Способ свч-обработки диэлектрических материалов

ИСАНИЕ ИЗОБРЕТЕНИ ССР 87. НО мо ессорное устройствоет толщины обрабатпо формуле- агсй (1 188 о Г ГОСУДЛРСТВГННЫЙ КОМИТЕТПО ИЗОЬРЕТЕНИЯМ И ОТКРЫТИЯМПРИ 1 КНТ СССР ВТОРСКОМУ СВИДЕТЕЛЬСТ(71)Московский институт инженеров сельскохозяйственного производства им. В. П. Горячкина(56) Авторское свидетельство СМ 1416068. кл. А 01 В 47/00, 19Патент США М 4492839, кл. 5 В 9/06, 1986.(54) СПОСОБ СВЧ-ОБРАБОТКИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ МАТЕРИАЛОВ Изобретение относится к электротехнике, предназначено для обработки диэлектрических материалов электромагнитным полем СВЧ и может быть использовано в СВЧ-установках сельскохозяйственного и промышленного назначения.Цель изобретения - повышение коэффициента полезного действия,На чертеже изображено устройство для реализации способа.Устройство содержит источник 1 электромагнитных колебаний, который соединен с камерой 2, Через камеру 2 проходит конвейерная лента 3, под которой находится экран 4, параллельный ленте 3. Камера 2 на входе и выходе снабжена устройствами загрузки 5 и выгрузки 6.Привод 7 экрана 4 снабжен датчиком 8 перемещения и имеется датчик 9 коэффициента отражения, Выходы двух датчиков 8 и 9 подключены к мультиплексору 10, при этом его выход через аналого-цифровой(57) Изобретение относится к электротехнике, Цель изобретения - повышение коэффициента полезного действия. При СВЧ-обработке диэлектрического материала, проходящего на конвейерной ленте под излучателем, контролируют и поддерживают на заданном уровне толщину слоя материала, под лентой устанавливают экран, а у излучателя - датчик суммарного коэффициента отражения и. перемещая экран в зоне заданного расстояния от ленты. поддерживают суммарный коэффициент отражения минимальным. 1 ил. преобразователь 11 подключен к микропроцессорному устройству 12, один выход которого подключен к загрузочному устройству 5, а второй - к приводу 7 экрана 4,В микропроцессорное устройство 12 при помощи клавиатуры 13 вводится код обрабатываемого материала, которому соответствуют значения его электропроводимости о и действительной части диэлектрической проницаемости О, Эти данные содержатся в памяти микропроцессорного устройства 12 и могут быть взяты из справочника,Способ осуществляется следующи бразом.Микропроц 12 осуществляет расч ываемого материала 11(г -2 Я 25 и подает управляющий сигнал нд ус ройство загрузки 5 для поддержания заданной тол гцин ы обрабатываемого мате риал д,Толщина конвейерной ленты 1 г выполненной из диэлектрика выбирается из соот- ногпения где Л - длина волны излучения в воздушной среде, м;И - действительная часть диэлектрической проницаемости материала ленты.1".ссгояние (з между конвейерной лен-, 3 и экраном 1 устдндвливается цо соотцшанию Я 1= -- дгсЯ ( 2,.г - , )Ю 19( " 1 ) Б процессе работы датчик 9 контролируе суммарный отраженный сигнал и с помощью привода 7 путем перемещения экрана поддерживается минимум суммарного коэффициента отражения,Б кдчес Гве примера конкретной редли здции способа предлагается случай СБЧ- обработки тепличного грунта на СВ(-усздновка с длиной электромагнитной волны излучения Я= 0,126 м. Проводимость тепличного грунта и=. 1 10 см, действиельндя часть диэлектрической проницаемости грунта О= 2,0, Материал конвейерной ленты фтороплдст (ег= 2,6).Г гаком случае тепличный грунт, высоой слоя 1(=0,51 м, подают на конвейерной ленте, толгцина которой 0,039 м, цод излучатель и воздействует на него электромагнит-ым полем СБЧ Расстояние между лентой и электромагнитным экраном поддерживается рдвным 0,13 м.По маре нагрева поступающего в камеру 2 грунта его диэлектрические харакгеристики меняются, в частности действительная час ь диалект рической проницаелосги, Б результате меняется коэффициент отражения - он уходиг от настроенчого минимума и все больше энергии возвращается в источник 1 электромагнитных колебаний, увеличиваются потери электрическойл энергии и повышается его температура,Применяемое микропроцессорное устройство вданном случаеслужитдля предотвращения описанной ситуации и по указанному алгоритму позволяет добиться максимальной энергопередачи от источника 1 электромагнитных колебаний к грунту.5 устройство за счет уменьшения отраженной части энергии электромагнитных колебаний снижает энергоемкость процесса. Благодаря наличию микропроцессорного блока расширяется диапазон 10 обрабатываемых материалов. Формула изобретения Способ СВЧ-обработки диэлектрических материалов, при котором материал 15 подают на конвейерной ленте под излучатель СВЧ, воздействуют на него электромагнитным полем и контролируют толщину слоя обрабатываемого материала, отличающийся тем,что,сцелью 20 повышения коэффициента полезного действия, толщину конвейерной ленты, выполненной из диэлектрика, выбирают по формуле где 1 г - толщина конвейерной ленты, м;1; длина электромагнитной волны излу чения (в воздушной среде), м;гг - действительная часть диэлектрической проницаемости конвейерной ленты; толщину слоя обрабатываемого материала поддерживают равной35 где - толгцинд слоя обрабатываемого материала, м;ц- проводимость обрабатываемого материала, см;г - действительная часть диэлектрической проницаемости обрабатываемого ма,лстериала,под лентой устанавливают регулируемый электромагнитный экран на расстоянии, от нее, равном (з 50 1(з = 2 дгст 9( 2)к тд ( в г в - 1 ) в процессе обработки материала контролируют суммарный коэффициент отражения иподдерживают его минимум перемещениемэлектромагнитного экрдна,1669087Составитель О.Турпак Редактор С,Патрушева Техред М,Моргентал Корректор Н.Король Заказ 2660 Тираж 477 Подписное ВНИИПИ Государственного комитета по изобретениям и открытиям при ГКНТ СССР113035, Москва, Ж, Раушская наб 4/5Производственно-издательский комбинат "Патент", г, Ужгород, ул.Гагарина, 101