Патенты с меткой «растров»

Номер патента: 1599835

Опубликовано: 15.10.1990

Авторы: Вдовин, Ганиев, Грибановский, Дербенев, Ченцова, Щеглов

МПК: G03F 5/00

Метки: диафрагмированных, линзовых, растров

...30-40 мин в 200 мл дистиллированной воды, набухший желатин растворяютна водяной бане при 45-50 С, вливают10 мл раствора смачивателя СВ-12,который готовят заранее, растворяя21 мл смачивателя в 100 мл воды. Приготовленного раствора достаточно дляобработки 1-2 м поверхности,Коллоидный раствор при 45-50 Снаносят на предварительно подготовленные подложки методом полива с последующей сушкой в горизонтальной центрифуге в течение 2-3 мин при частоте1599835. Составитепь Киреева Н,В. Техред М,Ходанич Корректор М., Максимишинец Редактор А.Лежнина Тираж 373 Подписноекомитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР Москва, Ж, Раушская наб., д. 4/5 Заказ 3143ВНИИПИ ГосударственногоИ 3035,Производственно-издательский комбинат "Патент",...

Номер патента: 1601603

Опубликовано: 23.10.1990

Авторы: Ганиев, Грибановский, Ченцова, Щеглов

МПК: G03F 5/00

Метки: линзовых, матрицы, растров

...в течение, 10-15 мин из электролита следующего состава, в г/л:Си 8045 Н 20 210Н 280 50 10Тиомочевина 0,411 аС 1 О, 01Используют медный анод. Пластину промывают, повторно экспонируют в течение 5 мин, промывают 0,5 Е-ным ра,створом щелочи иводой для удаления оставшегося светочувствительного слоя.В результате осуществления описанных операций получают на поверхности пластины изображение бинарногорастра медью на фоне алюминия.Пластину окунают в расплав припоя ПОС.Поскольку припой смачивает лишь медь ,и не смачивает алюминий, то после 25охлаждения модели до температуры затвердевания припоя на поверхности образуется рельеф линзового растра,Для электролитического наращива,ния матрицы модель помещают в ваннуэлектрохимического никелирования...

Номер патента: 1658120

Опубликовано: 23.06.1991

Авторы: Кмить, Лебедь, Мервинский, Чуприна, Шовгенюк

МПК: G03F 5/00

Метки: контактных, растров

...значениям параметра К0,9 приводит к сильному смыканию ячеек контактногоо растра и резкому падению контраста, что приводит к уменьшению интервала оптических плотностей контактного растра,Для формирования заданного профиля элементарной ячейки контактного растра и, следовательно, оптимальной градационной характеристики контактного растра экспонирование производят за двумя и более диафрагмами. Причем, изменяя конфигурацию экспонирующей диафрагмы, получают различную форму изоденс контактного растра и, следовательно, различную структуру растровых элементов.Особенностью использования двойной растровой системы является то, что формирование высокого контраста растрового поля, необходимого для получения контактного растра с интервалом...

Номер патента: 1665335

Опубликовано: 23.07.1991

Авторы: Ганиев, Грибановский, Папченко, Цуканов, Ченцова, Щеглов

МПК: G03F 5/02

Метки: диафрагмированных, линзовых, растров

...сушка, нанесесовмещения контуров линзовых и диафраг- ние на одну из сторон стекляной пластинки мируемых элементов. защитного покрытия, сенсибилизация, проП р и м е р. На стеклянную(ГОСТ 685-75) мывка, активирование, промывка, сушка, предварительно подготовленную активиро- печать линзовых элементов. Сушка нане- ванную раствором хлорида палладия пла- сенных линзовых элементов. Химическая стинку толщиной 2 мм наносят, например, металлизация растра. Промывка, Сушка. трафаретным способом, оптически прозрач- Ф о р м у л а и 3 о б р е т е н и я ную композицию на базе эпоксидной смо- Способ изготовления ддафрагмированлы и диэтиленамина, после отверждения ных линзовых растров, заключающийся в композиции производят химическую ме-...

