Блок пластинчатых полуматриц

СОЮЗ СОВЕТСКИХСОЦИАЛИСТИЧЕСКИХРЕСПУБЛИК А 9) 01 ш В 21015/ Кашелевскиикашовый институт тво СССР1965.09, кл. 72 тель 5/10 796(54) (57) 1. Б ЛУМАТРИЦ рированных и вок, содержа полуматриц в чающийся тем качества гофр ОСУДАРСТВЕННЫЙ КОМИТЕТ СССР О ДЕЛАМ ИЗОБРЕТЕНИЙ И ОТНРЫТ ОПИСАНИЕ ИЗОБР К АВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТВ(56) 1. Авторское свиде185327, кл, В 21 0 12. Патент США21957 (прототип),ЛОК ПЛАСТИНЧАТЫХ ПО- танка для изготовления гофделий из трубчатых заготощий механизм удержания сомкнутом состоянии, отличто, с целью повышения рованных изделий, механизм удержания полуматриц в сомкнутом состоянии выполнен в виде разъемного по горизонтальной плоскости корпуса с продольными направляющими, установленных на упомянутых направляющих П-образных скоб по числу полуматриц с толщиной, равной толщине ластинчатой полуматрицы, с прямоугольными пазами на концах полок, и ступенчатых выступов, выполненных на сторонах полуматриц, обращенных к скобам, нижние ступени которых установлены с возможностью размещения в пазах полок, а верхние - между полками,2. Блок пластинчатых полуматриц по и. 1, отличающийся тем, что верхняя часть корпуса механизма удержания полуматриц в сомкнутом положении установлена с возможностью перемещения в направлении, перпендикулярном направлению подачи.1Изобретение относится к обработке металлов давлением, в частности к оснастке для гидроформовки изделий с кольцевыми гофрами типа сильфонов, компенсаторов и др. и может быть использовано в отраслях народного хозяйства, изготовляющих гофрированные трубопроводы.Известно устройство для изготовления гофрированных изделий, имеющее разъемную и в вертикальной плоскости формующую головку, составленную по длине из формующих секций, смЕщаемых в осевом направлении и устанавливаемых на заданный шаг гофра, механизм зажима заготовки, механизм сближения гофров и уплотнительную штангу 11.Недостаток устройства заключается в том, что при складывании полуматриц в осевом направлении для получения гофров они движутся относительно оси заготовки с некоторым перекосом порядка,4; который вызывает силы трения, возникающие между опорными торцами полуматриц и внутренней стенкой корпусов полуматриц. Перекос полуматриц приводит к искажению геометрической формы гофра и его повреждению.Известен также блок пластинчатых полу матриц станка для изготовления гофрированных изделий из трубчатых заготовок, содержащий двухрычажный шарнирный механизм удержания полуматриц в сомкнутом состоянии 12.Однако двухрычажный шарнирный механизм не обеспечивает надежного удеркания полуматриц при наличии давления в трубе-заготовке, что отрицательно сказывается на качество гофров, в частности на геометрических параметрах.Целью изобретения является повышение качества гофрированных изделий.Для достижения поставленной цели в блоке пластинчатых полуматриц станка для изготовления гофрированных изделий из трубчатых заготовок, содержащем механизм удержания полуматриц в сомкнутом состоянии, последний выполнен в виде разъемного по горизонтальной плоскости корпуса с продольными направляющими, установленных на упомянутых направляющих П-образных скоб по числу полуматриц с толщиной, равной толщине пластинчатой полуматрицы, с прямоугольными пазами на концах полок, и ступенчатых выступов, выполненных на сторонах полуматриц, обращенных к скобам, нижние ступени которых установлены с возможностью размещения в пазах полок, а верхние - между полками.Верхняя часть корпуса механизма удержания полуматриц в сомкнутом положении установлена с возможностью перемещения в направлении, перпендикулярном направлению подачи. На фиг. 1 дана принципиальная схемастанка с блоком полуматриц; на фиг. 2 - сечение А - А на фиг, 1; на фиг. 3 - сечение Б - Б на фиг. 2; на фиг. 4 - скоба механизма удержания полуматриц в сомкнутом состоянии.Блок пластинчатых полуматриц содержит пластин чатые полуматрицы 1, установленные на штангах 2 разъемного корпуса 3 блока связанного с механизмом 4 10 смыкания, а также механизм удержанияполуматриц в сомкнутом положении, содержащий верхнюю 5 и нижнюю 6 части корпуса, установленные в них направляющие 7, размещенные на направляющих 7 П-образные скобы 8 с пазами 9, образованными полками скоб и пластинами 10, суммарная толщина скоб 8 и пластин 10 выполнена равной толщине полу- матриц. На сторонах полуматриц, обращенных к скобам выполнены ступенчатые выступы 11, толщина которых соответствует ширине пазов 9, а ширина двух верхних ступеней - расстоянию между полками.Полуматрицы 1 установлены в, корпусе 2 с гарантированным зазором.Верхняя часть 5 корпуса механизмаудержания полуматриц в сомкнутом положении связана с кареткой 12, служащей для ее отвода при замене полуматриц. Полуматрицы устанавливают вдоль оправки 13 с манжетами 14 и 15.Блок пластинчатых полуматриц работает следующйм образом.На оправку 13 надевают трубку-заготовку 16 и смыкают полуматрицы 1 посредством механизма 4. Перемещают части 5 и 6 корпуса механизма удержания полуматриц в сомкнутом положении со скобами 8 и фиксируют ими полуматрицы 1 одна относительно другой, при этом верхние ступени выступов 11 размещаются между полками, а нижние - между пластинами 1 О в пазах 9.4 Затем подают жидкость под давлениемв трубку-заготовку через оправку 13 и на участке, ограниченном манжетами 14 и 15, осуществляют раздачу трубы. После чего осаживают этот участок путем складыва ния полуматриц 1 и скоб 8 в осевом направлении. При этом полуматрицы сколь зят по штангам 2, не касаясь стенок корпуса 3 блока.После окончания гофрирования и сброса внутреннего давления части 5 и 6 корпуса механизма удержания полуматриц разводят освобождая полуматрицы, механизм 4 их разводит, что позволяет подать в зону гофрирования гладкий участок трубы-заготовки.При разведении полуматриц последниеостаются зафиксированными между пластинами 10, что позволяет осуществить их возврат в исходное положение.3При замене блока полуматриц верхняя часть 5 корпуса смешается кареткой 12 в поперечном направлении.Предлагаемый блок пластинчатых полу- матриц позволяет получать гофрированные 4изделия с повышенной точностью параметров гофров за счет исключения трения между ними и стенками корпуса блока и надежного удержания полуматриц при работе.1074623 г иг Составитель Л х Техред И. Верес Тираж 796 ВНИИПИ Государственного по делам изобретений 113035, Москва, Ж - 35, Рауш филиал ППП Патент, г, Ужгоркаченк Эрдейи комитета и открыт ская наб од, ул. П Редактор А. ЧерныЗаказ 190/10 КорректорПодписноеСССРнйд. 4/5роектная,