Патенты с меткой «плазменной»

Номер патента: 546073

Опубликовано: 05.02.1977

Авторы: Ермохин, Ковалев, Кулик, Рябый

МПК: H02N 3/00

Метки: плазменной, силы, термоэлектродвижущей

...в следующем.В межэлектродно пространство подают плазмообразующее ещество в сконденсированном состоянии, т. е. твердом пли жидком, Далее сжимают его окружающей инертной средой заданного давления, например аргоном, что позволяет легко задавать и достаточно точно поддерживать давление плазмообразующего вещества. Нагрев электродов с указанными ограничениями обеспечивает постоянство электрического контакта электродов с плазмой и превышение скорости ее расширения над скоростью встречной диффузииертной среды в плазму. В частности, перое из этих условий обеспечивает непрерыв.546073 Составитель В. Ким Редактор Т. Орловская Текред В. Рыбакова Корректор И. Симкина Заказ 121/300 Изд, М 433 Тираж 899 Подписное ЦНИИПИ Государственного комитета...

Номер патента: 554611

Опубликовано: 15.04.1977

Автор: Маркачев

МПК: H03K 1/00

Метки: генератор, индикаторной, панели, плазменной, поддерживающего

...26, 27 и конденсатора 29 - к резистору 17.В цепи управления введены дополнительные управляющие каскады 30 и 31 с развязывающими резисторами 32, 33 соответственно.Входы дополнительных управляющих каскадов 30 и 31 соединены с дополнительными входными шинами 34, 35 соответственно, Выходы дополнительных управляющих каскадов 30 и 31 через резисторы 32 и 33 соединены с местами соединения входных обмоток 15, 16 и 18, 19 соответственно.Вторые выводы диода 25, конденсатора 28 и диода 2 и конденсатора 29 соединены с источником питания 21 цепей управления, а вторые выводы диодов 24 и 26 - с выходами 36, 37 ключевого элемента.Генератор поддерживающего напряжения для плазменной индикаторной панели работает следующим образом.Импульсы управления с...

Номер патента: 562397

Опубликовано: 25.06.1977

Авторы: Асоянц, Данченко, Доценко, Малкин, Эсибян

МПК: B23K 31/10

Метки: плазменной, резки

...резака описывается зависимостью;Р 11).Р,-(Р,-Р,1 ехр 1-к - ), 2):,огде 7 - величина давпения газа в резакепри установленном начальном расходе газа;Р - величина давления газа питающейсети ( РР )е.25К - безразмерный коэффициент, равный )-5;- дпительность нарастания давпеония плаэмообразующего газа от Р до Р,Если сформировать ток режущей дуги 30по аналогии вышеуказанной зависимостью,то практически исключается явление разрыва потока плаэмообразующего газа приминимально возможной дпя данной газовоймагистрали длительности переходного про- З 5цесса установления тока, максимально допустимого для данного канала сопла.На чертеже показан процесс нарастаниядавления Р газа в резаке до включениядуги при мгновенном полном перекрытии вы 40ходного...

Номер патента: 569413

Опубликовано: 25.08.1977

Авторы: Кузнецов, Сидоров, Столбов

МПК: B23K 9/16

Метки: плазменной, резки

...в частях подкладки,уменьшится в 7 д 712/Ф, 1,33 раза,так как мощность, выцеляемая в каждой части подкладки вРдпСи/Р 9=9/5 -1,8 разабольше, чем в электроде, Отношение тока вэлектроде горелки к токВМ-"вчастях подкладки К, должно бытьй - - таад - = -351,8 На фиг. 1 изображена принципиальнаясхема устройства для плазменной резки припитании от двух источников постоянноготока на фиг. 2 - то же, при питании оттрехфазного источника тока.40Устройство содержит неплавящийся элект-род 1, горелку,2.Разрезаемую деталь 8 помешают междугорелкой 2 и двумя частями 4 и 5 электропроводной прокладки, которые электрически 5изолируют одну от другой и. подключают кположительнымполюсам двух независимыхисточников постоянного. тока 6 и 7. Отрицательные полюсы...

