Устройство для контроля дефектов структуры

(22) Заявлено 13.06. 80 (21) 2944198/18-25 (513 М. КЛ.З с присоединением заявки Йо С 01 Х 21/88(23) Приоритет Государственный комитет СССР по делам изобретений и открытийОпубликовано 15,03.83.Бюллетень Йо 10 Дата опубликования описания 15,03.83 В.А. Лопухин, А,С. Гурылев, А.С. Шумилин, К,И, Лебедев, В.В. Дикушин и Н.И, Лабутин(54) УСТРОЙСТВО ДЛЯ КОНТРОЛЯ ДЕФЕКТОВ СТРУКТУРЫпр пе- дле Изобретение относится к приборостроению, в частности к устройствам для осуществления контроля, дефектов полупроводниковых структур.Известно устройство для контроля дефектов структур, содержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн.с закрепленными на нем микроскопом, блоком преобразо" вания изобретения структуры в электрический сигнал, блок управления, блок памяти, блок качания и экранный пульт 1.Недостатком этого устройства является большая избыточность анализируемой информации. При контроле дефектов структуры анализу подлежат лишь отдельяые участки ( например транзисторы), Те. участки, которые и визуальном анализе иэображения о раторомна экранном пульте,не по жат контролю, являются шумом и отвлекают оператора, снижая тем самым производительность и достоверность контроля. Наиболее близким по технической сущности к изобретению является устройство для контроля дефектов структуры, .содержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленными на нем микроскопом, блоком подсвета структуры и блоком преобразования иэображения структуры вэлектрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен.к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, а первые три выхода подключены соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу блока подсвета структуры и входу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, блокпамяти, вход которого подключен к5 четвертому выходу блока управления,а выход к второму входу блока упрЪвления, блок печати, вход которогоподключен к выходу блока управления, экранный пульт, первый вход ко 20 торого подключен к шестому выходублока управления и статическую маску. В этом устройстве с целью снижения уровня шумов применена статическая маска, нанесенная непос 25 редственно на контролируемую структуру ь 2,Недостатком известного устройства является необходимость выполнения операций по нанесению и снятиюстатической маски, что снижает про 100482910 35 20 25 30 ранного пульта 10. 45 50 5 изнодительность контроля, а также приводит к внесению дополнительных дефектов, что снижает достоверность контроля.Целью изобретения является повышение производительности и достоверности контроля,Цель достигается тем, что в известном устройстве, содержащем блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленными на нем микроскопом, блоком под света структуры и блоком преобразовь ния изображения структуры в электрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, а первые три выхода подключены соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу блока подсвета структуры и входу блока .преобразования изображения структуры н электрический сигнал, блок памяти, вход которого подключен к четвертому выходу блока управления, а выход - к второму входу блока уп равления, блок печати, вход которого подключен к пятому выходу блока управления, экранный пульт, первый вход которого подключен к шестому выходу блока управления, и статическую маску, статическая маска выполнена электронной, и в устройство дополнительно введен блок Формирования статической электронной маски, вход которого подключен к седьмому выходу блока управления, а выход к второму входу экранного пульта.Кроме того, дополнительно введен блок формирования динамической электронной Маски, вход которого подключен к восьмому выходу блока управ- ления, а выход - к третьему входу экранного пульта.,На чертеже предстанлено устройствоУстройство для контроля дефектов структуры содержит блок питания 1, устройство перемещения структуры 2, кронштейн 3, на котором закреплены микроскоп 4, блок подснета структуры 5 и блок преобразования изображения структуры в электрическии сигнал б, блок упранления 7, блок памяти 8, блок печати 9, экранныЯ пульт 10, и блок формирования статической электронной маски 11. Кроме того, в устройство может быть введен блок формирования динамической электронной маски 12.Устройство работает следующим образом.Висходном состоянии контролируемая структура закреплена в устройстве перемещения структуры 2. Блоком управления 7 включаются блок подсвета структуры 5, которыЯ обеспечинает подсвет необходимого участкаструктуры и блок преобразования изображения структуры в электрическийсигнал б. Изображение структуры через микроскопы 4 поступает на фо" точувствительную часть блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал 6, с блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал 6 электри . ческий сигнал поступает на блок управления 7. Блоком управления 7 обеспечивается отображение информации на экране экранного пульта 10.