Раствор для химического полирования меди и ее сплавов

Номер патента: 1330209

Опубликовано: 15.08.1987

Авторы: Бинкене, Венгрис, Чейка

МПК: C23F 3/06

Метки: меди, полирования, раствор, сплавов, химического

...сернойкислоте, При концентрации добавокТФЭ и ТФП менее 0,1 г/л наблюдаетсяослабление положительного действия,при концентрации более 3 г/л степеньположительного действия не повышается,Раствор для полирования готовятследующим образом.К объему воды, составляющему0,5 объема приготавливаемого раствора, добавляют необходимое количествокислоты, спирта и перекиси водорода,тщательно перемешивают, затем добавляют ПАВ и ТФЭ или ТФП, разбавляютводой до нужного объема и перемешива ют.Составы растворов химическогополирования, условия проведения обработки и данные эФфективности представлены в таблице,ЗэПолированию подвергали пластинкииз меди М 1, латуни Л 68 и сплава МНЦ(нейзильбер). Образцы обеэжиривали вобычном щелочном растворе,. После полирования...

Номер патента: 464343

Опубликовано: 25.03.1975

Авторы: Анисимова, Бронин

МПК: B08B 3/10

Метки: меди, сплавов, среда, ультразвуковой

...калиевый (технический) 0,25 -ВодаьПри обрве л к рых марок и ачественной ие Й ОБРАБОТКИ ДЕТАЛЕЙПЛАВОВ ления меди, цинка или олова, входящих в состав латуней или бронз. В результате на поверхности деталей после обработки появляются точки вытравливания цинка или меди, что приводит к снижению класса чистоты поверхности. Кроме того, время обработки в известной среде составляет до 20 мин.Предлагаемый способ позволяет сохранить класс чистоты поверхности деталей и сократить время обработки. Для этого детали из меди и ее сплавов обрабатывают в среде следующего состава, вес. %;Хромовый ангидрид 18 - 20Кислота сернаяКислота ортофосфорная В зависимости от величины заусда разбавляется водой в соотношендо 1: 8. Среда составлена так,...

Номер патента: 1203127

Опубликовано: 07.01.1986

Авторы: Брунов, Китаев, Сосницкий, Чуракова

МПК: C23G 1/14

Метки: меди, поверхности, раствор

...меди имеется навсех участках рисунка печатной схе"мы,П р и и е р 8, Заготовки печатных плат со сформированными проводниками обрабатывают в растворе,содержащем, моль/л МаОН 1 р 0 у СНО1,2; КМаТаг 1 0,22, в течение 3 мини без промывки опускают в растворТХМ. После осаждения покрытия необходимой толщины платы вытаскиваютиз раствора и подвергают внешнемуосмотру с помощью микроскопа МБС при 25-50-кратном увеличении. Покрытие меди имеется на всех участках рисунка печатной схемы.П р и м е р 9. Заготовки печатных плат, имеющие частичные непрокрытия проводников рисунка схемы,обрабатывают в растворе, содержащем, моль/л: БаОН 1,0; СНО 1,0:трилон Б 0,2, в течение 3 мин, затемопускают в раствор ТХМ. После осаждения меди необходимой толщины платы...

Номер патента: 454281

Опубликовано: 25.12.1974

Авторы: Горбунов, Медко, Мудрова

МПК: C23C 9/02

Метки: диффузионного, меди, состав, сплавов, титанирования

...соотношении компонентов, %: 10Ферротитан 60 75Фтористый натрий 3 - 5Фтористый или хлористыйцинк 10 - 15Плавиковый шпат Остальное 15Присутствие в реакционной смеси фторидов (или хлоридов) цинка и ферротитана способствует образованию эвтектики Хп+Ре 5 с с температурой плавления 417 С, происходит образование жидкой фазы, окружающей в 20 виде оболочки поверхность детали и увеличивающей скорость диффузии титана и железа. Это позволяет снизить температуру диффузионного насыщения и интенсифицировать процесс. 25Для диф насыщения образцы загружают засыпают предложенттой реакци сью и после герметизации загружают в печь и нагревают до 400 - 700 С и течение 4 - 7 час. После диффузионного насыщения на поверхности образцов образуется плотное...

Номер патента: 650766

Опубликовано: 05.03.1979

Авторы: Давыдов, Камкин, Кащеев

МПК: B23P 1/16

Метки: вольфрама, медью, размерной, сплавов, электрохимической, элетролит

...В концентрацией менее 3 качество поверхностине изменяется по сравнению с электрохимической обработкой в отсутствиеэтой добавки, Увеличение содержаниятрилона В свыше 8 не улучшает качества поверхности, но при этом избыток добавки трилона В выпадает восадок.Таким образом, сущность предлагаемого изобретения состоит в сочетании в электролите трех составных 60частей: основы, щелочного растворадостаточной концентрации, комплексообразователя, обеспечивающего высокую скорость анодного растворениясплава вольфрам-медь, и выравнивателя, обусловливающего получение высокого качества поверхности.П р и м е р 1. Производилось электрохимическое травление анода, выполненного в виде вращающегося диска из сплава вольфрам-медь с содержанием вольфрама 70....