Номер патента: 546235

Опубликовано: 05.11.1977

Авторы: Большакова, Гордин, Изотов

МПК: G21B 1/00

Метки: двухкамерной, откачной, плазменной, узел, установки

...1 имеется односторонний азимутальный вырез для прохода откачНого патрубка. Вырез выполнен симметРичным относительно экваториального разреза и на уровне размещения эквато риальных прокладок 4 имеет ступенчатую расточку, Паружнцй корпус о качного патрубка устанавливается в аксиальном вырезе кожуха и жестко крепится в нем с помощью керамических с ухарей 11. При этом ступенчатая расс. са 8 И точка образует со стенкой корпуса т орцовую канавку, в которую закладыемая вается прокладка 12, деформируема нажимным фланцем 13. Прокладка 12 образует с прокладкой 4 Т-образный стык, что позволяет герметизировать кожух ЗОпо экваториальному разрезу. Для обеспечения электрической изоляции кожуха от разрядной камеры на 35 поверхность корпуса 8 нанесено...

Номер патента: 609217

Опубликовано: 30.05.1978

Авторы: Коршаковский, Красненьков, Кубарев, Соловьев, Ткачев

МПК: H05B 7/18

Метки: плазменной, струи, траекторией

...по меньшей мере одной из трех координатных осей плазматрона. Сущность изобретения поясняется чертежом, где 1 - катод; 2 - анод; 3 - внешняя магнитная система, например соленоид; 4 - узел смещения магнитной системы; 5 - магнитные силовые линии; 6 - плазменная струя,Предложенный способ заключается в следующем.Плазменная струя 6, выходя из электродной системы, движется в пространстве, огра ниченном силовыми линиями магнитного поля 5, создаваемого внешней магнитной системой 3 плазменного источника. При смещении осей внешней магнитной системы 3 или катода и анода с помощью узла смещения 4 из меняют соответственно конфигурацию магнитных силовых линий 5 и взаимосвязанно меняют также траекторию движения плазменной струи 6. Этим и...

Номер патента: 656669

Опубликовано: 15.04.1979

Автор: Новиков

МПК: B05B 7/20

Метки: горелки, плазменной, сопло

...часть, выполненную в виде конусообразной расширяющейся к срезу сопла насадки 2, По всей поверхности насадки 2 выполнены наклонные к срезу сопла отверстия 3, сообщающие ее полость с камерой 4 защитного газа. Диаметр отверстий 3 уменьшается к выходу из сопла. Насадка 2 и камера 4 защитного газа электрически изолированы от анодной части 1 корпуса сопла с помощью токоизолирующих прокладок 5, выполненных, например, из асбо 1 цемента или керамики. Соло снабжено установленным в анодной части 1 корпуса штуцером 6 для подачи в него напыляемого материала, например металличеСкой про-волоки или порошка.Для подачи защитного газа в камеру 4 предусмотрен штуцер 7, выполненный с отверстиями 8 на его конце, размещенном в камере 4.Такое расположение...

Номер патента: 700934

Опубликовано: 30.11.1979

Авторы: Егоров, Новиков, Путько, Соболев

МПК: H05B 7/18

Метки: плазменной, струей

...2000 1500 1000 50050 136 18 8 43 22 59 15 2000 1500 000 500 50 276 233 86 10 о 68 Скорость вращенияполя, об/сДлина струи, мм Составитель Л. СорокинТехред А. Камышникова Корректоры: А, Галахова и Т. Добровольская Редактор В. Левятов Заказ 2372(20 Изд.642 Тираж 945 ПодписноеНПО Поиск Государственного комитета СССР по делам изобретений и открытий113035, Москва %-35, Раушская наб., д, 4/5 Типография, пр. Сапунова, 2 внешнего магнитного поля, концентрируется у оси разрядной камеры. Все это приводит к большей длине плазменной струи на выходе, чем размеры струи при отсутствии внешнего магнитного поля. С увеличением индукции поперечного поля длина струи уменьшается, так как концентрация энергии разряда у оси разрядной камеры уменьшается...

