Фоторазрушаемая полимерная композиция

Номер патента: 732323

Авторы: Гальперин, Зеленкова, Красева, Мосина, Немова

ZIP архив

Текст

ОП ЙСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИЯ К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВУ Союз СоветскикСоциалистическихРеспублик(23) Приоритет Ао делам изобретений и открытий(54) ФОТОРАЗРУт 11 АЕМАЯ ПОЛИМЕРНАЯ КОМПОЗИЦИЯ 2й - одинаковые или различные алкильные нли алкоксильные радикалы;Н Е-СЕ Вг.Наиболее близкой к предлагаемой является композиция, содержащая полистирол и сенсибилизирующую добавку - полимер окиси бутилена в количестве 5 - 50 вес%3.При добавлении большого количества сенси. билиэирующей добавки физико-механические свойства композиции будут существенно отличаться от свойств исходного полимера, а стоимость композиции будет весьма высокой. Известны композиции на основе полистирола и сенсибилизирующей добавки, такой как ароматический кетон 1 галоидметильных производ- о ных ароматических соединений 2 формулыАг(В) к(ЩНап) егде Аг - ароматическая группа, содержащая 1.4 ароматических кольца; Изобретение относится к фоторазрушаемым полимерным композициям и может найти применение в частности в производстве фоторазрушаемых стирольных полимеров. Винилароматические полимеры, такие как5 попйстирол и ударопрочный полистирол, широко используются как упаковочные материалы одно-Ф разового пользования. В связи с этим на базе их разрабатываются различные композиции, спо-, собные после окончания срока эксплуатации упаковочного материала по прямому назначению разлагаться под действием естественного света до низкомолекулярных продуктов, которые затем поглощаются микроорганизмами и включаются в общий биологический цикл. Цель изобретения - ускорение фоторазру.шения композиции при сохранении исходныхфизико.механических свойств полимера. Эта цель достигается тем, что в полисти. рол вводят в качестве сенсибилизирующей добавки производное окиси пропилсна, выбран. ное из группы, включающей гидроксипропилат зтилендиамина и олигомерный эфир окиси про. пилена с глицерином, при следующем соотношении компонентов, вес.%:СН -ОСЛ-С.Н-О 1 НСН -О- СН -СН-О НСЧг2К1".Н. гдегп, пи К = 24представляют собой вещества, хорошо совмещающиеся с полимером и не мигрируюгцие в процессе переработки композиции и при ее эксплуатации,Небольрпое количество вводимых сенсибилизирующих добавок не меняет физико-механических показателей композиций, которые остаются такими же, как у исходных стирольныхпластиков (см. табл,1),Сенсибилизирующие добавки вводятся вполимер в смесителе любой конструкции на стадии конфекционирования готового полимера.П р и м е р 1 (контрольный). 4 г гомополистирола с молекулярным весом (Мщ)о290000 растворяют в 96 г хлороформа и мето.дом полива готовят пленку на предварительнообработанном силикатном стекле. После сушкидо постоянного веса пленку облучают под ртут.ной лампой ПРК.2 в течение 50 ч и определяютМоблученного полимера, который составляет240000. (оПосле этого расссчитывают отношение =Йм(мера фотодеструкции полимера), которое сос.тавляет 1,2.П р и м е р 2 (контрольный). 4 г ударо.прочного полистирола чарки УПС с молекуляр.ным весом (М) полистирольной фракции220000 растворяют в 96 г хлороформа, а затемотливают пленку и облучают ее аналогично при.меру 1. После облучения пленку растворяют вдиметилформамиде, отпеляюг нерастворимуючасть центрифугированиеч и определяют М,ПолистиролПроизводное окисипропилена 0,01 - 0,05 Гидроксипуонилат этилендиамин (ГПЭ) формулы и олигомерный эфир окиси пропилена с глицерином (ОПГ) обшей формулы 2323( иле)еррастворимой полистирольной фракции.М лсоставляет 1,8.П р и м е р 3. К раствору полимера,приготовленному аналогично примеру 2, добав.5 ляют 0,0004 г (0,01%) ГПЭ, а затем отливают,пленк, облучают ее и обрабатывают в соот.пленку, оветствии с примером 1. д составляет38.П р и м е р 4. К раствору, полимера, приготовленному аналогично примеру 2, добавляют0,002 г (0,05%) ОПГ, отливают пленку и облучают ее в течение 100 ч, После отделения не.