Оператор по изображению структуры на экранном пульте корректирует положение изображения на экране блоком управления 7 через устройство перемещения структуры 2 и регулирует само иэображение структуры на экране экранного пульта 10.Контроль дефектов структуры проводится по принципу "Есть" или "Нет" дефекты темные пятна) на транзисторах.Для уменьшения поля просмотра исоответственно уменьшения шума, поступающего с визуальной информацией сэкрана экранного пульта, на экранезатемняется поверхность структуры,на которой нет транзисторов.Это затемнение статическая электронная маска) обеспечивается блоком Формирования статической электронной маски 11, который,по команде с блока управления 7 Формирует ста.тическую т.е. не изменяющуюся в процессе контроля одного типа структур) электронную маску на экране экПросмотрев структуру, оператор необходимые данные записывает с блока управления 7 в блоке памяти 8 и производит замену контролируемой структуры с помощью устройства перемещения структуры 2, По окончании контроля всей совокупности структур оператор блоком упранления 7 передает информацию с блока памяти 8 о структурах в блок печати 9. При введении н устройство блока Формирования динамической маски устройство работает как описано вьиае вплоть до этапа формирования статической маски. После Формирования статической маски блоком управления 7 включа. ется блок Формирования динамической маски 12. В результате образуется динамическая электронная маска, образующая на экране окно, отрывающее изображение только одного транзистора. Оператор оценивает наличие либо отсутствие дефекта на данном участке н через блок управления 7 передает соответствующую информацию в блок памяти 8. После этого через блок управления на блок формирования1004829 30 Формула изобретения динамической электронной маски подается сигнал перемещения окна и окно перемещается на экране экранного пульта 10 к следующему участку структуры.Такой последовательный анализ контролируемой структуры позволяет получать дальнейшее повышение пройэводительности и достоверности .контроля вследствие того, что опера. тор имеет возможность сосредото читься на детальном контроле небольшого участка структуры и результат контроля сразу же запоминается.Таким образом, использование статической электронной маски на экранном пульте 10 обеспечивает повышение производител;ьности и достоверного анализа вследствие увеличения отношения сигнал/шум визуальной информации, а также вследствие отсутствия необходимоСти предварительной и последующей обработки структуры. Дальнейшее увеличение производительности и достоверности анализа дос тигается путем использования. динамической электронной маски, дополнительно увеличивающей отношение сигнал/шум, 1. Устройство для контроля дефектов структуры, сОдержащее блок питания, устройство перемещения структуры, кронштейн с закрепленны- З 5 ми на нем микроскопом, блоком подсвета структуры и блоком преобразования иэображения структуры в электрический сигнал, блок управления, первый вход которого подключен к выходу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, а первые три выхода подключены .соответственно к входу устройства перемещения структуры, входу бло ка подсвета структуры "и входу блока преобразования изображения структуры в электрический сигнал, блок памяти, вход которого подключен к четвертому выходу блока управления, а выход - к второму входу блока управления, блок печати, вход которого подключен к пятому выходу блока управления, экранный пульт, первый вход которого подключен к шестому выходу блока управления, и статическую маску, о т л и ч а - ю щ е е с я тем, что, с целью повышения производительности и достоверности контроля, статическая маска выполнена электронной, и в устроЯ- ство дополнительно введен блок фор" мирования статической электронной маски, вход которого подключен к седьмому выходу блока управления, а выход - к второму входу экранного пульта.2, Устройство по п, 1, о т л ич а ю щ е е с я тем, что в него дополнительно введен блок формирования динамической электронной маски, вход которого подключен к восьмому выходу блока управления, а выходк третьему входу экранного пульта. Источники информации,принятые во внимание при экспертизе1Патент ВеликобританииВ 1532901, кл. С 01 Н,21/00,опублик. 1979.2. Ясто 1 се Ю., На 11 опа И., ТЬбп Р1004829 Г,Решетник Тираж 871 НИИПИ Государственног по делам изобретений 035, Москва, Ж"35, РаПодписнокомитета СССРи открытийушская наб д.4/5 Филиал.ППП "Патентф, г. ужгород, ул. ПроектНая, 4 Составитель С. Бочинскийедактор Л. Повхан Техред А.Бабииец Корре