Способ изготовления контактных растров

(21) 4740008/ (22) 11,07.89 46) 07.11.91. (71) Московск (72) З,К,Касья (53) 777.324(08 (56) Авторское В 1548770, кл (54) СПОСОБ НЫХ РАСТРО свидетельство СССР. 6 03 Р 5/16, 03,05.88,ИЗГОТОВЛЕНИЯ КОНТАКТ Изобретение фоторепродукционЦелью изобре ниетехнологическ за счетуправления ристиками растра ымотносится к растраным процессам,тения является расших возможностей спасградационными хара реоба теЯотн 1 = Яотн миЯотн 1 ГОСУДАРСТВЕННЫИ КОМИТЕТПО ИЗОБРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ ГКНТ СССР АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ юл. %41ий полиграфический институтова и С.А.Сергеев88) выполняют следующим обраСпособзом.Осуществляют многократное поэлементное экспонирование фотоматериала на прозрачной основе световыми импульсами, которые предварительно формируют с задаНным шагом изменения их интенсивности и длительности. При этом изменяют размеры поперечного сечения световых импульсов в плоскости фотоматериала.Для каждого 1-га дозированного экспонирования программно задают конфигурацию и относительную площадь Яотн растрового элемента, рассчитываемую по фор- муле ретение относится к способу изгоя контактных растров и позволяет ть технологические возможности за счет управления градационными истиками растра. Для этого осущемногократное поэлементное экспоие фотоматериала предварительно ованными световыми импульсами. размеры поперечного сечения форх импульсов изменяют перед кажледующим экспонированием. 1 табл. Заданную конфигурацию элемента контактного растра формируют программой включения модуляторов, управляющих экспонированием. Минимальную освещенность Е 1 фотоматериала в плоскости записи, обеспечивающую экспозицию Н 1 дозированного экспонирования, выбирают таким1 фф образом, чтобы Н;Но, где Но = - (Я -Ясветочувствительность экспонирующего ф) фотоматериала). При этом приращение оп- К) тической плотности на фотоматериале соСтаВЛЯЕт Л 01 ) Ооор, ГДЕ О,орПОРОГОВаЯ оптическая плотность экспонируемого фотоматериала. Требуемое значение Е 1 обеспечивают регулировкой интенсивности лазерного источника света на этапе его настройки. Линиатуру контактного растра за- а дают линиатурой и масштабам записи.Градационная характеристика контактного растра, его интервал оптических плотностей и число дискретно вослроизводимых ГРаДаЦИй ОПРЕДЕЛЯЮТ ШаГОМ ЛЯотн 1 ИЗМЕНЕ- ния Яотн ф Яотн (Яотй (который можетбыть как постоянным, так и переменным), значением Н и сенситометрическими характеристиками фотоматериала, используемого для записи.Изготовление контактного растра осуществляют путем многокоатной записи на фотоматериал растровых элементов с я ото мин на первом этапе многократной записи с шагом ЛЯ 0 тн, определяющим число воспроизводимых градаций, до Я 0 тн " на последнем этапе многократной записи, Таким образом, формируют элементы контактного растра с заданной градационной характеристикой.П р и м е р. Осуществляют настройку лазерного источника излучения с учетом сенситометрических характеристик фотоматериала,Осуществляют выбор экспозиции Н дозированного экспонирования Н = Е 1 ь где Е - освещенность фотоматериала в его плоскости при 1-м дозированном экспонирова.- нии;- время экспонирования каждого элемента растровой точки при 1-м дозированном экспонировании.Для определения этих параметров используют мощность Ю лазерного источника излучения, эффективность и лазерной оптической системы, линиатуруз записи, линейную скорость Ч развертки, число пт расщепленных лучей лазера, число г прогонов, за которое при электронной реализации растрирования формируют из субэлементов одну растровую точку111 зтп ЧЕ = ЕмаксЮгде Емакс - освещенность, создаваемая лазерным источником излучения в плоскости оротоматериала,т 1 - коэффициент ослабления, обеспечивающий заданное значение Еь который выбирают с учетом сенситометрических характеристик экспонируемого фотоматериала.Емакс = 681Ч (Л )где Ч (Л) - относительная спектральная световая эффективность излучения. При изготовлении контактного растралиниатурой 1 Р = 60 лин/см на цветокорректоре марки ЭЦМ растровую точку формируют за г = 2 прогонов, следовательно, 1 з=120, 5 лин/см, Число расщепленных лучей гп = Ь.Тогда при линейной скорости записи Ч = = 100 м/с 1 = 2,8 10 с.В ЭЦМ используют аргоновый лазермощностью ИI =5 мВт с излучением в сине зеленой зоне спектра, для которого Ч (Л) == 0,17. Эффективность лазерной оптической системы и 0,05.Для приведенных данных Емакс == 0,6 10 лк. Таким образом, значение 15 Нмзкс в плоскости записи равно 1,68 лк с,Экспонирование осуществляют на фотопленку ФТ - 31, которую обрабатывают в мелкозернистом выравнивающем проявителе. Минимальное значение экспозиции 20 составляет Нмин = 0,16 лк с, Минимальноезначение экспозиции Нмин формируют уменьшением экспозиции Нмзкс, ослабляя световой поток лазерного источника света в К= "раз. В примере К=10,5.НминТаким образом. коэффициент ослабления д излучения лазерного источника света при дозированном экспонировании равен1г = - =0,1.КХарактеристики изготовленного контактного растра приведены в таблице. Формула изобретения Способ изготовления контактных растров, заключающийся в формировании световых импульсов, отличающихся интенсивностью и длительностью, многократном поэлементном экспонировании фотоматериала сформированными импульсами и его последующей химикофотографической обработке, отл ич а ю щ ий ся тем, что, с целью расширения технологических возможностей способа за счет управления градационными характеристиками растра, световые импульсы. формируют с изменением размеров их поперечного сечения в плоскости фотоматериала.1683916 Продолжение таблицы аказ 3813 Тираж Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям 113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5 КНТ СССР ент", г. У зводственно-издательский комбинат агарина,од Составитель Е,Позняк едактор И.Шулла Техред М.Моргентал Корректор С,Шев