Способ очистки оборудования от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди

ОП ИСАНИЕ ИЗЬВРЕТЕН ИЯ Сфеэ СоветскихСоциалистическихРеспубпик 993806 К ПАТЕНТУ(31) 0168 Я (ЗЗ) СИА ло делан аееретейеткрытнйОпубликовано 30, О 1, 83, Бюллетень Эй 4 Дата опубликования описания 03.02.83(7) Заявитель 54) СПОСОБ ОЧИСТКИ ОБОРУДОВАНИЯ ОТ ОТЛОЖЕНИЙ, СОДЕРЖАЦИХ ГАЛОГЕНИД ОДНОВАЛЕНТНОЙ МЕДИ Изобретение относится к очистке теплообменных аппаратов, насадок колонок, фильтров и другого оборудования от отложений, содержащих гало 5 генид одновалентной меди, и может быть использовано для очистки оборудования в нефтеперерабатывающей и нефтехимческой отраслях промышленности.Известен способ очистки оборудова"ния от отложений., содержащих галогенид одновалентной меди, путем циркуляции в нем раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом раствоРителе при0-БО С 1.Однако известный способ длителен,дорог и недостаточно эффективен дляполного удаления осадочных отложе"ний, содержащих галогенид одновалент оной меди и образующихся на поверхнссти теплообменников, фильтров идругого. оборудования. Кроме того,известный способ предусматривает пол-.ное удаление очистного раствора из оборудования перед его эксплуатацией, так как содержащийся в нем хлористый алюминий является катализатором побочных реакций, мешающих протеканию основного процесса, созда" ет трудности по очистке и обеззараживанию сточных растворов.Цель изобретения - повышение эфФективности очистки оборудования,Поставленная цель достигается тем, что согласно способу очистки оборудования от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди, путем циркуляции в нем раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом растворителе при 0-50 С его дополнительно промыва" ют органическим растворителем при 10-70 С после циркуляции раствора на основе алюминийгалогенсодержащего соединения в органическом растворителе, а в качестве алюминийгало" генсодержащего соединения используют соединения общей Формулы А 1 КХ, 3 99380 бКЭЛ 1 ХХЭФ где К - алкил с содержаниематомов углерода 1-б, Х - хлор, бром,Фтор, взятые с избытком, равным10-1003 от стехиометрии.Осадочные отложения, содержащиев основном галогенид одновалентноймеди (хлорид или бромид меди), атакже небольшие количества неорганических, органических и металлоорганических соединений (СцА 1 Х 4 А 10 Х,А 10, олефиновых олигомеров и др.комплексов СцА 1 Х, где Х " галоген,обычно хлор или бром), удаляют сзагрязненной поверхности оборудова-,ния путем их диспергирования и растворения в алюминийгалогенсодержащем соединении в органическом растворителе.В качестве алюминийгалогенсодержащего соединения используют двухлористый метилалюминий, двубромистыйметилалюминий, двухлористый. этилалюминий, двубрбмистый этилалюминий,двуфтористый этилалюминий, двухлористый й-пропилалюминий, двубромистый 5изопропилалюминий, двухлористыйп-бутилалюминий, двуфтористый изобутилалюминий, двубромистый третичный бутилалюминий, двухлористыйп-гексилалюминий, полуторахлористыйметилалюминий, полуторахлористыйэтилалюминий, полуторабромистый этилалюминий, полуторахлористый .изопропилалюминий, полуторафтористый и-бутилалюмнний, полуторахлористый й-гексилалюминий и т.д.Лучшие результаты получают,.когда в качестве галида алкилалюминия используют двухлористый этилалюминий или двубромистыйэтилалюминий.В качестве органического раство-.4 Орителя используют бензол, толуол,ксилол, этилензол, пентан, гексан,гептан, пропилеи, пентен, гексен,циклогексен, циклооктен. Предпочтительно используют ароматические угле 45водороды - толуол и бензол,Очистку обычно. производят путемциркуляции очистного раствора прио0-50 С, предпочтительно при 20-ЙО Сф 50в течение времени, достаточного длядиспергирования и почти полного удаления отложений Количество очистного раствора должно быть, по крайнеймере, эквивалентно количеству галогенида одновалентной меди в отложении,в большинстве случаев это количество берут с избытком, равным 10-100. от стехиометрии. 4После удаления очистного раствора оборудование промывают органическим растворителем, лучше. всего толуолом или бензолом, при 10-70 С, предпочтительно при 20-10 С, для удаления диспергированных отложений и остатков очистного раствора. В случае необходимости перед возвращением в эксплуатацию оборудование сушат,По окончании очистки из очистно-.го раствора можно регенировать растворитель, медь, алюминий, а оставшийся раствор обычно сбрасывают, так как он не вызывает загрязнения окружающей.среды.Качество очистки оценивают по значениям характеристик теплопереноса и перепада давления в оборудовании по возвращении его в эксплуатацию,П р и м е р 1., Теплообменник, загрязненный осадочными отложениями, образовавшимися в процессе удаления окиси углерода из потока газа с помощью жидкого сорбента.(тетрагалогенида алюминия, содержащего одновалентную .медь в толуоле), очищают следующим образом: удаляют из теплообменника жидкий сорбент промывают его толуолом для удаления остатков жидкого сорбента, а затем осуществляют циркуляцию по трубам теплообменника 254 раствора двухлористого этилалюминия в толуоле в течение часа, после чего раствор сливают, а теплообменник промывают толуолом при температуре окружающей среды для удаления отложений.П р и м е р 2. Фильтр, содержащий ЗбФ хлорида одновалентной меди, очищают почти полностью путем промывки его 50 мл 254 раствора дихлорида этилалюминия в толуоле при температуре окружающей среды за одно фильтрование.Использование изобретения позволяет повысить эффективность очистки оборудования от отложений, содержащих галогенид одновалентной меди, путем более полного удаления отложений, сократить длительность очистки и уменьшить ее стоимость, а также обеспечивает охрану окружающей Среды от загрязнения отработанными растворами.формула изобретенияСпособ очистки оборудования от отчФложении, содержащих галогенид одно 1