Номер патента: 1675836

Опубликовано: 07.09.1991

Авторы: Ганиев, Грибановский, Папченко, Цуканов, Ченцова, Щеглов

МПК: C25D 1/10, G03F 5/00

Метки: линзовых, матрицы, растров

...т,е, стой лишь разницей, чта диаметр прозрачных дисковсоставляет 56 мкм, и эту структуру размещают таким образом, чтобы центры ее прозрачных дисков строго совпадали сцентрами медных дисков предыдущегослоя. Далее все операции повторяются, после чего наносится третий слой фоторезиста, в котором описанным способомформируют отверстия диаметрам 29 мкм,расположенные строго па центру медныхдисков предыдущего ряда (для более точнойаппроксимации профиля линзовых элементов заданной кривизны таких чередующихся операций нанесения фоторезистивноймаски и наращивания слоя металла должнобыть не 3, а гораздо больше, при этом используются бинарные структуры, у которыхшаг уменьшения диаметра прозрачных дисков стремится к минимальной...

Номер патента: 1689916

Опубликовано: 07.11.1991

Авторы: Касьянова, Сергеев

МПК: G03F 5/16

Метки: контактных, растров

...растровых элементов с я ото мин на первом этапе многократной записи с шагом ЛЯ 0 тн, определяющим число воспроизводимых градаций, до Я 0 тн " на последнем этапе многократной записи, Таким образом, формируют элементы контактного растра с заданной градационной характеристикой.П р и м е р. Осуществляют настройку лазерного источника излучения с учетом сенситометрических характеристик фотоматериала,Осуществляют выбор экспозиции Н дозированного экспонирования Н = Е 1 ь где Е - освещенность фотоматериала в его плоскости при 1-м дозированном экспонирова.- нии;- время экспонирования каждого элемента растровой точки при 1-м дозированном экспонировании.Для определения этих параметров используют мощность Ю лазерного источника излучения,...

Номер патента: 1698638

Опубликовано: 15.12.1991

Авторы: Алексеенко, Бансявичюс, Бараускас, Гинетис, Гяцявичюс

МПК: G01B 11/26

Метки: прямоугольными, радиальных, растров, точности, штрихами

...1 б 98 б 38 А тельнои технике, Целью изобретения является повышение производительности за счет упрощения процесса отбраковки растров, имеющих зону пересечения штрихов. Производят совмещение растра с шаблоном, в качестве которого используют шаблон с элементом в виде окружности. Затем производят сравнение зоны пересечения штрихов растра с окружностью на шаблоне. Зона пересечения штрихов наблюдается визуально невооруженным глазом в виде дифракционной полосы, О погрешности изготовления растра судят по отклонению границы пересечения штрихов растра от окружности. В случае наличия отклонения ст точности изготовления производится отбраковка соответствующего шаблона. ширинои, между точкой их пересе видная щель, в ко ция света, т,е...

Номер патента: 1707600

Опубликовано: 23.01.1992

Авторы: Ганиев, Грибановский, Ченцова, Щеглов

МПК: G03F 5/00

Метки: диафрагмированных, линзовых, растров

...ГД;Я.)Ой Ца)ГРИфУГЕ О та 1чс ,с 2 3 мин прс,:; гота врд;,)а ИЯ ротера 110 .1(,0 эб/мин, Г 1 оса зэсту,1 );С)1 ч сл(эс л; с Гнки суш. г в с )1.,Льн(:м 11):.т)у с лан- тИЛЯГОрОМ баЗ ПОДОГрвеа Э таза 1, . 15 К;ИН.Р(,)эив)зО) 11)з(эи)1 ны) с "Ой 1) залеый 1,1.", Г 1/ГЕ,"1 ГГР/жацН 1 .;,-:Ч.)И ОЭС- теор крдситаля ярко зала;О)- и,ау 1 Идд Ю Г.11 Э П Од ГОТП В Л аЫ Х О 11С ) ) 1 Ы Г 1 (. П О". О- ( ". П дс(ИНКс)Х (11 Ор;.;1 рс/От ЛИ ЗО Н)Е ЭЛЕ. С Нт Ы ПЕРИ О ГИЧОС КОЙ Г,т РУК ГУРЫ : дэ)И)здием( ра-) ТГфэретуо са" ку Кдй црОЗрдЧОй КОМГ)ПЗИПИИ На бд;Е.,1 К )сПМ ШКд 1)/ П).1 с) С Э 1 сСИ. 0 О Ч ДЛЯПсн;ИЯ ЕПР)С 1 ДО 1 Кзф.ЦОЗ)ЦИИ, Д За(11 е"Яг д них 2".,-1 ый водный рдсгворл 1),Чс) КО,)Г К;) )1;, О, (Эыд с,кнадОТ 1 - 211) 1,1) . О М Ь) да .О 1...