Номер патента: 703242

Опубликовано: 15.12.1979

Авторы: Баринов, Гуревич, Кочкин, Собольницкий, Яковлев

МПК: B23B 1/00

Метки: дугой, механической, плазменной, подогревом, труднообрабатываемых

...1 с подогревом плазменной дугой состоит из основания 2, планшайбы 3, направляющих 4, на которыхустановлен суппорт 5 с резцедержателем6, резца 7. К основанию .2 приваренкронштейн 8, в котором выполнен криволинейный паз 9, В криволинейном пазу 9 закреплена направляющая 10, расположенная под углом к направляющим24догревом плазменной дугой, заключающийся во вращении заготовки, совмешении опорной точки плазменной дуги споверхностью резания и последующем пе.ремещении опорной точки дуги и резца,о т л и ч а ю щ и й с я тем, что, сцелью расширения технологических воз-.можностей, опорную точку плазменнойдуги перемещают по радиусу заготовкисо скоростью, равной скорости перемещениярезца.2. Устройство для осуществления способа по и. 1, содержащее...

Номер патента: 712221

Опубликовано: 30.01.1980

Авторы: Боровский, Зинин, Кочергин, Собольницкий, Яковлев

МПК: B23K 31/10

Метки: плазменной, поверхностной

...1 и Ц (фиг. 1) поток холодного гаэа перемецается в зону П пониженного давле-ния и еще больше прижимает дугу к иэделию,создавая благоприятные условия шунтированиядуги.каэ 10020/3дписное ЦНИИПИТираж 1160 Филиал ППП "Патент",г. Ужгород, ул. Проектн 3 . 71Таким образом, оптимальным углом подачи охлаждающей смеси является угол 20.40 при обязательном совпадении направлений плазмо. образующего и охлаждающих потоков.Описание способа, т,е. перечисление приемових последовательности и указание режимов обработки, дается на конкретном примере уда. ления залива на отливке из малоуглеродистой стали.оПлазматроны устанавливают под .углом 15 к обрабатываемой поверхности, расстояние от среза сопла 1 до срезаемого залива устанавли. вают С =20 мм, Во...

Номер патента: 725847

Опубликовано: 05.04.1980

Авторы: Багненко, Головченко, Котиков

МПК: B23K 31/10

Метки: плазменной, резки

...80 250 0 44 330 3 725Поставленная цель достигается тем,что количество воды в столб дуги и количество плазмообразующего газа подают всоотношении И = 0,6-0,95, а общее ко 5личество воды от двухпотоков подают впределахВс+ Вк = 280-350,где Вс - расход воды в столб дуги,г/мин; 1 ОЙ 1 - расход плазмообразукщего газа,г/мин,Вк - расход воды потока, направленного концентрично столбу дуги,Г/МИН, 15Предлагаемый способ плазменной резки стали обеспечивает оптимальную за-щигнуЫ и нейтралиэукщую атмосферу взоне дуги.П р и м е р . Выполняют плазменную 2 овырезку деталей из стали Вст, Зсп. тол Наиболее стабильные режимы резки илучшее качество кромок получают приследукщих соотношениях расхода воды игаза:550,6-0,95 Вс + Вк280 350.По сравнению с...

Номер патента: 332676

Опубликовано: 05.05.1980

Авторы: Быховский, Медведев, Песенсон, Файгенбаум, Федер

МПК: B23K 9/00

Метки: металлов, плазменной

...сопротивление.На чертеже изображена схема описываемой установки с активными (а) и индук- з 5 тивными .(6) сопротивлениями. Питание плазмотрона 1 осуществлено от источника, состоящего из двухобмоточного трансформатора 2 и тиристорного преобразователя (тиристоры 3-8), в котором параллельно каждому тиристору подключены диоды 9-14 и сопротивлении 15-20,2При возбуждении основной дуги тиристоры полностью закрыты, и питание ее осуществляется через диоды 9-14 и сопротивления 15-20. В этом случае начальный ток основной дуги опредепается величиной этих сопротивлений. Дальнейшее нарастание тока производится путем плавного открывания тиристоров которые в то же время автоматически щунтируют сопротивление (частично или понностью), по мере достижения...

Номер патента: 737151

Опубликовано: 30.05.1980

Авторы: Баркан, Королев, Шапиро

МПК: B23K 9/16

Метки: плазменной

...следующим образом.Между электродом 3, установленным в горелке 1, и обрабатываемым изделием 6 возбуждают сжатую дугу 7 и перемещают73715горелку со скоростью Ур в горизонтальном направлении, в направлении показанном стрелкой.Со скоростью Чскоторую поддерживают постоянной и не зависящей от величины5тока 1 режущей дуги обеспечивают поддержание заданного расстояния между срезомсопла горелки и наружной поверхностью обрабатываемого изделия - Ь Для этогогорелка имеет возвратно-поступательное-перемещение в вертикальной плоскости, направления ее перемещения в этой плоскостиобозначены соответствующими стрелками.Всякое изменение тока 1 режущей дуги обуславливает изменение давления Рк .в камере 2 формирования сжатой дуги, С увеличением тока...

