Установка для электронно-лучевой обработки

Союз Советских Социалистических Республик(5) М. Кл. В 23 К 15/00 Государственный комитет СССР но делам изобретений и открытий(72) Автор изобретения Иностранная фирма(54) УСТАНОВКА ДЛЯ ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВОЙ ОБРАБОТКИ Изобретение касается электроннолучевой обработки, а именно установок для электронно-лучевой обработки.Известна установка для электронно-лучевой обработки, содержащаявакуумную камеру и электронный излучатель, размещенный на однойиз стенок вакуумной камеры; противоположная электронному излучателюстенка выполнена сплошной 11 .Недостатком этой установки является то, что при случайном облучении стенки вакуумной камеры электронным пучком она в случае повреждения (прожога) должна быть заменена другой стенкой, что экономически невыгодно,Для предотвращения прожоговприменяются защитные металлическиепластины значительной толщины, которые занимают значительный объем(вынуждая увеличивать размеры вакуумной камеры) и усложняют обслуживание установки,Наиболее. близким техническим ре"шением к предлагаемому являетсяустановка для электронно-лучевойобработки, содержащая вакуумную ка 2меру и электронный излучатель, раз"мещенный на одной из стенок вакуумной камерыт противоположная электронному излучателю стенка выпол5 нена с,окном )21,При работе этой установки такжеприменяют защитные металлическиепластины значительной толщины совсеми присущими им недостатками,10 но наличие окна в стенке исключает необходимость в замене стенкипри прожиге защитной пластины.Целью изобретения является уменьшение габаритов вакуумной камеры15 и упрощение обслуживания установки. Указанная цель достигается тем,что вакуумная камера снабжена герме тичной замкнутой емкостью, разме"щенной на противоположной электронному излучателю стенке и выполненной с возможностью соединения с атмосферой или с газовой средой 25 повышенного давления. На фиг.1 и 2 представлены различные конструктивные варианты герметичной замкнутой емкости;30 на фиг.3 - схема установки с ва 837311куумной камерой, выполненной согласно изобретению.На фиг.1 представлена емкость,образованная пластиной 1, вакуумплотно перекрывающей окно 2 в стен.ке 3 вакуумной камеры, Уплотнение обеспечивается винтами 4 и уплотнением 5,Окно 2 снаружи закрыто навинченным экраном б со свинцовой обкладкой 7, защищающей переокал от рентгеновского облучения. Стенки ок"на .2 пластина 1 и экран б образуют герметичную замкнутую емкость,внутренний объем 8 которой черезлабиринтный зазор 9 соединен сатмосферой и обычно находится податмосферным давлением.Электронный пучок может подхо-дить к пластине 1 в зоне, ограниченной кругом 10.На фиг. 2 представлена емкостьобразованная плоским поддоном 11,вакуумно закрытым крышкой 12 (спомощью уплотнений 13.и винтов 14).Расстояние между внутренней поверхностью крышки 12 и дном 15 поддонаможет составить, например, 5 мм.Поэтому высота емкости невелика иможет составить, например, около15 мм. Вся емкость может быть размещена внутри вакуумной камеры.На фиг.3 приведена схема устанонки с вакуумной камерой 16, вкоторой размещен рабочий стол 17,на котором может быть установлена свариваемая деталь с возможностью двукоординатного перемещения.Установка снабжена электроннымизлучателем 18, формирующим горизонтальный электронный пучок 19.На противоположной электронномуизлучателю 18 стенке размещенаемкость с плоским поддоном 11 икрышкой 12 (см. фиг.2). В данномслучае емкость через шланг или газопровод 20 соединена с газовымбаллоном 21. Баллон 2) снабжен клапаном 22, который автоматическисрабатывает уже при незначительной разности давлений. Баллон 21обеспечивает сохранение заданногодавления в емкости даже в том случае, если часть газа (воздуха) уходит из емкости в вакуумную камеручерез неплотности уплотнений. (Емкость, представленную на фиг.2,можно размещать и на наружной поверх-ности стенки вакуумной камеры).Роль емкости состоит в следующем.Если, например, ток электронного30 формула изобретения Устанонка для электронно-лучевой обработки, содержащая вакуумную камеру и электронный излучатель, размешенный на одной из стенок накуумной камеры, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, с целью уменьшения габаритов вакуумной камеры и упрощения обслуживания установки, вакуумная камера снабжена герметичной замкнутой емкостью, размещенной на противоположной электронному излучателю стенке и выполненной с возможностью соединения с атмосферой или с газовой средой повышенного давления. 35 40 45 Источники информации, принятые во внимание при экспертизе1. Чвертко А,И, и др, Оборудование для электронно-лучевой сварки. Киев, Наукова Думка, с. 10-11 и рис.1.2. Чнертко А.И. и др. Оборудование для электронно-лучевой сварки. Киев, Наукова Думка, с. 10-11 и рис, 16. пучка включен без сваринаемой детали, то пучок может попадать взону 10 пластины 1 (или крышки 12),проплавляя в ней отверстие.Через это,отверстие воздух (газ)с большой скоростью проходит изобъема 8 в объем вакуумной камеры, расфокусируя электронный пучоки предотвращая дальнейшее расширение проплавленного отверстия, азатем срабатывает обычная (н технологических электронно-лучевыхустановках) система блокировки,отключающая высокое напряжениеисточника питания.При соответствующем выборе ма териала и толщины пластины 1 обеспечивается то, что пропланляемое в ней отверстие оказываетзначительное сопротивление газовому потоку (т.е. оно достаточно 2 О узкое или длинное), а обслуживающий персонал в достаточной мере защищен от рентгеновского облученияи от прямого воздействия эпектронон пучка.25Технико-экономическая эффективность изобретения обусловлена лучшим использованием внутреннего объема вакуумной камеры и большим удобством при обслуживании оборудования.ВЗ 7 З 11 ставитель В. Мамутовхред Н.Келушак рректор М, д бкова едакто Заказ 3213 дписн Филиал Патент, г.ужгород, ул.Проектная,ВНИИПИпо113035 1 ираж 1148 осударственног елам изобретени Москва, Ж 35, комитета СССРи открытийушская наб., д.4/5 г Р