Номер патента: 1716472

Опубликовано: 28.02.1992

Автор: Яцевич

МПК: G02B 27/22, G03F 5/00

Метки: двух, диоптрических, изображений, размножения, растров, регулярных, системой, точечных

...в плоскость Р, которая совпадает с фокальной плоскостью растра Й 2. Вторым растром 3 с фокальной. плоскостью Мз, совпадающей с плоскостью Р, строят лишь одно суммарное изображение с такой же ориентацией, как и . в бесконечности. Пучки лучей, формируемые элементами 2 от точки объекта, лежащей на оси 00; совпадают с оптическимиосями элементов растра 2, имеющего конечную рабочую поверхность, При повороте растра 2 или 3 на некоторый угол вокруг оси 00 (фиг.1) с положения 0 - Х (фиг,3) в положение О -смещают оптические оси элементов двух растров. По мере продвиже-. ния, например,по оси расположения ряда линз 0 -от центра О, оси которых находятся на пересечении линии 0 -с дугами окружностей, проходящих через оптические оси линз 1, 2, 3,...

Номер патента: 1747884

Опубликовано: 15.07.1992

Автор: Титов

МПК: G01B 11/27

Метки: вращающихся, двух, круговых, независимо, растров, центрирования

...е соответственно в квадрантах 1,тором Расположен фотоприемник. 11, И и 1 Ч:Из соотношения (2) видно, что фазовый 01- О зп(в т 1 0)сдвиг Й становится равным нулю при энз- соответственно в 1, 1 Ч и И, И 1 квадранта;чениях а 1, равных 0 и 180, В то же время Оз = О зп(ал%)соответственно в 1,1 Ч и П, П 1 квадрантах;Ог" Оп зп(йМ+ ф)соответственно в 1, П и 1 П, 1 Ч квадрантэх;04Ои 8 п(ЙЙ+ ф 4)соответственно в, П и П,Ч квадрантах, 5Иэ полученных соотношений видно, чторазность фаз между диаметральна противоположными сигналами 01 и Оз, 02 и 04 привоздействии на каждую из этих пар составляющих эксцентриситета Ь и еу равна соответственно 2 Й и 2 ф,что вдвое больше, чемпо известному способу при тех же значениях воздействующих составляющих эксцент-...

Номер патента: 1425893

Опубликовано: 23.02.1993

Авторы: Власова, Гендельман, Ильин, Соколов, Цикман, Чубаров

МПК: A61B 6/00

Метки: растров, рентгеновских

...т ц)ЭТИ) ЖЕ ПЛСКОСТЯМ. СТД(511 5 Ь(Е СРЦЦЦО ные ппдстццы, рдсцоц жецц(,(Г внутрисекции, кдк покдздпд практика, такжеориентирутс 5 По п 51 ОГкостям Гхол 51 и(юся в Фокусе растра, что обусп( г)ленналичием клееной композиции н жидкойфазе и соответствую(цим церердспрецепецием усилий цри сицхроццом двустороннем обждтии с рд цьм удельным дднле -цием,Причем при верхнем рдспопожецииоси обоих маятников, беспечцвдющемпостоянное направление усилия прижимаэпеьгентон в секциях, одна цд состдвля -щиих с(1 этого ус 1(лая прижима всегдадействует вдоль ширицы элемецтд внгзи прижимает его к цдп 1)днгяюигиы опордм, чтисклн)чает вытдлк(нацие элементов иэ блока,Полностью набранный бгок выдерживают в сжатом состоянии при нормальной температуре в...

Номер патента: 1805444

Опубликовано: 30.03.1993

Авторы: Кривенцов, Сергеев, Чепелев

МПК: G03F 5/02

Метки: копий, крестообразных, проекционных, растров

...конкретного выполнения способа: лист меди обезжиривают (мел + 5 Н) на медную фольгу толщиной до 150 мкм наносят в центрифугу копировальный слой на основе ПВС при скорости вращения крестовины ротора 80 об/мин и при температуре 40 С и сушат в течение 10 мин; толщина копировального слоя при этом составляет 3+5 мкм. После этого фольгу с нанесенным копировальным слоем копируют линейчатый растр в течение 2 мин, при освещенности около 20000 лк. Проявление в воде 1 мин при температуре 38 - 40 С; Окраска в растворе метилвиолета в течение 3 мин, промывка в воде в течение 1 мин, дубление в растворе хромовых квасцов в течение 40 с.Промывка в воде в течение 1 мин, обжиг при температуре 180 С в течение 10 мин, Оборотную сторону фольги...