растворимой части центрифугированием опеде.ляют М, полистирольнои фракции. Жм оЯгмсоставляет 9,1.15П р и м е р 5. К раствору гочополистирола,полученному аналогично примеру 1, добав.ляют 0,0004 г (0,01%) ОПГ, затем получаютпленку и облучают ее в соответствии с приме.,Млн 1 ором 1. о составляет 3,9.П р и м е р 6. К раствору гомополистирола, полученному аналогично примеру 1, до.бавляют 0,0004 г (0,01%) ГПЭ, затем получаютпленку и облучают ее в течение 100 ч в соотИЕ иеесеиии с примером 1.Ъ - о сосееилиее 7,5.М иеииИзменение характеристической вязкости(ф полистирола в процессе фотостаренияс различными сенсибилизирующими добавкамипредставлено в табл. 2.зр Из табл. 2 видно, что эффективность пред.лагаемых сенсибилизируюших добавок, оцениваемая отношением 1 г 1 гс, значительно пре 1 М компвышает эффективность известных сенсибилизирующих добавок.35Так, эффективность предлагаемых сенсибили.заторов при концентрации 0,01% соизмерима сэффективностью известных сенсибилизаторовпри концентрации 1-2%, т.е, в 100-200 раз бо 40 лее ВысокихПредлагаемые сенсибилизирующие добавкивыпускаются в опытно-промышленных масштабах на предприятиях, производящих полистирольные пластики и имеющих смесительное45оборудование,Незначительные количества применяемыхдобавок практически не меняют стоимостиполимеров, с учетом также и того, что изстандартных рецептур полистирола нри полу.чении фоторазрушиваемых композиций исклю.5 очается светостабилизатор.Применение композиции позволяет исклю-чить операции сбора и уничтожения отрабо.таиных упаковочных материалов нри использовании обычных нефоторазрушаемых компози.55ций. Это решает экологическую проблему охра.ны окружающей среды от загрязнения твердымиполимерными отходами,732323 ГПЭ, вес.% ОПГ, вес.% Полимер Удл и не ние,% Пол истирол 212 - 235 1,5 - 2,5 210 - 239 1,5 - 2,5 0,01 215 - 224 1,5 - 2,5 0,01 1,5 - 2,5 214 - 228 0,05 Пол истирол 208 - 235 1,5 - 2,5 0,05 Пол исти рол Сенсибилизатор Концен 1 р // пс е /г /ком енси или- атор рация,ес% Пол истиролбез добавк олисти ролдобав 3,5-Диметоксибензилбромид 2,3 3,16 Г 0,01 1,8,х 5,2 9,10-Дихл ор- метилантрацен Полистирол Г 1 олистирол Известная композиция 5 6,0 0 4,3 Табл).ца 1 Предел прови астипри разрыве, кгс/см Таблица 2 Предлагаемая композиция Кон (Мщ) )/жМ г ) /)/комп732323 99,95 - 99,99 0,01 - . 0,05 Составитель Л. ЧижиковаТехред Н.Б абурка Редактор Н. Шнльникова Корректор В. Бутяга Заказ 1537/5 Тираж 549ЦНИИПИ Государственного комитета СССРпо делам изобретений и открытий113035, Москва, Ж 35, Раушская наб д. 4/5 Подписное Филиал П 1 П Патент", г. Ужгород, ул, Проектная, 4 Формула изобретения Фоторазрушаемая полимерная композиция, включающая полистирол и сенсибилизирующую добавку, о т л и ч а ю щ а я с я тем, что, .с целью ускорения фоторазрушения композиции при сохранении исходных физико-механических свойств полимера, в качестве сенсибилизирующей добавки композиция содержит производное окиси пропилена, выбранное из группы, включающей о гидроксипропилат этилендиамина и олигомерный эфир окиси пропилена с глицерином при следующем соотношении компонентов, вес.%: ПолистиролПроизводное окиси пропиле наИсточники информации, принятые во внимание при экспертизе 1. Патент Франции ( 2121004,кл. С 08 Х 41/00, опублик. 1972. 2. Авторское свидетельство СССР У 510485,кл. С 0825/06, 1974.3. Заявка Франции Н 2265262,кл. С 08 1. 23/02, оцелик, 1975 (прототип),

Смотреть

Заявка

2533572, 09.09.1977

ПРЕДПРИЯТИЕ ПЯ В-2913

МОСИНА НАТАЛИЯ ВЛАДИМИРОВНА, НЕМОВА ТАТЬЯНА АЛЕКСЕЕВНА, КРАСЕВА СВЕТЛАНА ГЕОРГИЕВНА, ГАЛЬПЕРИН ВЛАДИМИР МАТВЕЕВИЧ, ЗЕЛЕНКОВА ТАМАРА НИКОЛАЕВНА

МПК / Метки

МПК: C08L 25/06

Метки: композиция, полимерная, фоторазрушаемая

Опубликовано: 05.05.1980

Код ссылки

<a href="https://patents.su/4-732323-fotorazrushaemaya-polimernaya-kompoziciya.html" target="_blank" rel="follow" title="База патентов СССР">Фоторазрушаемая полимерная композиция</a>

Похожие патенты