Номер патента: 844178

Опубликовано: 07.07.1981

Автор: Фридлянд

МПК: B23K 9/16

Метки: плазменной

...Зажигают плазменную дугу в моноокиси углеродарасход которой поддерживают в пределах (1 - 6) 10- л/А с в зависимости от природы вводимого далее в состав ллаамообразующей среды химически активного вещества, как правило, в аиде таза, После выхода дуги на режим с постоянным возобновлением электрода, производимому согласно авт. св. СССР Ма 479583, в плазмообразующую среду вводят химически активный газ в количестве, обеспечивающем поддержание этого режима, контролируемого по величине теплового потока в электрод.При использовании в качестве химически активного газа наиболее мягкого окислителя двуокиси углерода расход моноокиси углерода устанавливают ближе к нижнему пределу указанного вьвше диапазона, т. е. к 1 Х 10-ал/А с, при...

Номер патента: 865535

Опубликовано: 23.09.1981

Авторы: Гулый, Иванов, Тихомиров, Шатерин

МПК: B23B 1/00

Метки: дугой, механической, нагревом, плазменной, разупрочнением

...16 соединен с выходом силового сельсина 17, кинематически связанного через зубчатую рейку 18 с приводом 19 подачи режущего инструмента. Суппорт 20 горизонтального перемещения 55 держателя 14 плазмотрона 2 перемещается по круговой направляющей 21, устанавливаемой вокруг планшайбы станка вместо обыч 4но размешенных таким образом защитных кожухов. Вход привода 22 суппорта горизонтального перемещения держателя плазмотрона соединен электрически с выходом регулятора 23, преобразующего сигналы с устройства 24 для замера температуры в зоне резания (выполняемого в виде, например, термопары, встроенной в режущий инструмент 3).Выход устройства 25 для задания температуры (потенциометр), соединен с входом регулятора 23. Устройство содержит также...

Номер патента: 867555

Опубликовано: 30.09.1981

Авторы: Васильев, Исаченко, Комиссаров, Пик, Яковлев

МПК: B23K 9/16

Метки: дуговой, металлов, плазменной, резки

...оказывается, чта эмосспрстив.ение пограничпсга с.ся о;сЛаждающЕй СрЕдЫ раВНО ИЛИ ягжС Ня;30-" рядок больше термического апра гивления степки обоймы, Кроке того, 1 арябслическа форма водоохлаждя-май г:о.- верхности оказывает отр 1 цагепс)с цсйствие на теплообмен, Быпусла 1)э.) ма схлаждаемой поверхнос ти, сатарая Способствует стабилизации и )эосту та;ш 1:-ны ограничного слоя по мера аб ТСЗКа 1 ИЯ ВОДОЙ, НаЧИНяя От Лабаай Та 1- ки, тупая, гладкая форма поверх)гасг У КатОРОй СОЭДаЕт На НЕй ПОГРа 1 с- ЧЫЙ СгОЙ З 1 ЯЧИТЕЛЬНой тОЛЩИПЫ ( )Э 3 Обгекании выпуклых поверхностей цент-. робежные силы появляющиеся в жсдкас ти отбрасывают наиболее бысгро,.ижу 1 иеся массь) всцы от стенки и пр;блнжают к ней медленно движущиеся мас"ь 1): относительно...

Номер патента: 872035

Опубликовано: 15.10.1981

Авторы: Кравченко, Поляков, Розенберг, Руденко

МПК: B23B 1/00

Метки: дугой, зоны, механической, плазменной, подогревом, резания

...воэможность сваривания стружек вследствие их усадки. Это условие выполняется в пределе в том случае, если диагональ наносимой канавкирасположена по образующей поверхностирезания, В этом случае угол с 1, междуканавкой 1 и обраэуюшей поверхности резания оцпеделяется из выраженияс Ф Фгс 1 ФО 1 сюй - )%- где Й - ширина стружкоразделительнойканавки;- ее длина;- ширина поверхности резания (длина образующей поверхности резания).Эти выражения равны, если канавкананосится по всей ширине поверхностирезания от обрабатываемой до обработанной поверхности. Так как технологическая ширина поверхности резания не превышает 15 мм, а ширина канавки, наносимой плазменной дугой не меньше 3 -4 мм, то угол д, получается равным 15.Следовательно, для...

