы. Лпертур ная диафрагма ограничивает одновременновсс пучки, исходящие от шаблона и позволяет этим сформировать четкое уменьшенное изоб,ражение перфораций шаблона 2. Стигматор 3 устраняет астигматпзм изображающей систе мы. То, что апертурная диафрагма установлена в центре сферической поверхности шаблона и в главной плоскости линзовой уменьшающей системы,...

Электростатическая призма

Загрузка...

Номер патента: 441610

Опубликовано: 30.08.1974

Авторы: Бобыкин, Гликман, Кельман, Невинный, Федулина

МПК: H01J 3/14

Метки: призма, электростатическая

...варианте предлагаемая приз;ма выполнена в виде трехэлектродносистемы, схематически в аксонометии, изображенной на фиг,1; на фиг,схематически показаны проекции 5электродов призмы и траекторийпроходящего через нее пучка заряженных частиц на плоскости Х 2. иУ 2 /проекции траекторий показаныпунктирол/. Электродами призмы 1 ослужат парй пластин 1,2,3, находящиеся под потенциаламй Ча,М,Уосоответственно. Система в целомсимметрична относительно среднейплоскости Х 7,являющейся плоскостью 5симметрии поля призмы. В предлагаемой призме распределение потенциалав сферической системе координат "с 6 Ф , связанной с изображенной на фиг.1 декартовой сист омой ХУХ соотношениями: Аибй, -3 и,4 иф,ю:сСщ 6,зависит только от угловых...

Способ формирования электронных пучков

Загрузка...

Номер патента: 622183

Опубликовано: 30.08.1978

Авторы: Акопянц, Гольдфарб, Зубченко, Кулешов, Локшин, Металлов, Назаренко, Пацьора

МПК: H01J 3/14

Метки: пучков, формирования, электронных

...кроссовере и угол схоцимости 5выбирают в соответствии со слепуюшимисоотношениями: вием сил собственного магнитного полянужны не только токи пучка 3150 мА,Пно и малые углы схоцимости пучка на выходе из прожектора ос й 10 рад, малые-2начальные диаметры пучка на выходе изанодного отверстия в й 1 мм, а такжесравнительно большие ускоряющие напряженияЦск 10 кВ,Если исхоцить из реально достижимыхпараметров электронных пучков, могущихбыть использованными цля электроннолучевой сварки: 5 П2 А, с10 рад,3: 0,1 мм,Бск200 кВ, то вкачествеверхней границы можно принять:АЗП;Ъкс ЮВМсдОтметим, что предлагаемый способформирования пучков, в принципе, не отвергает также и возможности примененияэлектромагнитных фокусируюших систем.Так как на входе в линзу...

Источник отрицательных ионов

Загрузка...

Номер патента: 818360

Опубликовано: 07.10.1983

Авторы: Мазурова, Удальцова

МПК: H01J 3/14

Метки: ионов, источник, отрицательных

...поперечного к амиссионной ще- .ли и направлению вытягивания магнитного поля 2Известный источник обладает небольшим ресурсом, что обусловлено значитель ными температурными неравномерностями,приводящими к смещению пучка ионов и распылению электродов.Целью изобретения является повышениересурса источника. ЗО. Эта цепь достигается тем, что в источнике отрицательных ионов, содержащемгазоразрядную камеру с катодом и охватывающим его. анодом с прямолинейнойемиссионной щелью, вытягивающий электрод для создания поперечного к амиссионной щели и направлению вытягивания магнитного поля, .анод выполнен в виде цвухгерметично соединенных вдоль образующей цилиндрических трубок, размещенных 40одна в другой, причем эмиссионная шепьвыполнена в...