Зигвальт
Установка для электронно-лучевой обработки
Номер патента: 837311
Опубликовано: 07.06.1981
Автор: Зигвальт
МПК: B23K 15/00
Метки: электронно-лучевой
...ограниченной кругом 10.На фиг. 2 представлена емкостьобразованная плоским поддоном 11,вакуумно закрытым крышкой 12 (спомощью уплотнений 13.и винтов 14).Расстояние между внутренней поверхностью крышки 12 и дном 15 поддонаможет составить, например, 5 мм.Поэтому высота емкости невелика иможет составить, например, около15 мм. Вся емкость может быть размещена внутри вакуумной камеры.На фиг.3 приведена схема устанонки с вакуумной камерой 16, вкоторой размещен рабочий стол 17,на котором может быть установлена свариваемая деталь с возможностью двукоординатного перемещения.Установка снабжена электроннымизлучателем 18, формирующим горизонтальный электронный пучок 19.На противоположной электронномуизлучателю 18 стенке размещенаемкость с плоским...