Номер патента: 872104

Опубликовано: 15.10.1981

Авторы: Ведерников, Кресняков, Рыков

МПК: B23K 9/16

Метки: горелка, плазменной

...канавки для закручивания потока плазмообразукзцего газа",на внутренней поверхности корпусавыполнены винтовые канавки, выступыкоторых расположены во впадинах винтовых канавок электрододержателя сзазорами по отношению к их боковымстенкам, при этом электрододержатель установлен с возможностью поворота относительно корпуса. 5На чертеже показана горелка дляплазменной обработки материалов,продольный разрез,Горелка содержит корпус 1, в котором закреплены сопло 2 и электродо 20держатель 3 с электродом 4, На наружной поверхности электрододержателя 3выполнены винтовые канавки 5 для закручивания потока плазмообразующегогаза. На внутренней поверхности кор 25пуса 1 выполнены винтовые канавки,выступы 6 которых расположены во впадинах канавок 5 с...

Номер патента: 880654

Опубликовано: 15.11.1981

Авторы: Ермаков, Соснин

МПК: B23K 9/16

Метки: горелка, плазменной

...4. Диэлектриком, изолирующим электрод и сопло, служит сферический. шарнир 4,.выпол ненныР из диэлектричесхого материала, причем фиксатор 5 расположен на корпусе 3, который выполнен эа одно целое с соплом 1. Внутри сферического шарнира 4 расположен фиксатор осевого положения электрода 2, состоящий, например, из цангового зажима 6 и резьбовой втулкиТокоподвод 8 подключен к элехтроду 2 посредством сьемного переходника 9.880654 Горелка проста и технологична в изготовлении, онв не требует сложных специальных операций, таких как опрессовкадиэлектриком готовой арматуры электродйого узла и гопла, что значительно уменьшает брак и повышает релюнтопригодность горелки. Наличие раздельноР регулировки осевого положения и центровки Ыэлектрода упрощает...

Номер патента: 782553

Опубликовано: 23.01.1982

Авторы: Стаханов, Фикс

МПК: G21B 1/00

Метки: первая, плазменной, стенка, установки

...к первой стенке, должен предохранять ее,от распыления, возникающего при прямом койтакте с горячей плазмой и бомбардировке ее быстрыми атомами, которые образуются в горячей плазме и свободно проходят поперек удерживающего ее магнит ного поля. Указанными свойствами обла- дает защитный слой низкотемпературной " плазмы с вполйе определейййми" темпера(произведение толщины слоя плазмы Я наее плотность). Быстрые атомы не смогутдостичь первой стенки, если они будутйерезаряжаться на ионах,защитного слоя.На чертеже представлен вариант термоядерного реактора при таком положенииподвижной заслонки, когда щель открытадля откачки рабочего объема.В термоядерном реакторе в качестве10 рабочей смеси используют смесь изотоповводорода.Устройство...

Номер патента: 912429

Опубликовано: 15.03.1982

Авторы: Баринов, Быховский, Демянцевич, Кобецкой, Кочергин, Кочкин, Щелкунов

МПК: B23K 9/10

Метки: дугой, металлов, плазменной

...между электродом и изделием с принудительным обжатием дуги соплом и продувкой через него плазмообразующего газа, измеряют электрическое сопротивление между дугой и соплом плазмотрона, а расход плазмообразующего газа устанавливают обратно пропорционально электрическому сопротивлению.Контроль за возникновением двойного дугообразования на величине электрического сопротивления между дугой, и соплом повышает надежность фиксирования момента начала двойного дугообразования:так как исключается влияние высокочастотных наводок. Кроме того, упрощается сама система контроля, потому что измерить величину электрического сопротивления между дугой и соплом значительно проще, чем величину емкости этого участка. Увеличение расхода плазмообразующего газа...

