Кмить
Способ изготовления контактных растров
Номер патента: 1658120
Опубликовано: 23.06.1991
Авторы: Кмить, Лебедь, Мервинский, Чуприна, Шовгенюк
МПК: G03F 5/00
Метки: контактных, растров
...значениям параметра К0,9 приводит к сильному смыканию ячеек контактногоо растра и резкому падению контраста, что приводит к уменьшению интервала оптических плотностей контактного растра,Для формирования заданного профиля элементарной ячейки контактного растра и, следовательно, оптимальной градационной характеристики контактного растра экспонирование производят за двумя и более диафрагмами. Причем, изменяя конфигурацию экспонирующей диафрагмы, получают различную форму изоденс контактного растра и, следовательно, различную структуру растровых элементов.Особенностью использования двойной растровой системы является то, что формирование высокого контраста растрового поля, необходимого для получения контактного растра с интервалом...