Номер патента: 810054

Опубликовано: 30.03.1982

Авторы: Гончар, Звягинцев, Митин

МПК: H05B 7/18

Метки: плазменной, порошковых

...частиц в камере, причем время обработки более крупных частиц превышает время обработки мелких. Эти качества 55 позволяют получать однородно обработанные порошки даже в случае использования исходных порошков широкого фракционного состава.Условие Н - й = О может быть выпол кено для любой фракции порошка подбором таза и соотношение времени 1 и т.Это значит, что в данном устройствевозможно увеличение степени обработки порошка широкого гранулометрического 45 состава путем регулирования времени егопребывания в плазме. Н - й Т = (1+т) п. Н - й) О. Минимальное время обработки частиц обеспечивается при значениях Н) 1,. При этомсовершается обработка за один проход зоны разряда. При Н = й частицы теоретически могут находиться в зоне разряда...

Номер патента: 927440

Опубликовано: 15.05.1982

Авторы: Ветров, Клименко, Муковоз, Рыжов, Урюков

МПК: B23K 9/16

Метки: плазменной, устройствам, электрод

...слоя металла, а позициями 7 и 8 соответственно анодное и катодное пятна дуги.Устройство работает следующим образом.На заготовку 5 подается положитель- ный потенциал, а на катод 1 - отрицательный, В патрубок 3 поступает сжатый газ, который истекает через кольцевую щель 2. С целью быстрого смешивания плазмы и холодного газа в ступени канала с диаметром Э катода 1 и последующего выброса их в виде уже охлажденной смеси газов в неохлаждаемую вытяжную трубу 4, угол наклона образующих поверхности щели 2 и осью катода 1 составляет от 45 до 60 о. Истекающий из щели 2 газ, образует зону разряжения перед и в самом катоде 1, в части канала с меньшим диаметром В . В результате чего, возбужденная осциллятором дуга меж ду заготовкой-анодом 6 и катодом...

Номер патента: 935235

Опубликовано: 15.06.1982

Авторы: Сало, Трубачев

МПК: B23K 31/10

Метки: плазменной, поверхности, сляба

...5 к расплавленной дорожке обеспечивают путем,пропускания его через плазменнуюструю двух горелок О, контактируемуюс поверхностью торца сляба, За счетизменения технологических параметровпроцесса отделки способ позволяетвоздействовать на качество обрабатываемой поверхности. Изменяя состав,расход плазмообразующего газа и степень обжатия плазменной дуги, можнов широких пределах регулировать еетемпературу и концентрацию тепловогопотока, вводимого в обрабатываемуюповерхность сляба, чем достигаетсяоптимальная вязкость и температурарасплава сляба. Для осуществленияпроцесса проплавления и выравниванияс помощью отжатия и последующей кристаллизации установлен опытным путеминтервал температуры в пределах 10154 выше температуры плавления металла...

Номер патента: 428646

Опубликовано: 15.06.1982

Автор: Фридлянд

МПК: B23K 9/16

Метки: дуги, плазменной, стабилизации

...хорошей стабилизации плазменной дуги в течение всего процесса обработки.Для обеспечения стабильного горения плазменной дуги в течение всего процесса обработки после выхода дуги на режим стабильного горения в состав плазмообразующей смеси вводят окислитель в количестве 40 - 90 об. % от количества, соответствующего теоретически полной конверсии углеводородов, входящих в эту смесь, протекающей по следующему уравнению (для предельных углеводородов): окислителя в составе плазмосмеси берут в пределах 40 - еоретически необходимого для рсии, тем больше, чем больше вательскии институт пикелево-кобальнной промышленности углерода в роды. При родного га си берут р чсски иео версии.При так и окислит на рабоче да формир графитово внутрення ся...

Номер патента: 948572

Опубликовано: 07.08.1982

Авторы: Богачек, Годлис, Москаленко, Шнайдер, Щербак, Якушев

МПК: B23K 9/16

Метки: плазменной, сварки

...полярность дежурной дуги, причем .полярность дежурной дуги соответствует полярности последующего импульса основной дуги. относительно иэделия в случае еслидежурная дуга горит так же, как ипри поступлении на электрод импульсанапряжения, отрицательного относительно иэделия) потенциал сопла будет более положительным, чем потенциал электрода, и основная дуга возбуднтся между соплом и изделием, ане между электродом и иэделием.Чтобы основная дуга при подачена электрод импульса напряжения, положительного относительно изделия,возбудилась между электродом и изделием, необходимо, чтобы дежурнаядуга горела под действием напряжения, положительного на электроде 15относительно сопла.На чертеже изображена схемаустройства для осуществления спосба...

Номер патента: 479583

Опубликовано: 15.11.1982

Автор: Фридлянд

МПК: B23K 9/16

Метки: дуги, плазменной, стабилизации

...плазменной дуги по авт. св. Ж 428646, о т л и ч а ющ и й с я тем, что, с целью исключек.ния разрушения эмиттирующей поверхности катода, окислитель в плазмообразую-.щую среду начинают вводить в интервале времени от момента снижения теплового потока в катод на 10% от величины максимального значения до момента установления постоянной величины теплового потока в катод, преимущественно в начале интервала. Техред Е,Харитончик Корректор Г. Огар Редактор Е. Зубиетова Заказ 10440/1 Тираж 1153 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета СССР по дедам изобретения и открытий 1 в 3033, Москва, Ж, Рвушсквв ввб., д. 4/Бфилиал ППП Патент, г. Ужгород, ул. Проектная, 4 3 47958 ния дуги максимальной валичины, далее вновь начинает снижаться,...

Номер патента: 1004040

Опубликовано: 15.03.1983

Авторы: Батухтин, Башенко, Радченко, Соснин

МПК: B23K 9/10

Метки: глубины, изделия, плазменной, проплавления, сварке

...дугу 1 между электродом 2 и изделием 3. Напряжения с сопла 4 и изде лия 3 подаются в блок выделения их противофазной переменной составляющей 5, с выхода которого сигнал поступает в блок регистрации частоты колебания 6 и затем в блок регистрации амплитуды колебаний 7. С выхода блока 7 сигнал поступает в усилитель 8, далее на исполнительный механизм 9, который управляет силовой цепью источника тока 10.При сварке от источника тока любые изменения длины дуги проявляются в пере менной составляющей напряжения электрод - изделие. При изменении длины дуги на 20 - 30/о в переменной составляющей напряжения электрод - сопло изменения не обнаружены. Внутренняя помеха от источника тока по напряжению обнаруживаетсяЗО в переменных составляющих...

Номер патента: 1004051

Опубликовано: 15.03.1983

Авторы: Быховский, Воропаев

МПК: B23K 35/00

Метки: газах, дуговой, инертных, неплавящийся, плазменной, электрод

...держатель, имеет высокие эмиссионные свойства, низкую работу выхода и обеспечивает снижение теплового потока в электрод.Благодаря этому, обычно применяемый тугоплавкий держатель может быть заменен на любой металлический. В качестве держателя предлагаемого электрода могут быть использованы металлы 1, 111, 17, У, И и И 11 групп периодической системы элементов Д, И. Менделеева,20 Вследствие снижения прикатодного падения напряжения существенно упрощается источник питания за счет понижения напряжения холостого хода, что повышает технико-экономические показатели.Предлагаемый электрод имеет целый ряд преимуществ перЕд известными электродами.За счет снижения минимального тока на предлагаемом электроде диапазон регули рования токов значительно...

Номер патента: 708940

Опубликовано: 15.10.1983

Авторы: Одинцов, Фефелов

МПК: H05H 1/00

Метки: диафрагма, плазменной, установки

...состоящая иэ секторных элементов 2 .Контактируя с плазмой, эта диафрагма подвергается воздействию интенсивных потоков заряженных частици сама является источником примесей, поступающих в плазму.Цель изобретения - уменьшение,загрязнения плазмы тяжелыми примесями и повышение ресурса работы диаФрагмы.Цель достигается тем, что обращенная к плазме йоверхностьсекторных элементов выполнена из пористого тугоплавкого материала, порыкоторого заполнены твердофаэным наполнителем с близким к тугоплавкомуматериалу значениемпроиэведения коэффициента распыления на атомный вес.Пористый слой образован тканево-нитяной тугоплавкой структурой.Обращенная к плазме поверхностьсекторных элементов образует сосью диафрагмы угол, величина которого одного...